JPS62101033A - 回転揺動エツチング装置 - Google Patents
回転揺動エツチング装置Info
- Publication number
- JPS62101033A JPS62101033A JP24235785A JP24235785A JPS62101033A JP S62101033 A JPS62101033 A JP S62101033A JP 24235785 A JP24235785 A JP 24235785A JP 24235785 A JP24235785 A JP 24235785A JP S62101033 A JPS62101033 A JP S62101033A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- cam body
- wafers
- etching
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、キャリアにセットされた円板形状の半導体ウ
ェファ（以下単にウェファという）を回転揺動しながら
エツチング処理する装置に関する。
ェファ（以下単にウェファという）を回転揺動しながら
エツチング処理する装置に関する。
従来キャリアに並べて立てかけられているウェファをウ
ェファの中心を軸として回転させながら湿式エツチング
する装置が知られていた。又キャリア自体を上下に揺動
させて湿式エツチングをする装置も知られていた。
ェファの中心を軸として回転させながら湿式エツチング
する装置が知られていた。又キャリア自体を上下に揺動
させて湿式エツチングをする装置も知られていた。
しかしながら従来のエツチング装置はウェファの回転又
は揺動の一方しか行わないので、ウェファ表面に万遍な
く新鮮なエツチング液を接触させることができず、エツ
チングむらやエツチング速度の低下と言う問題点があっ
た。
は揺動の一方しか行わないので、ウェファ表面に万遍な
く新鮮なエツチング液を接触させることができず、エツ
チングむらやエツチング速度の低下と言う問題点があっ
た。
本発明は上記の問題点を解決することを目的とする。そ
のためにウェファの回転揺動を同時に行うエツチング装
置の構成を得た。すなわちウエファヲ複数枚並べて立か
けるための室内溝と脚部と穴の空いた底部を有するキャ
リアを用意し、工、７チング液の満されている槽内のキ
ャリアガイドにキャリアの脚部をセットし、キャリアの
底部から露出しているウェファの円周端面に係合するカ
ム体をモータで回転させ、ウェファをウェファの中心軸
の回りに回転させるとともにウェファを上下に揺動させ
ながらエツチング浸漬処理を行う装置構成とした。
のためにウェファの回転揺動を同時に行うエツチング装
置の構成を得た。すなわちウエファヲ複数枚並べて立か
けるための室内溝と脚部と穴の空いた底部を有するキャ
リアを用意し、工、７チング液の満されている槽内のキ
ャリアガイドにキャリアの脚部をセットし、キャリアの
底部から露出しているウェファの円周端面に係合するカ
ム体をモータで回転させ、ウェファをウェファの中心軸
の回りに回転させるとともにウェファを上下に揺動させ
ながらエツチング浸漬処理を行う装置構成とした。
以下本発明の好適な実施例を図面に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は回転揺動エツチング装置の縦断面図である。■
はウェファ２を複数枚並べて（紙面に垂直方向に並べる
）立てかけセットするためのキャリアである。エツチン
グ液により侵されないように耐薬品性の材料例えばテフ
ロンでできている。
はウェファ２を複数枚並べて（紙面に垂直方向に並べる
）立てかけセットするためのキャリアである。エツチン
グ液により侵されないように耐薬品性の材料例えばテフ
ロンでできている。
キャリア両側面部にはウェファ案内溝（図示せず）が設
けられており、ウェファを並列立てかける。
けられており、ウェファを並列立てかける。
３はキャリアの脚部である。４はキャリアの底部であっ
て一部切り欠かれておりウェファ下部が露出している。
て一部切り欠かれておりウェファ下部が露出している。
５は槽であってエンチング液６が満されている。エツチ
ング液６はフォトレジス１−フィルムで覆われたシリコ
ンウェファをエツチングするため例えば硝酸とフッ酸の
