JPS6325247A

JPS6325247A - 封着用ガラス

Info

Publication number: JPS6325247A
Application number: JP16834286A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Mizuno; 水野　康男; Atsushi Nishino; 敦西野; Masaki Ikeda; 正樹池田; Shinji Kurio; 栗尾　晋治
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1986-07-17
Filing date: 1986-07-17
Publication date: 1988-02-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明はガラス、セラミックス、金属等の接着に用いる
封着用ガラスに関するものである。

従来の技術被封着体の接着部を低融点のガラスで結合する方法は古
くから管球、ＣＲＴチェープ等において用いられてきた
が、近年エレクトロニクスの発達により、シリコン半導
体、ＩＣなどの接着やパッケージ用、液晶ディスプレイ
用セル組立、磁気へ、ドギャップ用等に、その用途を広
げつつある。

以下では従来技術を詳細に説明する例として、磁気へラ
ドギャップ用封着ガラスをとり挙げて説明する。第１図
はＶＴＲに用いられる磁気ヘッドの代表的な製造工程、
第２図は得られたヘッドの例を示している。

フェライトインゴットから材料取り（ａ）　ｅ行ない、
これを外形研削（′ｂ）によって適当な大きさとする。

次に補強ガラス用の溝入れ（Ｃ）　’に行ない、この溝
にガラスをモールド後ギャップ面を研摩（ｄ）する。次
にギャップガラスをスパッタした後、接着、ギャップ形
成（ｅ）を行なう。次にこれをチップに切断（ｆ′ｌし
、さらに側面研摩（ｇ）によって適当な大きさとする。

次に。チップをベース接着（ｈ）した後、テープ走行面
を研摩（ｉ）Ｌ、巻線ｄ）シてヘッドを完成する。

従来２分の１インチのＶＴＲヘッドとしてはフェライト
が最も広く用いられているが、飽和磁束密度が低いため
、近年登場してきた８ミリビデオ等の高密度記録に使用
し穴場台、ヘッドコア材料の磁気飽和が問題となり対応
できない。このためフェライトに替わるヘッド素材とし
てセンダストやアモルファスが注目されている。しかし
ながら、センダストは加工性が乏しいためヘッドとして
の加工歩留りが悪い。そこで磁気特性、加工性に優れた
アモルファス素材が脚光を浴びてきている。

アモルファス素材を用いたヘッドは第１図の工程（ｂ）
ト（Ｃ）ノ間でアモルファスをスパッタする工ａｔ−有
し、第３図２の部分にアモルファス素材を有する。

ところがアモルファス素材には素材自体結晶化温度（以
下Ｔｘ　　と称す）があり、ヘッド組立時にＴｘ以上の
封着温度になると結晶化して脆くなると同時に、磁気特
性が劣化して、磁性材料として使用できなくなる。それ
ゆえ通常６００°Ｃ以下で封着されることが望ましい。

このような低温で作業出来る封着用ガラスとして特公昭
３０−４７２８号公報には軟化点３６１〜３９３°Ｃの
鉛系ガラスが記載されているが、その成分にＺｎＯを多
量に含んでおり、アモルファス素材と反応しやすく、ギ
ャップ長が小さいヘッドでは、高精度のギャップを維持
することは困難であり次。

また特開昭５１−３３１１２号公報には屈伏点３００〜
３１１℃、特開昭５７−５５６２８号公報には軟化点３
００〜３２５°Ｃの鉛系ガラスが記載されているが、い
ずれも低融化のためにＰｂＦ２゜を用いており、ギャッ
プ用ガラスとして用いた場合、ガラス中に気泡、曇りを
生じ、記録信号の減磁や、テープキズの発生の原因とな
った。

さらに特開昭５２−１０８４１４号公報には軟化点３９
９°Ｃの鉛系ガラスが記載されているが、Ｃｏｏを１〜
６ｗｔ％含んでいるため、ガラスが濃く着色してギャッ
プの深さく第３図６）を規定の深さに調整出来ないとい
った問題点を有していた。

また一般にこれら鉛系ガラスは強度が乏しく、このため
第」図の工程（０において、切断刃により補強ガラス（
第２図４）に亀裂が゛生じ、ヘッドが割れるといった不
良が多いものであった。

