JPS619896A - ランダム・アクセス・メモリ - Google Patents
ランダム・アクセス・メモリInfo
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- JPS619896A JPS619896A JP60101698A JP10169885A JPS619896A JP S619896 A JPS619896 A JP S619896A JP 60101698 A JP60101698 A JP 60101698A JP 10169885 A JP10169885 A JP 10169885A JP S619896 A JPS619896 A JP S619896A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/414—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the bipolar type
- G11C11/416—Read-write [R-W] circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/414—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the bipolar type
- G11C11/415—Address circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
本発明は、改良されたランダム・アクセス・メモリ(R
AM)に係り、更に具体的に云えば、改良されたビット
選択回路及びワード選択回路を有する、CTS (相補
型トランジスタ・スイッチ)型メモリ・セルを用いたR
AMに係る。
AM)に係り、更に具体的に云えば、改良されたビット
選択回路及びワード選択回路を有する、CTS (相補
型トランジスタ・スイッチ)型メモリ・セルを用いたR
AMに係る。
B、開示の概要
本発明は、改良されたRAM、更に具体的に云えば、改
良されたビット選択回路及びワード選択回路を有する、
CTS型メモリ・セルを用いたRAMを提供する。
良されたビット選択回路及びワード選択回路を有する、
CTS型メモリ・セルを用いたRAMを提供する。
C0従来技術
CTS型メモリ・セルを用いたRAMは従来公知であり
、例えば、米国特許第3863229号明細書iIBM
テクニカル・ディスクロージャ・ビュレティン、第23
巻、第11号、1981年4月、第4960頁乃至第4
962頁の論文;18Mジャーナル・オブ・リサーチ・
アンド・ディベロップメント、第25巻、第3号、19
81年5月、第126頁乃至第134頁の論文等に記載
されている。
、例えば、米国特許第3863229号明細書iIBM
テクニカル・ディスクロージャ・ビュレティン、第23
巻、第11号、1981年4月、第4960頁乃至第4
962頁の論文;18Mジャーナル・オブ・リサーチ・
アンド・ディベロップメント、第25巻、第3号、19
81年5月、第126頁乃至第134頁の論文等に記載
されている。
D1発明が解決しようとする問題点
公知のRAM、特にCTS型メモリ・セルを用いたRA
Mは、ビット選択に於て2つの比較的大きな欠点を有し
ている。その]、つば、ビット・デコード・トランジス
タがチップ上の多数のビット列を駆動しなければならな
いことである。長い金属路及び大きなファン・アウト電
流により、ビット・デコード線に沿って大きな電圧降下
が生じる。
Mは、ビット選択に於て2つの比較的大きな欠点を有し
ている。その]、つば、ビット・デコード・トランジス
タがチップ上の多数のビット列を駆動しなければならな
いことである。長い金属路及び大きなファン・アウト電
流により、ビット・デコード線に沿って大きな電圧降下
が生じる。
ビット・デコード線の末端に於けるセルは、それらの“
1″ビット・レール抵抗に於て充分な電圧を有さす、そ
れらのセルに適当なゲート電流が供給されないことがあ
る。これは、選択されたセルに於けるデータ保持の問題
を生じる可能性がある。
1″ビット・レール抵抗に於て充分な電圧を有さす、そ
れらのセルに適当なゲート電流が供給されないことがあ
る。これは、選択されたセルに於けるデータ保持の問題
を生じる可能性がある。
もう1つの欠点は、ビット・デコード・トランジスタが
大きなファン・アウト負荷を有するために、ビット・レ
ールの選択及び選択解除の両方が遅いことである。ビッ
ト・レールの放電速度がビット・レール抵抗によって制
限される。本発明によるビット選択方式は、公知のRA
M、特にCTS型メモリ・セルを用いたRAMに於ける
上記欠点を解決する。
大きなファン・アウト負荷を有するために、ビット・レ
ールの選択及び選択解除の両方が遅いことである。ビッ
ト・レールの放電速度がビット・レール抵抗によって制
限される。本発明によるビット選択方式は、公知のRA
M、特にCTS型メモリ・セルを用いたRAMに於ける
上記欠点を解決する。
CTS型メモリ・セルの如きセルを用いた高性能のアレ
イに於ては、セルの選択は、そのワード線を低レベルに
し、そのビット・レールを高レベルにすることによって
行われる。公知の設計に於ては、選択されたワード線を
低レベルに引下げるために固定された電流源が用いられ
ている。その″電流モード′″のワード選択方法は通常
法の3つの問題を有している。
イに於ては、セルの選択は、そのワード線を低レベルに
し、そのビット・レールを高レベルにすることによって
行われる。公知の設計に於ては、選択されたワード線を
低レベルに引下げるために固定された電流源が用いられ
ている。その″電流モード′″のワード選択方法は通常
法の3つの問題を有している。
(1)低速性。 −CTS型メモリ・セルを用いた場合
には、ワード線が極めて大きなキャパシタンスを有する
。(60乃至80個のセルを有するワード線の場合、そ
のキャパシタンスは30乃至40pfにも達する。)定
電流源は、選択されたワード線を、その大きなRC時定
数に従って低レベルに引下げる。従って、セルの選択が
極めて遅く、その駆動能力が固定電流源によって制限さ
れることが多い。
には、ワード線が極めて大きなキャパシタンスを有する
。(60乃至80個のセルを有するワード線の場合、そ
のキャパシタンスは30乃至40pfにも達する。)定
電流源は、選択されたワード線を、その大きなRC時定
数に従って低レベルに引下げる。従って、セルの選択が
極めて遅く、その駆動能力が固定電流源によって制限さ
れることが多い。
(2)不安定性。 −選択されたワード線は電流源によ
って低レベルに保持されるので、それらの電圧レベルは
ノイズ又は電流源の変動によって容易に影響される。ワ
ード線のレベルが、ビット・レールのレベルにもはや追
従しなくなる程迄ドリフトした場合には、データ保持の
問題が生じる。
って低レベルに保持されるので、それらの電圧レベルは
ノイズ又は電流源の変動によって容易に影響される。ワ
ード線のレベルが、ビット・レールのレベルにもはや追
従しなくなる程迄ドリフトした場合には、データ保持の
問題が生じる。
(3) ”書込”のために長いアドレス・セットアツ
プ時間を要する。 −書込動作中、LL I IIが書
込まれる側のビット線電圧が高レベルに駆動される。そ
の結果、ビット・レール及びドレイン線のレベルが上昇
する。ライト・スルー(write−through)
の問題がなくなるように、書込を始める前に先に選択さ