混合水溶液が用いられるがこれに限られない。７は槽５
の底部に設けられたベースである。ベース７上にはキャ
リアを所定位置にセットするためのキャリアガイド８が
載置されている。キャリアガイド８の溝部にキャリア１
の脚部３が係合する。９はカム体であって軸１０を中心
としてモータ（図示せず）により低速回転される。カム
体９はキャリア１の底部４から露出しているウェファ２
の円周端面部に係合している。カム体９の断面形状は対
向する円弧１１と円弧１１を挟む平行線１２よりなって
いる。
ング液６はフォトレジス１−フィルムで覆われたシリコ
ンウェファをエツチングするため例えば硝酸とフッ酸の
混合水溶液が用いられるがこれに限られない。７は槽５
の底部に設けられたベースである。ベース７上にはキャ
リアを所定位置にセットするためのキャリアガイド８が
載置されている。キャリアガイド８の溝部にキャリア１
の脚部３が係合する。９はカム体であって軸１０を中心
としてモータ（図示せず）により低速回転される。カム
体９はキャリア１の底部４から露出しているウェファ２
の円周端面部に係合している。カム体９の断面形状は対
向する円弧１１と円弧１１を挟む平行線１２よりなって
いる。
円弧間距離は平行線間距離より大きい。しかも円弧上に
はスベリ留めの凹凸が設けられている。従ってカム体９
を軸１０を中心として回転させると円弧部分１１でウェ
ファ２を回転させ、軸１０から円弧１１への距離及び軸
１０から平行線１２への距離の長短にしたがってウェフ
ァ２は上下に揺動する。しかしてウェファ２の回転及び
揺動が同時に実行される。
はスベリ留めの凹凸が設けられている。従ってカム体９
を軸１０を中心として回転させると円弧部分１１でウェ
ファ２を回転させ、軸１０から円弧１１への距離及び軸
１０から平行線１２への距離の長短にしたがってウェフ
ァ２は上下に揺動する。しかしてウェファ２の回転及び
揺動が同時に実行される。
第２図は回転揺動エツチング装置の平面図である。まだ
キャリアがセットされていない状態を示す。槽５の底部
にベース７が設けられている。ベース７の上にはキャリ
ア位置決めセント用のキャリアガイド８が載置されてい
る。２個のキャリアガイド８の中間部分にカム体９が配
置されている。
キャリアがセットされていない状態を示す。槽５の底部
にベース７が設けられている。ベース７の上にはキャリ
ア位置決めセント用のキャリアガイド８が載置されてい
る。２個のキャリアガイド８の中間部分にカム体９が配
置されている。
カム体９と一体に形成された軸ＩＯの両端はベース７上
に載置された軸受１３によって保持されている。軸１０
の延長端は槽５の外部に設けられたモータ１４の回転軸
に接続されている。なおベース７の中央部にはカム体９
の円弧部を逃すため穴１５が設けられている。
に載置された軸受１３によって保持されている。軸１０
の延長端は槽５の外部に設けられたモータ１４の回転軸
に接続されている。なおベース７の中央部にはカム体９
の円弧部を逃すため穴１５が設けられている。
第３図はカム体９の一実施例を示す図である。
本実施例は一例にすぎず、ウェファを回転揺動する機能
があればいかなる形状でも良い。第３図（Ａ）は断面図
であり第３図（Ｂ）は正面図である。
があればいかなる形状でも良い。第３図（Ａ）は断面図
であり第３図（Ｂ）は正面図である。
カム体は対向する湾曲面１１と、湾曲面１１を挟む平行
平面゛１２によって囲まれた柱状をなし、柱の中心軸に
添って軸１０が失態的に形成されている。軸ＩＯから湾
曲面１１への距離は軸１０から平面１２への距離より大
きい。この距離の違いによってウェファの揺動運動がも
たらされる。又湾曲面１１の表面にはヤスリ状の凹凸１
６が設けられており、これによりウェファ端面と係合し
ウェファを回転させる。
平面゛１２によって囲まれた柱状をなし、柱の中心軸に
添って軸１０が失態的に形成されている。軸ＩＯから湾
曲面１１への距離は軸１０から平面１２への距離より大
きい。この距離の違いによってウェファの揺動運動がも
たらされる。又湾曲面１１の表面にはヤスリ状の凹凸１
６が設けられており、これによりウェファ端面と係合し
ウェファを回転させる。
第４図は本発明に用いられるキャリア１の一実施例を示
す斜視図である。１７はウェファを並列し立てかけるた
めの案内溝である。案内溝はウェファの左右両側端部を
スキ間を残しつつ保持するのみであるから、ウェファは
外力により自由に揺動回転可能でる。