以上の従来例を考慮に入れると、アモルファス磁性体を
用いたビデオヘッド用ガラスに要求される性能として、
０５００°Ｃ以下の作業温度で流動しうろこと、■アモ
ルファス素材およびフェライト基材といったヘッド材料
と反応しないこと、■ガラス中に気泡や曇りがなく、ガ
ラスが濃く着色せず透明であること、■切断工程中に割
れないだけの強度を有すること、■化学的耐久性に優れ
ることが挙げられる。

発明が解決しようとする問題点本発明は上記問題点を解決するため、アモルファス素材
と反応し難く、ガラス中に気泡の発生のない、透明性お
よび強度に優れた封着用ガラスを提供するものである。

間頂点を解決するための手段゛　　本発明はガラス組成として、少なくとも、重量百
分率で、Ｓｉｏ２　・・・・・・２〜８．６％、Ｂ２０
．・・・・・・４〜１６チ、ＰｂＯ”・”’　４４．５
〜８１．５％、ＺｎＯ−・・−・１〜７％、ム７１２０
３・・・・・・１〜６％、ＣｄＯ・・・・・・３〜１５
チ、Ｔ４□０・・・・・・３〜３５チ、ＭＯｘ（Ｃｏｏ
　、　Ｎｂ２Ｏ５゜ＺｒＯ２，Ｔａ２０５から選ばれる
少なくとも１つを示す）・・・・・・０．６〜１チを含
むことを特徴とする。

作用本発明の封着ガラスは気泡発生が少なく、強度の大きい
ものであり、高密度記録用磁気ヘッドに最適である。

実施例本発明の一実施例の封着用ガラスについて第２図および
第３図を用いて説明する。図はヘッドの構造を示すもの
であり、１はフェライト基材、２は原子チで８２　Ｃｏ
　１２　Ｎｂ　４　Ｚｒ　２　Ｔａの組成を持つアモル
ファス素材、３はギャップガラス、４は補強ガラス、５
は巻線用窓、６はギャップの深さ、７はコイルを示して
いる。３と４は同一組成のガラスでも良いし、また３を
ＳｉＯ２単独または５１０２と４と同一組成のガラスの
積層としても良い。表の煮１〜１６には本発明のガラス
の組成および特性を示す。第１図の工程（ｄ）　、　（
６）におけるモールド及び接着はＮ２雰囲気中で４８０
°Ｃ１３０分の条件で行なった。表から判るように、本
発明の封着用ガラスは、基材に適した熱膨張係数（９０
〜１０５）ｘｌｏ−’／”Ｃｆ有し、作業温度はいずれ
も４８０°Ｃであるため、アモルファス素材及びフェラ
イト基材に与える影響がない。ガラスの流動性は優れて
おり、ガラス中の気泡、曇りもなく、透明性も優れてい
た。また切断によるヘッドの割れも９〜１６％の発生率
で低いものであった。

一方、Ｔｌ２Ｏ４たはＣｄＯを含まないガラスを用いた
場合（表Ａ　Ｉ　７　、１８　）には、両方を含む場合
（同表点１６）に比べ、切断による割れは４１〜５２％
発生し、このことからＴｌ２ＯとＣｄＯの両方を含むこ
とが重要であることが判明した。

さらにＣｄＯ、ＴＩ　ＯおよびＭＯｘを含有しない従来
組成のガラス（表Ａ１９）’ｉ用いた場合、ヘッド割れ
が８１チと高く、実用に不適となりた。

また表ＯＡ　２０〜２６のようにＳｉｎ□、　ＺｎＯ。

ム１２０．　、　ＭＯｘ　　のいずれかの組成が過不足
の場合、流動性が乏しかったり、ガラスの透明性不良な
どにより、いずれも実用に不適となった。

また表の煮２７では原料の一部にＰｂＦ　　を用いまた組成のものについて結果を示したが、ガラス中の気泡
、曇りの発生、透明性不足のため不適となった。

さらに表の屋２８〜３６ではこれまで特許に公開された
ものについての結果を示すが、ヘッド材料との反応、ガ
ラス中の気泡、曇りの発生、ガラスの透明性不良、ヘッ
ド割れの多量発生等により、実用に不適と判断した。