れたセルの解除を待つために、長いアドレス・セットア
ツプ時間が必要である。
プ時間を要する。 −書込動作中、LL I IIが書
込まれる側のビット線電圧が高レベルに駆動される。そ
の結果、ビット・レール及びドレイン線のレベルが上昇
する。ライト・スルー(write−through)
の問題がなくなるように、書込を始める前に先に選択さ
れたセルの解除を待つために、長いアドレス・セットア
ツプ時間が必要である。
上述の問題は、本発明による″電圧モードのワード選択
手段″によって解決される。
手段″によって解決される。
本発明の目的は、特にCTS型メモリ・セルを用いたR
AMに於て、完全に選択されたセルに於けるデータ保持
の問題を解決し且つビット線の選択及び選択解除の速度
を増すビット選択手段、及び特にCTS型メモリ・セル
を用いたRAMに於て、(1)ワード線の選択速度を増
し、(2)選択されたワード線の安定性を増し、且つ(
3)”書込″動作のためのアドレス・セットアツプ時間
を減少させる電圧モードのワード選択手段を有する、C
TS型メモリ・セルを用いた、改良されたRAMを提供
することである。
AMに於て、完全に選択されたセルに於けるデータ保持
の問題を解決し且つビット線の選択及び選択解除の速度
を増すビット選択手段、及び特にCTS型メモリ・セル
を用いたRAMに於て、(1)ワード線の選択速度を増
し、(2)選択されたワード線の安定性を増し、且つ(
3)”書込″動作のためのアドレス・セットアツプ時間
を減少させる電圧モードのワード選択手段を有する、C
TS型メモリ・セルを用いた、改良されたRAMを提供
することである。
E1問題点を解決するための手段
本発明は、m列及びn行(m及びnは正の整数)のメモ
リ・セルを含むメモリ・セル・アレイと;各々第1ビッ
ト選BL及び第2ビット線BRを含み、上記メモリ・セ
ル・アレイの各メモリ・セル列に設けられたm対のビッ
ト線と;各々上部ワード線WL及び下部ワード線DLを
含み、上記メモリ・セル・アレイの各メモリ・セル行に
設けられたn対のワード線と;上記n対のワード線を選
択するために上記n対のワード線に接続されており、選
択されたワード線対の上部ワード線WL及び下部ワード
線DLにプッシュ・プル電圧駆動機能を与える電圧モー
ドのワード選択手段を含む、ワード線デコード回路手段
とを有している°;ランダム・アクセス・メモリを提供
する。
リ・セルを含むメモリ・セル・アレイと;各々第1ビッ
ト選BL及び第2ビット線BRを含み、上記メモリ・セ
ル・アレイの各メモリ・セル列に設けられたm対のビッ
ト線と;各々上部ワード線WL及び下部ワード線DLを
含み、上記メモリ・セル・アレイの各メモリ・セル行に
設けられたn対のワード線と;上記n対のワード線を選
択するために上記n対のワード線に接続されており、選
択されたワード線対の上部ワード線WL及び下部ワード
線DLにプッシュ・プル電圧駆動機能を与える電圧モー
ドのワード選択手段を含む、ワード線デコード回路手段
とを有している°;ランダム・アクセス・メモリを提供
する。
本発明は、要約すると、改良されたビット選択回路及び
ワード選択回路を有する、特に(、TS型メモリ・セル
を用いた、RAMを提供する。上記ビット選択回路は、
相互接続された第ルベル及び第2レベルのマトリックス
・デコーダを含み、各メモリ・セル列は1対のビット線
を有し、各ビット線対にビット選択回路手段が接続され
る。各ビット選択回路手段は上記第2レベルのデコーダ
の出力に接続され、ビット高レベル・クランプ回路が各
ビット線対の各ビット選択回路手段に接続される。各ビ
ット選択回路手段は、選択されたビット線対の選択速度
を増すための第1回路手段を含む。上記ビット・高レベ
ル・クランプ回路は、上記の選択されたビット線対のビ
ット選択回路手段と協働して、上記の選択されたビット
線対の高い方の電位レベルを制限する。又、各ビット選
択回路手段は、選択されたビット線対の選択解除速度を
増すための第2回路手段を含む。本発明は又、好ましく
はCTS型メモリ・セルを用いたRAMに於て、電圧モ
ードゝのワード選択手段を含む。
ワード選択回路を有する、特に(、TS型メモリ・セル
を用いた、RAMを提供する。上記ビット選択回路は、
相互接続された第ルベル及び第2レベルのマトリックス
・デコーダを含み、各メモリ・セル列は1対のビット線
を有し、各ビット線対にビット選択回路手段が接続され
る。各ビット選択回路手段は上記第2レベルのデコーダ
の出力に接続され、ビット高レベル・クランプ回路が各
ビット線対の各ビット選択回路手段に接続される。各ビ
ット選択回路手段は、選択されたビット線対の選択速度
を増すための第1回路手段を含む。上記ビット・高レベ
ル・クランプ回路は、上記の選択されたビット線対のビ
ット選択回路手段と協働して、上記の選択されたビット
線対の高い方の電位レベルを制限する。又、各ビット選
択回路手段は、選択されたビット線対の選択解除速度を
増すための第2回路手段を含む。本発明は又、好ましく
はCTS型メモリ・セルを用いたRAMに於て、電圧モ
ードゝのワード選択手段を含む。
F、実施例
CTS型メモリ・セルを用いた高性能のアレイに於ては
、セルの選択は、そのワード線を低レベルにし、そのビ
ット・レールを高レベルにすることによって行われる。
、セルの選択は、そのワード線を低レベルにし、そのビ
ット・レールを高レベルにすることによって行われる。
第2図に示されている如く、公知の設計に於ては、選択
されたワード線を低レベルに引下げるために固定された
電流源が用いられている。その゛′電流モード”のワー
ド選択方法は通常、前述の3つの問題を有している。そ
れらの問題は、本発明による11電圧モードのワード選
択手段″によって解決される。第8図は、その方式を概
略的に示している。
されたワード線を低レベルに引下げるために固定された
電流源が用いられている。その゛′電流モード”のワー
ド選択方法は通常、前述の3つの問題を有している。そ
れらの問題は、本発明による11電圧モードのワード選
択手段″によって解決される。第8図は、その方式を概
略的に示している。
又、CTS型メモリ・セルを用いた公知の高性能のアレ
イは、ビット選択に於て、前述の2つの欠点を有してお
り、再びそれらの欠点を第2図に関連して示す。
イは、ビット選択に於て、前述の2つの欠点を有してお
り、再びそれらの欠点を第2図に関連して示す。
1、ビット・デコード・トランジスタTBがチップ上の
多数のビット列を駆動しなければならないことである。
多数のビット列を駆動しなければならないことである。
長い金属路及び大きなファン・アウト電流により、ビッ
ト・デコード線BDに沿って大きな電圧降下が生じる。
ト・デコード線BDに沿って大きな電圧降下が生じる。
ビット・デコード線の末端に於けるセルは、それらのI
I I I+ビット・レール抵抗に於て充分な電圧を有
さす、それらのセルに適当なゲート電流■1が供給され
ないことがある。これは、選択されたセルに於けるデー
タ保持の問題を生じる可能性がある。
I I I+ビット・レール抵抗に於て充分な電圧を有
さす、それらのセルに適当なゲート電流■1が供給され
ないことがある。これは、選択されたセルに於けるデー
タ保持の問題を生じる可能性がある。
2、ビット・デコード・トランジスタが大きなファン・
アウト負荷を有するために、ビット・レールの選択及び
選択解除の両方が遅いことである。ビット・レールの放
電速度がビット・レール抵抗RBL及びRBRによって
制限される。