す斜視図である。１７はウェファを並列し立てかけるた
めの案内溝である。案内溝はウェファの左右両側端部を
スキ間を残しつつ保持するのみであるから、ウェファは
外力により自由に揺動回転可能でる。
本発明はウェファを複数枚並べて立力？けたキャリアを
エツチング液に浸漬し、キャリアの底部に露出したウェ
ファ端面部にカム体を係合させカム体を回転させて、ウ
ェファを回転揺動させる構造となっている。この結果エ
ツチング液がウェファ表面に良く循環するようになりエ
ツチングムラが防げるという効果がある。又効率よくエ
ツチングできるのでエツチング時間が短くなるという効
果がある。
エツチング液に浸漬し、キャリアの底部に露出したウェ
ファ端面部にカム体を係合させカム体を回転させて、ウ
ェファを回転揺動させる構造となっている。この結果エ
ツチング液がウェファ表面に良く循環するようになりエ
ツチングムラが防げるという効果がある。又効率よくエ
ツチングできるのでエツチング時間が短くなるという効
果がある。
第１図は回転揺動エツチング装置の縦断面図、第２図は
回転揺動エツチング装置の平面図、第３図はカム体の具
体例を示す図、第４図はキャリアの斜視図である。 ■−キャリア ２−・ウェファ ３−脚部 ４−底部 ５一槽 ６−エツチング液 ７−ベース ８−キャリアガイド ９−カム体 １〇−回転軸 １４−モータ １７−案内溝 特許出願人 サンコー技研株式会社第１図 第４図
回転揺動エツチング装置の平面図、第３図はカム体の具
体例を示す図、第４図はキャリアの斜視図である。 ■−キャリア ２−・ウェファ ３−脚部 ４−底部 ５一槽 ６−エツチング液 ７−ベース ８−キャリアガイド ９−カム体 １〇−回転軸 １４−モータ １７−案内溝 特許出願人 サンコー技研株式会社第１図 第４図
Claims (3)
- （１）略円板状の半導体ウエファを複数枚並べて立てか
けるための案内溝と脚部と穴の空いた底部を有するキャ
リアと、エッチング液の満されている槽と、槽内部に設
けられたベースと、ベース上に配設されキャリア脚部と
を保持するキャリアガイドと、キャリアの底部から露出
している半導体ウエファの端面に係合するカム体であっ
て半導体ウエファを回転揺動させるものと、カム体を駆
動させるモータよりなる回転揺動エッチング装置。 - （２）カム体は対向する湾曲面と２つの湾曲面を挟む平
行平面によって側部を囲まれた柱状をなしており、湾曲
面間距離より平行平面間距離の方が小さい特許請求の範
囲第１項記載の回転揺動エッチング装置。 - （３）カム体の湾曲面表面にはスベリ留めの凹凸が設け
られている特許請求の範囲第２項記載の回転揺動エッチ
ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24235785A JPS62101033A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 回転揺動エツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24235785A JPS62101033A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 回転揺動エツチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62101033A true JPS62101033A (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=17087983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24235785A Pending JPS62101033A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 回転揺動エツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62101033A (ja) |
-
1985
- 1985-10-28 JP JP24235785A patent/JPS62101033A/ja active Pending
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