ＳｉＯ□は、８．５％を超えると熱膨張係数が小さくな
り、ガラスの軟化点が高くなりすぎるため好ましくなく
、２チより少ないとガラスの化学安定性に問題がある。

Ｂ２０．は１６％を超えると化学的耐久性を欠き、４チ
より少ないとガラスの軟化点が高くなる。ｐｂｏは４４
．ｓ％より少ないと軟化点が高くなりすぎ、５ｏＯ°Ｃ
以下の作業温度での封着が不可能となる。また８１．５
チを超えるとガラスが不安定になる。ＺｎＯ通常のガラ
ス工業では化学的耐久性向上のため含有される場合が多
いが、６％を超えるとガラスが失透しやすくなりて好ま
しくない。λ１２０ｓもＺｎＯと同様、化学的耐久性向
上のため添加されるが、５％を超えるとガラスの軟化点
が高くなりすぎ、６ｏｏ″Ｃ以下の作業温度では流動し
ない。

ＣｄＯ、Ｔｌ２Ｏは３％より少ないとガラスの強度が低
下し、それぞれ１５チ又は３６％を超えると熱膨張係数
が大きくなりすぎる。ＭＯｘ（Ｃｏｏ　。

Ｎｂ２Ｏ５，ｚｒＯ□、Ｔａ２０５カら選ばれる少なく
とも１つを示す）はアモルファス磁性体の一成分であり
、これらは結合補強剤の役目を果たすが、１チより多い
とガラスの着色又は結晶化により透明性を悪くする。

以上の必須成分以外に、ガラスを低軟化点化する成分と
して、Ｂｉ２Ｏ３やアルカリ酸化物を含有さセタリ、清
澄剤１！：　ＬテＡｓ２Ｏ，や５ｂ２０３ヲｏ、５〜１
％含有させても良い。また失透しない範囲で少量の金属
酸化物を含有させても良い。また本発明のガラスは、従
来のフェライト素材のみからなるヘッドにも適用可能で
あるとは言うまでもない。

なお以上の説明においては被封着体が磁気ヘッド基材の
場合について詳述したが、熱膨張係数の近接する金属（
例えば白金、チタン、クロム鉄合金等）あるいはガラス
（ソーダ石灰ガラス、鉛カリガラス等）の接着や、ＣＲ
Ｔチー−プの封着。

ハーメチックシール等にも適用可能であることは言うま
でもない。

（以下　余　白）発明の効果以上のように本発明の封着用ガラスは気泡の発生が少な
く、透明性が高く、強度に優ｆｌｉものであり、磁気ヘ
ッド等に適用した場合、製造歩留りが向上し、また使用
時の破損を少なくできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の封着用ガラスを用いるＶＴ
Ｒ用磁気ヘッドの代表的な製造工程図、第２図および第
３図は同ヘッドの構造図である。代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第　
１（！１Ｍｎ−Ｅｒｒ）をライトイシゴ一、トＣ（Ｌ’）　　材刺月疋’）　　　　　（ｂ）％Ｍｕｊ
Ｃ’Ｊ　　　　（Ｃ）　　；１１入ｋ（ハ）へ・−ラく
９ε閤暖　　　　　（シ）づトーフプセｊ〒をへｏ９ν
Ｖ幣筐　　　ｒｊ）　書ミ４ε１ミ第２図手続補正書。昭和６２年７　月７７日

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ガラス中にアモルファス磁性体の構成成分のうち
ＭＯ＿ｘとしてＣｏＯ、Ｎｂ＿２Ｏ＿５、ＺｒＯ＿２、
Ｔａ＿２Ｏ＿５から選ばれる少なくとも１つを０．５〜
１重量％含有することを特徴とする封着用ガラス。
（２）重量百分率で少なくともＳｉＯ＿２……２〜８．
５％、Ｂ＿２Ｏ＿３……４〜１６％、ＰｂＯ……４４．
５〜８１．５％、ＺｎＯ……１〜７％、Ａｌ＿２Ｏ＿３
……１〜５％、ＣｄＯ……３〜１５％、Ｔｌ＿２Ｏ……
３〜３５％、ＭＯ＿ｘ……０．５〜１％を含有すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の封着用ガラス
。