アウト負荷を有するために、ビット・レールの選択及び
選択解除の両方が遅いことである。ビット・レールの放
電速度がビット・レール抵抗RBL及びRBRによって
制限される。
これらの欠点は、本発明によるビット選択手段によって
解決される。
解決される。
上述の問題及び欠点は、第1図、第1A図、第8図及び
楯9図に示されている分布式ビット選択回路及びワード
選択回路によって解決される。
楯9図に示されている分布式ビット選択回路及びワード
選択回路によって解決される。
説明のため、第3図に於て、本発明による1に×4のR
AMを示す。このRAMは、64ワード(行)×64ビ
ット(列)に配列された4096個のセルのアレイ密度
を有している。64ビット列は更に4つのデータ・グル
ープに分割されており、一度に4ビットの書込(従って
、4つのデータ入力)及び4ビットの読取(従って、4
つのデータ出力)が行われる。このRAMは、6つのワ
ード・アドレス(64行から1行を選択するため)及び
4つのビット・アドレス(64ビットから1ビットを選
択するため)を有する。読取及び書込動作は、RW大入
力3よって制御さトる。
AMを示す。このRAMは、64ワード(行)×64ビ
ット(列)に配列された4096個のセルのアレイ密度
を有している。64ビット列は更に4つのデータ・グル
ープに分割されており、一度に4ビットの書込(従って
、4つのデータ入力)及び4ビットの読取(従って、4
つのデータ出力)が行われる。このRAMは、6つのワ
ード・アドレス(64行から1行を選択するため)及び
4つのビット・アドレス(64ビットから1ビットを選
択するため)を有する。読取及び書込動作は、RW大入
力3よって制御さトる。
第1図に於て、ビット・アドレスをデコードするために
、2レベルのマトリックス・デコード方式が用いられて
いる。第ルベルのデコード回路は、4つのビット・アド
レス・レシーバの出カニミッタ結線から形成された、各
グループ4本の2つのグループのアドレス線(BAO乃
至BA3及びBA4乃至BA7)を含む。それらのビッ
ト・アドレス・レシーバは、第4図に示されている如く
、電流スイッチ・エミッタ・フォロワ回路である。それ
らは、アドレス入力を真及び補の信号に変換する。それ
らの対のアドレス・レシーバのエミッタ・フォロワ出力
の結線によって、4本中1本の部分的デコード結果が各
グループから得られ、従って合計2本の選択された(低
レベルの)信号線が得られる。
、2レベルのマトリックス・デコード方式が用いられて
いる。第ルベルのデコード回路は、4つのビット・アド
レス・レシーバの出カニミッタ結線から形成された、各
グループ4本の2つのグループのアドレス線(BAO乃
至BA3及びBA4乃至BA7)を含む。それらのビッ
ト・アドレス・レシーバは、第4図に示されている如く
、電流スイッチ・エミッタ・フォロワ回路である。それ
らは、アドレス入力を真及び補の信号に変換する。それ
らの対のアドレス・レシーバのエミッタ・フォロワ出力
の結線によって、4本中1本の部分的デコード結果が各
グループから得られ、従って合計2本の選択された(低
レベルの)信号線が得られる。
第2レベルのデコード機能は、16個のビット・デコー
ダ(第5図)によって行われ、それらのビット・デコー
ダは電流スイッチ入力及び高速プッシュ・プル出力を有
する。ビット・デコーダの入力1はBAO乃至BA3の
アドレス・グループに於ける4本中1本の信号線に接続
され、入力2はBA4乃至BA7のグループに於ける4
本中1本の信号線に接続される。16本のビット・デコ
ード(BD)出力線中1本だけがデコードされ、選択さ
れた高レベルになる。各BD線は、4つのビット列(各
データ・グループから1つ)を駆動するようにファン・
アウトしており、従って、読取又は書込動作に於て一度
に4つのセルが選択される。
ダ(第5図)によって行われ、それらのビット・デコー
ダは電流スイッチ入力及び高速プッシュ・プル出力を有
する。ビット・デコーダの入力1はBAO乃至BA3の
アドレス・グループに於ける4本中1本の信号線に接続
され、入力2はBA4乃至BA7のグループに於ける4
本中1本の信号線に接続される。16本のビット・デコ
ード(BD)出力線中1本だけがデコードされ、選択さ
れた高レベルになる。各BD線は、4つのビット列(各
データ・グループから1つ)を駆動するようにファン・
アウトしており、従って、読取又は書込動作に於て一度
に4つのセルが選択される。
各ビット列は、ビット線の選択及び選択解除を行うビッ
ト選択回路(第1図及び第6図)を有する。選択された
ビット線の高レベルは、ビット高レベル・クランプ回路
(ビットTJPCL、第7図)によりセットされ、高ク
ランプ(UC) ・レベルを変化させることにより、
セルの読取及び書込動作点が容易に調整される。次に、
ビット選択回路の動作モードについて述べる。
ト選択回路(第1図及び第6図)を有する。選択された
ビット線の高レベルは、ビット高レベル・クランプ回路
(ビットTJPCL、第7図)によりセットされ、高ク
ランプ(UC) ・レベルを変化させることにより、
セルの読取及び書込動作点が容易に調整される。次に、
ビット選択回路の動作モードについて述べる。
匪1訳
非選択状態に於て、BD線は、それに対応するビット・
デコーダにより、VNに近い電圧の低レベルに保持され
る。ビット選択回路のノード1はベース−コレクタ・ダ
イオードT′4により低レベルにクランプされる。ビッ
ト線BL及びBRも、ショットキ・ダイオードD1及び
D2により非選択レベルへ負に引下げられる。ノード1
が低レベルになると、トランジスタT1及びT2が遮断
され、ビット・レール抵抗RBL及びRBRには電流が
流れない。この状態に於て、抵抗R1は、T4を経てB
D線に流れる小さなりC電流を供給する。T4は飽和モ
ードで導通するので、そのB−〇接合に大きな拡散キャ
パシタンス(蓄積電荷による)を生じる。蓄積電荷は、
BD線が高レベルに選択されたとき、ノード1を迅速に
高レベルにブート・ストラップさせるために用いられる
。
デコーダにより、VNに近い電圧の低レベルに保持され
る。ビット選択回路のノード1はベース−コレクタ・ダ
イオードT′4により低レベルにクランプされる。ビッ
ト線BL及びBRも、ショットキ・ダイオードD1及び
D2により非選択レベルへ負に引下げられる。ノード1
が低レベルになると、トランジスタT1及びT2が遮断
され、ビット・レール抵抗RBL及びRBRには電流が
流れない。この状態に於て、抵抗R1は、T4を経てB
D線に流れる小さなりC電流を供給する。T4は飽和モ
ードで導通するので、そのB−〇接合に大きな拡散キャ
パシタンス(蓄積電荷による)を生じる。蓄積電荷は、
BD線が高レベルに選択されたとき、ノード1を迅速に
高レベルにブート・ストラップさせるために用いられる
。
選択(読取)
成るビット列が選択されると、そのBD線は、対応する
ビット・デコーダにより、VPよりも略VBEだけ低い
電圧へアクティブに引上げられる。
ビット・デコーダにより、VPよりも略VBEだけ低い
電圧へアクティブに引上げられる。
その結果、ダイオードT4が、BD線と同じ速度で迅速
に高レベルに上昇する。T4の大きなり−C飽和キャパ
シタンスの迅速な放電は、ノード1に極めて迅速なブツ
シュ・アップ動作を与え、T1及びT2を即座にターン
・オンさせて、抵抗RBL及びRBRを経てビット線を
高レベルに駆動させる。
に高レベルに上昇する。T4の大きなり−C飽和キャパ
シタンスの迅速な放電は、ノード1に極めて迅速なブツ
シュ・アップ動作を与え、T1及びT2を即座にターン
・オンさせて、抵抗RBL及びRBRを経てビット線を
高レベルに駆動させる。
読取動作中、PDL及びPDR線は両方とも高レベル(
Vp付近)であり、ショットキ・ダイオードD3及びD
4はオフ状態である。ノード1のレベルは、トランジス
タ・ダイオードT3によって、UC線によりセットされ
た電圧にクランプされる(第12図)。この読取基準レ
ベルは、適当な読取電流(負荷電流工、及びゲート電流
工。)を得るために選択されたセルの電圧に追従するよ
うに、ビット高レベル・クランプ回路によって得られる
。読取電流は、T1及びT2により、抵抗RBL及びR
BRを経て、セルに供給される。典型的な読取電流はI
L二1〜OmA及びIC:0.2mAにセットされる。
Vp付近)であり、ショットキ・ダイオードD3及びD
4はオフ状態である。ノード1のレベルは、トランジス
タ・ダイオードT3によって、UC線によりセットされ
た電圧にクランプされる(第12図)。この読取基準レ
ベルは、適当な読取電流(負荷電流工、及びゲート電流
工。)を得るために選択されたセルの電圧に追従するよ
うに、ビット高レベル・クランプ回路によって得られる
。読取電流は、T1及びT2により、抵抗RBL及びR
BRを経て、セルに供給される。典型的な読取電流はI
L二1〜OmA及びIC:0.2mAにセットされる。
その結果、感知増幅器による読取感知のために、ビット
線の間に約500乃至600 m Vの電位差が生じる
。
線の間に約500乃至600 m Vの電位差が生じる
。
選択状態に於ては、BD線の電圧レベルがノード1より
も高いので、ダイオードT4はショットキ・ダイオード
D1及びD2と同様にオフである。
も高いので、ダイオードT4はショットキ・ダイオード
D1及びD2と同様にオフである。
BD線に又はBD線から電流が流れず、従ってその線に
沿って電圧降下が生じない(従来の設計と比較される)
。更に1選択されたセルの読取電流は直接Vp電源から
供給され、BD線の電圧レベルとは関係なく、アレイに
跨って均一に分配される。
沿って電圧降下が生じない(従来の設計と比較される)
。更に1選択されたセルの読取電流は直接Vp電源から
供給され、BD線の電圧レベルとは関係なく、アレイに
跨って均一に分配される。
産虜−Iしと1
書込モードに於て、ビット線選択は、前述の読取モード
の場合と同様である。唯一の異なる点は、書込制御線の
1つ(書込むデータに応じて、PDL又はPDRのいず
れか一方)が、ビット選択の前に書込制御回路によりV
Nに近い電圧へ負に駆動されることである(第13図)
。低レベルにされたPDL又はPDR線は、各々ショッ
トキ・ダイオードD3又はD4を経てBL又はBRをク
ランプ・ダウンし、その結果ビット列が選択されたとき
、片側のビット線だけが高レベルに上昇して、書込電流
I、をセル中に駆動する。他方の側のビット線は、通常
はセルに流れるビット線電流を遮断するために、負の低
レベルに留まる。この書込動作モードは、以下に於て、
″差動モード書込″と称する。
の場合と同様である。唯一の異なる点は、書込制御線の
1つ(書込むデータに応じて、PDL又はPDRのいず
れか一方)が、ビット選択の前に書込制御回路によりV
Nに近い電圧へ負に駆動されることである(第13図)
。低レベルにされたPDL又はPDR線は、各々ショッ
トキ・ダイオードD3又はD4を経てBL又はBRをク
ランプ・ダウンし、その結果ビット列が選択されたとき
、片側のビット線だけが高レベルに上昇して、書込電流
I、をセル中に駆動する。他方の側のビット線は、通常
はセルに流れるビット線電流を遮断するために、負の低
レベルに留まる。この書込動作モードは、以下に於て、
″差動モード書込″と称する。
書込モード中、ノード1の高レベルも、UC線によりセ
ットされた電圧へダイオードT3によりクランプされる
。書込基準電圧は、典型的には読取基準電圧よりも60
0乃至800mA高く、従って迅速な書込性能を得るた
めに充分な書込電流が常に保証されている。読取モード
の場合と同様に、書込電流も、T1及びT2VMて、直
接VPから供給される。従って、書込性能は、BD線の
レベルの変動によって影響されない。
ットされた電圧へダイオードT3によりクランプされる
。書込基準電圧は、典型的には読取基準電圧よりも60
0乃至800mA高く、従って迅速な書込性能を得るた
めに充分な書込電流が常に保証されている。読取モード
の場合と同様に、書込電流も、T1及びT2VMて、直
接VPから供給される。従って、書込性能は、BD線の
レベルの変動によって影響されない。
1訳簾盈
ビット列が選択されていないとき、その対応するビット
・デコーダの出力は低レベルに降下する。
・デコーダの出力は低レベルに降下する。
ビット選択回路のノード1は、ダイオードT4により負
に引下げられて、T1及びT2をターン・オフさせる。
に引下げられて、T1及びT2をターン・オフさせる。
それと同時に、ビット線も、ショットキ・ダイオードD
1及びD2によりアクティブに引下げられ、BD線へ放
電する。ビット線が非選択状態の低レベルに完全に放電
された後、Dl及びD2は導通を止める。そのとき、そ
のビット列は非選択状態である。
1及びD2によりアクティブに引下げられ、BD線へ放
電する。ビット線が非選択状態の低レベルに完全に放電
された後、Dl及びD2は導通を止める。そのとき、そ
のビット列は非選択状態である。
本明細書に開示されたビット選択方式は、CTS型メ子
メモリル(第2A図)を用いたアレイに於て特に有用で
ある。この方式を用いることにより、公知の設計に優る
、少くとも次の2つの利点が得られる。
メモリル(第2A図)を用いたアレイに於て特に有用で
ある。この方式を用いることにより、公知の設計に優る
、少くとも次の2つの利点が得られる。
(1)ビット線の“選択/選択解除″の速度が増し、ビ
ット経路アクセス時間が速くなる。
ット経路アクセス時間が速くなる。
(II)ビット・デコード高レベル線の電圧降下が除か
れ、選択されたセルに於けるデータ保持の問題が軽減さ
れる。
れ、選択されたセルに於けるデータ保持の問題が軽減さ
れる。
本発明による改良されたビット選択回路手段は、次の要
素を含む。
素を含む。
1.2レベルのマトリックス・デコード(第1図)−第
ルベルは、電流スイッチ・エミッタ・フォロワ・アドレ
ス・レシーバのエミッタ結線である。第2レベルは、電
流スイッチ入力及び高速プッシュ・プル出力を有するビ
ット・デコーダである。
ルベルは、電流スイッチ・エミッタ・フォロワ・アドレ
ス・レシーバのエミッタ結線である。第2レベルは、電
流スイッチ入力及び高速プッシュ・プル出力を有するビ
ット・デコーダである。
2、分布型のビット選択回路(第1図及び第6図)−−
選択速度を増し、回路の電力を減少させるために、飽和
されたベース−コレクタ・ダイオードT4の容量性放電
機構を用いている。
選択速度を増し、回路の電力を減少させるために、飽和
されたベース−コレクタ・ダイオードT4の容量性放電
機構を用いている。
読取及び書込電流を直接電源Vpから供給するために、
トランジスタT1及びT2を有する。選択解除に於てビ
ット・レールをアクティブに低レベルへ引下げるために
、ショットキ障壁ダイオード(SBD)Di及びD2を
用いている。又、迅速な書込動作が行われるように11
差動モード読取”を可能にするために、ショットキ・ダ
イオードD3及びD4を書込制御回路とともに用いてい
る。
トランジスタT1及びT2を有する。選択解除に於てビ
ット・レールをアクティブに低レベルへ引下げるために
、ショットキ障壁ダイオード(SBD)Di及びD2を
用いている。又、迅速な書込動作が行われるように11
差動モード読取”を可能にするために、ショットキ・ダ
イオードD3及びD4を書込制御回路とともに用いてい
る。
3、ビット高レベル・クランプ(第1図及び第7図)
−選択されたビット線の読取及び書込の高レベルは、読
取及び書込動作点の調整が容易になるように基準回路(
ビットU、PCL)によって制御される。この回路は又
、後述される如く、種々のトラッキング条件(読取モー
ドに於ける選択されたドレイン線のレベルのトラッキン
グの如き)を充たすように設計されている。
−選択されたビット線の読取及び書込の高レベルは、読
取及び書込動作点の調整が容易になるように基準回路(
ビットU、PCL)によって制御される。この回路は又
、後述される如く、種々のトラッキング条件(読取モー
ドに於ける選択されたドレイン線のレベルのトラッキン
グの如き)を充たすように設計されている。
第1図に於てパワード・デコード″として示されている
、改良されたワード線デコーダ及び制御回路が、第8図
及び第9図に詳細に示されている。
、改良されたワード線デコーダ及び制御回路が、第8図
及び第9図に詳細に示されている。
第8図は電圧モード・ワード選択方式を示し、第9図は
ワード・デコーダの回路を詳細に示している。
ワード・デコーダの回路を詳細に示している。
第8図に於て、64行から1行をデコードするために、
6ビットのワード・アドレスが用いられている。ビット
経路の場合と同様な2レベル・マトリックス・デコード
方式がワード・アドレスのデコードにも用いられている
。第ルベルのデコード回路は、6つのワード・アドレス
・レシーバの出カニミッタ結線から形成された、各グル
ープ4本の3つのグループのアドレス線(WAO乃至W
A3、WA4乃至WA7、及びWA8乃至WAll)を
含む。それらのワード・アドレス・レシーバは、電流ス
イッチ・エミッタ・フォロワ回路(第4図)である。そ
れらは、アドレス入力を真及び補の信号に変換する。そ
れらの対のアドレス・レシーバのエミッタ・フォロワ出
力の結線によって、4水中1本の部分的デコード結果が
各グループから得られ、従って合計3本の選択された(
低レベルの)信号線が得られる。
6ビットのワード・アドレスが用いられている。ビット
経路の場合と同様な2レベル・マトリックス・デコード
方式がワード・アドレスのデコードにも用いられている
。第ルベルのデコード回路は、6つのワード・アドレス
・レシーバの出カニミッタ結線から形成された、各グル
ープ4本の3つのグループのアドレス線(WAO乃至W
A3、WA4乃至WA7、及びWA8乃至WAll)を
含む。それらのワード・アドレス・レシーバは、電流ス
イッチ・エミッタ・フォロワ回路(第4図)である。そ
れらは、アドレス入力を真及び補の信号に変換する。そ
れらの対のアドレス・レシーバのエミッタ・フォロワ出
力の結線によって、4水中1本の部分的デコード結果が
各グループから得られ、従って合計3本の選択された(
低レベルの)信号線が得られる。
第2レベルのデコード機能は、64個のワード・デコー
ダ(第9図)によって行われる。各ワード・デコーダは
、3つの電流スイッチ入力(INI乃至lN5)及び2
つの高速及び高出力のプッシュ・プル出力(WL及びD
L)を有する。ワード・デコーダの入力INIはWAO
乃至WA3の第1アドレス・グループに於ける4水中1
本の信号線に接続され、入力IN2は第2グループ(W
A4乃至WA7)に於ける4水中1本の信号線に接続さ
れ、入力IN3は第3グループ(WA8乃至WAll)
に於ける4水中1本の信号線に接続されている。行線を
選択するためには、これらの3つの全ての入力が低レベ
ルでなければならない。ワード・デコーダの2つの出力
は、図示されている如く、メモリ・セルのワード線(W
L)及びドレイン線(D L)に接続される。
ダ(第9図)によって行われる。各ワード・デコーダは
、3つの電流スイッチ入力(INI乃至lN5)及び2
つの高速及び高出力のプッシュ・プル出力(WL及びD
L)を有する。ワード・デコーダの入力INIはWAO
乃至WA3の第1アドレス・グループに於ける4水中1
本の信号線に接続され、入力IN2は第2グループ(W
A4乃至WA7)に於ける4水中1本の信号線に接続さ
れ、入力IN3は第3グループ(WA8乃至WAll)
に於ける4水中1本の信号線に接続されている。行線を
選択するためには、これらの3つの全ての入力が低レベ
ルでなければならない。ワード・デコーダの2つの出力
は、図示されている如く、メモリ・セルのワード線(W
L)及びドレイン線(D L)に接続される。
次に、本発明によるワード・デコーダの動作について述
べる。
べる。
方11艮
選択されないワード・デコーダは、その3つの入力の中
、少くとも1つが高レベルである。デコード・トランジ
スタT1、T2又はT3がターン・オンされて、ノード
1が低レベルに引下げられる。
、少くとも1つが高レベルである。デコード・トランジ
スタT1、T2又はT3がターン・オンされて、ノード
1が低レベルに引下げられる。
トランジスタT5及びT6はデュアル位相レベル・シフ
タを形成し、従ってノード4もVNに近い電圧へ負に引
下げられ、ノード3はVpへ正に引上げられる。ノード
4が低レベルになると、オープン・コレクタ・トランジ
スタTLが遮断され、ワード線WL及びドレイン線DL
がそれらの非選択レベル(高レベル)に上昇することが
できる。この状態に於て、セルのスタンバイ電流は、ワ
ード線及びドレイン線の電圧と同様に、電源I SOM
及びI SOLによって決定される。
タを形成し、従ってノード4もVNに近い電圧へ負に引
下げられ、ノード3はVpへ正に引上げられる。ノード
4が低レベルになると、オープン・コレクタ・トランジ
スタTLが遮断され、ワード線WL及びドレイン線DL
がそれらの非選択レベル(高レベル)に上昇することが
できる。この状態に於て、セルのスタンバイ電流は、ワ
ード線及びドレイン線の電圧と同様に、電源I SOM
及びI SOLによって決定される。
スイッチ速度を迅速にするために、トランジスタT5及
びT6は遮断されてはならず、僅かに導通していなけれ
ばならない。アクティブなプル・アップ素子(T7及び
TH)は、ワード線が完全な非選択DCレベル(Vp)
よりも略1,5V8゜低い)に達するとき、オフになる
。
びT6は遮断されてはならず、僅かに導通していなけれ
ばならない。アクティブなプル・アップ素子(T7及び
TH)は、ワード線が完全な非選択DCレベル(Vp)
よりも略1,5V8゜低い)に達するとき、オフになる
。
l仮
ワード・デコーダが選択されるとき、その3つのすべて
の入力は低レベルである。トランジスタT1、T2及び
T3はオフ状態にある。ノード1が高レベルになり、T
5及びT6を即座にターン・オンさせる。ノード3がT
5のコレクタにより低レベルに引下げられて、T7乃至
THをオフに保ち、従ってWL及びDLはそれらの選択
レベルに降下することができる。それと同時に、ノード
4が高レベルに駆動されて、TLをターン・オンさせる
。
の入力は低レベルである。トランジスタT1、T2及び
T3はオフ状態にある。ノード1が高レベルになり、T
5及びT6を即座にターン・オンさせる。ノード3がT
5のコレクタにより低レベルに引下げられて、T7乃至
THをオフに保ち、従ってWL及びDLはそれらの選択
レベルに降下することができる。それと同時に、ノード
4が高レベルに駆動されて、TLをターン・オンさせる
。
このように高出力のオープン・コレクタがドレイン線を
低レベルに引下げることによって、セルの迅速な選択が
可能になる。ドレイン線が低レベルに駆動されている間
、ワード線はセルにより決定される電圧オフセットと同
じ割合で、それに追従する。
低レベルに引下げることによって、セルの迅速な選択が
可能になる。ドレイン線が低レベルに駆動されている間
、ワード線はセルにより決定される電圧オフセットと同
じ割合で、それに追従する。
ワード線及びドレイン線が完全に選択されたとき、T7
乃至THはオフであり、TLはオン状態に保たれて、選
択されたセルからの大きな読取/書迷電流を吸収する。
乃至THはオフであり、TLはオン状態に保たれて、選
択されたセルからの大きな読取/書迷電流を吸収する。
この状態に於て、ワード線及びドレイン線の電圧は次の
2つの式により決定される。
2つの式により決定される。
=V +V ’ (TL)・・・・(1)■(D
L) N CE v(WL) (DL) (セル)””(2
)=V +V 選択されたドレイン線が高出力のオープン・コレクタ・
トランジスタTLにより低レベルに引下げられるので、
ワード選択が極めて迅速に行われ、その駆動能力が従来
の設計の場合の如く固定電流源により制限されない。更
に、選択されたドレイン及びワード線のレベルは電源V
Nからの電圧オフセットに対して確実に決定され、従来
技術の場合よりも安定である。このワード選択技術は、
“電圧モードのワード選択”と呼ばれる。
L) N CE v(WL) (DL) (セル)””(2
)=V +V 選択されたドレイン線が高出力のオープン・コレクタ・
トランジスタTLにより低レベルに引下げられるので、
ワード選択が極めて迅速に行われ、その駆動能力が従来
の設計の場合の如く固定電流源により制限されない。更
に、選択されたドレイン及びワード線のレベルは電源V
Nからの電圧オフセットに対して確実に決定され、従来
技術の場合よりも安定である。このワード選択技術は、
“電圧モードのワード選択”と呼ばれる。
MJI3JL除
行線は、読取又は書込動作に関して選択された後、選択
解除されて、スタンバイ状態に戻される。
解除されて、スタンバイ状態に戻される。
選択解除状態のワード・デコーダは、その入力の少くと
も1つが正になる。そのとき、デコード・トランジスタ
T1、T2又はT3が再びターン・オンされ、ノード1
を低レベルに駆動して、オープン・コレクタ・トランジ
スタTLを遮断する。
も1つが正になる。そのとき、デコード・トランジスタ
T1、T2又はT3が再びターン・オンされ、ノード1
を低レベルに駆動して、オープン・コレクタ・トランジ
スタTLを遮断する。
それと同時に、ノード4は、VP迄正に引上げられ、エ
ミッタ・フォロワ素子T7乃至THを一時的にオンに駆
動して、ワード線WLをそれが非選択DCレベルに達す
る迄引上げる。ワード線が正に引上げられている間、ド
レイン線DLは、セルによって決定される電圧オフセッ
トと同じ割合で、それに追従する。ワード線およびドレ
イン線が完全にそれらのスタンバイ・レベルに上昇する
と、T7乃至TH及びTLは全てオフになる。そのとき
、その行線は非選択状態にある。
ミッタ・フォロワ素子T7乃至THを一時的にオンに駆
動して、ワード線WLをそれが非選択DCレベルに達す
る迄引上げる。ワード線が正に引上げられている間、ド
レイン線DLは、セルによって決定される電圧オフセッ
トと同じ割合で、それに追従する。ワード線およびドレ
イン線が完全にそれらのスタンバイ・レベルに上昇する
と、T7乃至TH及びTLは全てオフになる。そのとき
、その行線は非選択状態にある。
豊取贅作
行線(WL、DL)及びビット線(BL、BR)の両方
が選択されるとき(第12図)、セルは読取動作に関し
て選択される。行線は、前述の如く、電圧モートのワー
ド選択方式によって選択される。
が選択されるとき(第12図)、セルは読取動作に関し
て選択される。行線は、前述の如く、電圧モートのワー
ド選択方式によって選択される。
ビット線は、先に説明したビット選択方式により選択さ
れる。セルが完全に選択された後、読取電流工、及び■
。がビット・レール・ショットキ・ダイオードSL及び
SRに供給される。それらは、読取感知のために、セル
の内部電圧(rr OI+及び111 I+ )をビッ
ト線に結合する。読取中のセルの安定性が保証されるよ
うに、電流IL及び工Gは選ばれた動作範囲内に制御さ
れねばならない。これは、UC線からビット・レール駆
動トランジスタ(第12図のT工及びT 2 )に加え
られる読取基準レベルによって達成される。読取基準レ
ベルは、選択されたセルに完全に追従するビット高レベ
ル・クランプ回路(第7図)によって発生され、従って
電流IL及び■Gを決定するビット・レール抵抗RBL
及びRBRに、充分な電圧(■“0”及びV ” 1
” )が常に保証される。この読取基準レベルの発生及
びビット高レベル・クランプ回路の動作については、後
に更に詳述する。
れる。セルが完全に選択された後、読取電流工、及び■
。がビット・レール・ショットキ・ダイオードSL及び
SRに供給される。それらは、読取感知のために、セル
の内部電圧(rr OI+及び111 I+ )をビッ
ト線に結合する。読取中のセルの安定性が保証されるよ
うに、電流IL及び工Gは選ばれた動作範囲内に制御さ
れねばならない。これは、UC線からビット・レール駆
動トランジスタ(第12図のT工及びT 2 )に加え
られる読取基準レベルによって達成される。読取基準レ
ベルは、選択されたセルに完全に追従するビット高レベ
ル・クランプ回路(第7図)によって発生され、従って
電流IL及び■Gを決定するビット・レール抵抗RBL
及びRBRに、充分な電圧(■“0”及びV ” 1
” )が常に保証される。この読取基準レベルの発生及
びビット高レベル・クランプ回路の動作については、後
に更に詳述する。
(處肱走
電圧モードのワード選択方式を用いた場合、書込動作は
3つの順次的ステップに於て行われる(第13図及び第
14図)。
3つの順次的ステップに於て行われる(第13図及び第
14図)。
1、前述の如く、行線が選択/選択解除される。
2、ドレイン線の選択及び選択解除(第14図)の交差
の後に、書込動作が開始される。RWクロックがビット
高レベル・クランプ回路をスイッチさせて、UC線上に
書込基準電圧を生ぜしぬる。このRW倍信号書込制御回
路にも加えられ、書込制御回路はそのデータ入力に依存
して、その2つの出力線PDL又はPDRのいずれか一
方を低レベルに駆動させる。
の後に、書込動作が開始される。RWクロックがビット
高レベル・クランプ回路をスイッチさせて、UC線上に
書込基準電圧を生ぜしぬる。このRW倍信号書込制御回
路にも加えられ、書込制御回路はそのデータ入力に依存
して、その2つの出力線PDL又はPDRのいずれか一
方を低レベルに駆動させる。
次に、低レベルになったPDL又はPDR線が、ショッ
トキ・ダイオードD3又はD4によって各々ビット線B
L又はBRを低レベルに引下げ、その結果セルをその側
に流入する電流が書込の前に遮断される。書込以前にセ
ルに流入していたゲート電流の遮断は、書込動作の達成
に不可欠である。書込中にゲート電流が存在していると
、セル中の現在オン状態のNPNトランジスタはオンの
ままであり、書込電流■ωによって状態を変化させるこ
とはできない。
トキ・ダイオードD3又はD4によって各々ビット線B
L又はBRを低レベルに引下げ、その結果セルをその側
に流入する電流が書込の前に遮断される。書込以前にセ
ルに流入していたゲート電流の遮断は、書込動作の達成
に不可欠である。書込中にゲート電流が存在していると
、セル中の現在オン状態のNPNトランジスタはオンの
ままであり、書込電流■ωによって状態を変化させるこ
とはできない。
3、ゲート電流が遮断された後、tt I I+が書込
まれるビット線の側がビット・レール・トランジスタ(
第13図のT1又はT2)によって高レベルに上昇する
。所望のセル状態に達する迄、電流工、が、ビット・レ
ール抵抗RBL又はRBRを経て、セルに注入される。
まれるビット線の側がビット・レール・トランジスタ(
第13図のT1又はT2)によって高レベルに上昇する
。所望のセル状態に達する迄、電流工、が、ビット・レ
ール抵抗RBL又はRBRを経て、セルに注入される。
読取動作の場合と同様に、書込電流I、の大きさも、U
C線を経てビット・レール駆動トランジスタTl又はT
2に加えられる書込基準レベルによって制御される。こ
の書込電流は、ビット高レベル・クランプ回路の書込基
準レベルを変化させることによって、容易に調整するこ
とができる。
C線を経てビット・レール駆動トランジスタTl又はT
2に加えられる書込基準レベルによって制御される。こ
の書込電流は、ビット高レベル・クランプ回路の書込基
準レベルを変化させることによって、容易に調整するこ
とができる。
上記書込方式は、゛差動モード書込″と呼ばれる。それ
は、書込中にビット線の片側が高レベルに上昇されると
ともに、他方の側が低レベルに保たれるからである。
は、書込中にビット線の片側が高レベルに上昇されると
ともに、他方の側が低レベルに保たれるからである。
この書込方式の重要な利点は、ドレイン線がVNからの
固定された電圧オフセットに対して選択されるので、書
込電流がセルに注入されるとき、その線のレベルが上昇
せずに安定状態に留′まることである。従って、従来技
術の設計で用いられていたパ電流モード″のワード選択
方式に存在する如き、選択解除セルに伴なう追従効果(
chasingeffect)が除かれる。書込パルス
は、選択解除セルの退去を待つことなく (ドレイン線
選択信号とドレイン線選択解除信号とが交差すると即座
に)、到来することが可能である。従って、書込の前に
必要なアドレス・セットアツプ時間が最小限になる。よ
り高速のワード選択及びより短いアドレス・セットアツ
プ時間により、書込性能が著しく改善される。更に、選
択されたドレイン線は成る電圧レベルに確実に保持され
、選択解除されたドレイン線は非選択レベル迄アクティ
ブに迅速に引上げられるので、“ライト・スルー″(即
ち、スタンバイ状態のセルと同様に、選択解除されたセ
ルにも書込が行われること)の問題は生じない。
固定された電圧オフセットに対して選択されるので、書
込電流がセルに注入されるとき、その線のレベルが上昇
せずに安定状態に留′まることである。従って、従来技
術の設計で用いられていたパ電流モード″のワード選択
方式に存在する如き、選択解除セルに伴なう追従効果(
chasingeffect)が除かれる。書込パルス
は、選択解除セルの退去を待つことなく (ドレイン線
選択信号とドレイン線選択解除信号とが交差すると即座
に)、到来することが可能である。従って、書込の前に
必要なアドレス・セットアツプ時間が最小限になる。よ
り高速のワード選択及びより短いアドレス・セットアツ
プ時間により、書込性能が著しく改善される。更に、選
択されたドレイン線は成る電圧レベルに確実に保持され
、選択解除されたドレイン線は非選択レベル迄アクティ
ブに迅速に引上げられるので、“ライト・スルー″(即
ち、スタンバイ状態のセルと同様に、選択解除されたセ
ルにも書込が行われること)の問題は生じない。
上記説明から明らかな如く、本発明による電圧モードの
ワード選択方式は、特にCTS型メモリ・セルを用いた
RAMに於て、次に示す利点を提供する。
ワード選択方式は、特にCTS型メモリ・セルを用いた
RAMに於て、次に示す利点を提供する。
(1)極めて高速のワード選択及び選択解除、従ってよ
り高速の″読取”性能を可能にする。
り高速の″読取”性能を可能にする。
(2)大きな行線駆動能力を提供し、従って高密度の回
路に適している。
路に適している。
(3)選択されたドレイン線レベルを安定化し、従って
データ保持の問題及びライト・スルーの問題を除く。
データ保持の問題及びライト・スルーの問題を除く。
(4)より高速の″書込″性能を可能にする。
ビット高レベル・クランプ回路
CTS型メモリ・セルを用いたRAMに於て電圧モード
・ワード選択方式が適切に動作するためには、選択され
たセルの動作レベルを決定するためにビット高レベル・
クランプ回路が必要である。
・ワード選択方式が適切に動作するためには、選択され
たセルの動作レベルを決定するためにビット高レベル・
クランプ回路が必要である。
これは、特に読取動作に於て重要である。温度、電源(
VN) 、 及び素子(VBE及びVFSBD)の変動
に伴って選択されたセルに追従するように、読取基準電
圧がビット高レベル・クランプにより発生され、従って
あらゆる条件の下で適切な読取電流(Ic及びIL)が
常に保証され、セルの安定性が確保される。次に、第1
図及び第1A図に於て“ビットUPCL”として示され
ているビット高レベル・クランプ回路について、第8図
、第12図及び第13図を参照して説明する。
VN) 、 及び素子(VBE及びVFSBD)の変動
に伴って選択されたセルに追従するように、読取基準電
圧がビット高レベル・クランプにより発生され、従って
あらゆる条件の下で適切な読取電流(Ic及びIL)が
常に保証され、セルの安定性が確保される。次に、第1
図及び第1A図に於て“ビットUPCL”として示され
ているビット高レベル・クランプ回路について、第8図
、第12図及び第13図を参照して説明する。
(1)読取基準 −第12図に於て、読取モードに於け
るクランプ・ダイオードT3のエミッタに必要な電圧レ
ベルは、ワード・デコーダに於けるVNからの電位の上
昇/降下を合計することによって決定することができる
。
るクランプ・ダイオードT3のエミッタに必要な電圧レ
ベルは、ワード・デコーダに於けるVNからの電位の上
昇/降下を合計することによって決定することができる
。
電圧@ T3=VN+Vss−(TL)−Vp(S2)
=VRE(TR)+ Vp (SL) + V“1”
+VBE(TI)−VBE(T3) 上記式に於てVBEの上昇/降下及びVFの上昇/降下
を相殺することにより、読取基準電圧を決定する簡単化
された式が得られる。
=VRE(TR)+ Vp (SL) + V“1”
+VBE(TI)−VBE(T3) 上記式に於てVBEの上昇/降下及びVFの上昇/降下
を相殺することにより、読取基準電圧を決定する簡単化
された式が得られる。
電圧@T3=VN+2v、E+V ”1”’川・(1)
読取動作に於て、ビット高レベル・クランプ回路(第7
図)のR/W制御入方は高レベルである。トランジスタ
Tlはオン状態であり、T2はオフ状態であり、従って
ノード3は高レベルになって、T3、T4及びT5をタ
ーン・オンさせる。出力線UCはT3によりクランプ・
ダウンされて、次式により決定される読取基準電圧を生
じる。
読取動作に於て、ビット高レベル・クランプ回路(第7
図)のR/W制御入方は高レベルである。トランジスタ
Tlはオン状態であり、T2はオフ状態であり、従って
ノード3は高レベルになって、T3、T4及びT5をタ
ーン・オンさせる。出力線UCはT3によりクランプ・
ダウンされて、次式により決定される読取基準電圧を生
じる。
vUc(読取) =VN+VBIE(T5)+VBE(
T4)+VBE(T3)−VF(Sl) ”VN”3VRI!−VF ” ” (2)上記式
(1)及び(2)が等しいものとすると1次式が得られ
る。
T4)+VBE(T3)−VF(Sl) ”VN”3VRI!−VF ” ” (2)上記式
(1)及び(2)が等しいものとすると1次式が得られ
る。
電圧@ Ta =Voc (読取)
−+VN+2VBH+V”1”=VN+3VIIIt−
Vp→V”1”=VBH−Vp
++ ++ (3)■“1″はビット・レール抵抗のI
I I II側の電圧である。このRBLに於ける電圧
が、読取中にセルの安定性を保つゲート電流IGを決定
する。読取電流工G及びILは次式により関連づけられ
る。
Vp→V”1”=VBH−Vp
++ ++ (3)■“1″はビット・レール抵抗のI
I I II側の電圧である。このRBLに於ける電圧
が、読取中にセルの安定性を保つゲート電流IGを決定
する。読取電流工G及びILは次式により関連づけられ
る。
そして、V ” O” =V ” 1 ” +Vpテあ
る。
る。
上記式(3)から理解される如く、V、 re I T
JはVBE(NPNトランジスタの順方向モードのベー
ス−エミッタ電圧)とvp(ショットキ・ダイオードの
順方向導通電圧)との電位差により決定されるので、電
源及び温度の変動の影響を受けない。
JはVBE(NPNトランジスタの順方向モードのベー
ス−エミッタ電圧)とvp(ショットキ・ダイオードの
順方向導通電圧)との電位差により決定されるので、電
源及び温度の変動の影響を受けない。
(2)書込基準 −書込モードに於て、R/W入力は低
レベルである。トランジスタT1はオフ状態にあり、T
2はオン状態にある。ノード1は高レベルになり、T6
を高レベルに引上げ、ノード3は低レベルになり、T3
を遮断する。UC線に於ける書込基準レベルは次式によ
り与えられる。
レベルである。トランジスタT1はオフ状態にあり、T
2はオン状態にある。ノード1は高レベルになり、T6
を高レベルに引上げ、ノード3は低レベルになり、T3
を遮断する。UC線に於ける書込基準レベルは次式によ
り与えられる。
Vuc(書込) =Vp V[lE (T6) ”(
4)この書込基準電圧はビット・レール駆動トランジス
タ(第13図のT1及びT2)に供給されて、書込電流
■。を決定する。
4)この書込基準電圧はビット・レール駆動トランジス
タ(第13図のT1及びT2)に供給されて、書込電流
■。を決定する。
読取感知回路
第1図に示されている読取感知回路の動作を、特に第1
0図及び第11図を参照して説明する。
0図及び第11図を参照して説明する。
第1’A図は、第3図に示されているRAMに用いられ
た感知方式を示している。そのRAMの64のビット列
は16ビットより成る4つのデータグループに分割され
ている。各データ・グループは読取感知動作のための感
知増幅器(第10図)を含んデいる。この感知増幅器の
状態は、そのデータ・グループ内の選択されたセルによ
って決定される。感知増幅器により読取られたデータは
オフ・チップ駆動(OCD)回路を経てチップ外へ送ら
れる。
た感知方式を示している。そのRAMの64のビット列
は16ビットより成る4つのデータグループに分割され
ている。各データ・グループは読取感知動作のための感
知増幅器(第10図)を含んデいる。この感知増幅器の
状態は、そのデータ・グループ内の選択されたセルによ
って決定される。感知増幅器により読取られたデータは
オフ・チップ駆動(OCD)回路を経てチップ外へ送ら
れる。
第11図は成るデータ・グループのための感知増幅器の
配置を示している。データ・グループ内に於て、各ビッ
ト列は、電圧を感知するために。
配置を示している。データ・グループ内に於て、各ビッ
ト列は、電圧を感知するために。
そのビット線に取付けられた1対の感知トランジスタ(
TL及びTR)を有している。セルが読取のために選択
されるとき、その行線(WL及びDL)は対応するワー
ド・デコーダによって低レベルに引下げられ、ビット線
(BL及びBR)はそのビット選択回路によって高レベ
ルに上昇される。
TL及びTR)を有している。セルが読取のために選択
されるとき、その行線(WL及びDL)は対応するワー
ド・デコーダによって低レベルに引下げられ、ビット線
(BL及びBR)はそのビット選択回路によって高レベ
ルに上昇される。
データ・グループ当り16のビット列が存在するので、
ビット選択は常に16から1つを選択する。
ビット選択は常に16から1つを選択する。
32のビット線のうち、2つだけが一度に高レベルにな
る。これらの2つの選択されたビット線のより高レベル
の方が感知増幅回路の対応する感知トランジスタをター
ン・オンさせる。
る。これらの2つの選択されたビット線のより高レベル
の方が感知増幅回路の対応する感知トランジスタをター
ン・オンさせる。
第10図は上記感知方式のために設計された高速感知増
幅回路を示す。その回路は、極めて迅速なスイッチング
の性能を可能にするために電流ステアリング技術を用い
ている。その感知速度は、データ・グループに於けるビ
ット列の数とは無関係である。
幅回路を示す。その回路は、極めて迅速なスイッチング
の性能を可能にするために電流ステアリング技術を用い
ている。その感知速度は、データ・グループに於けるビ
ット列の数とは無関係である。
第10図に於て、32個の感知トランジスタTL1乃至
TL16及びTRI乃至TR16が感知増幅器のための
大電流スイッチ入力を形成している。それらのトランジ
スタのベースはそのデータ・グループに於ける16のビ
ット列に接続されている。トランジスタT1及びT2は
、オフ・チップ駆動回路を駆動する2相出力を与えるエ
ミッタ・フォロワである。トランジスタT3及びT4は
、ノードA及びBの固定電圧を決定するために常時オン
にセットされているので、これらの2つの素子のスイッ
チングは電流モードで行われる。
TL16及びTRI乃至TR16が感知増幅器のための
大電流スイッチ入力を形成している。それらのトランジ
スタのベースはそのデータ・グループに於ける16のビ
ット列に接続されている。トランジスタT1及びT2は
、オフ・チップ駆動回路を駆動する2相出力を与えるエ
ミッタ・フォロワである。トランジスタT3及びT4は
、ノードA及びBの固定電圧を決定するために常時オン
にセットされているので、これらの2つの素子のスイッ
チングは電流モードで行われる。
任意の時間に、選択されたビット列のビット列又はビッ
ト右のいずれかが高電圧レベルに上昇すると、電圧が高
い方のビット線が、対応する感知トランジスタをターン
・オンさせる。そのとき、電流源T5からの感知電流I
sは、オン状態の感知トランジスタにより、T3又はT
4を経てステアリングされ、ノード1又は2を低レベル
に引下げる。
ト右のいずれかが高電圧レベルに上昇すると、電圧が高
い方のビット線が、対応する感知トランジスタをターン
・オンさせる。そのとき、電流源T5からの感知電流I
sは、オン状態の感知トランジスタにより、T3又はT
4を経てステアリングされ、ノード1又は2を低レベル
に引下げる。
ノードA及びBの電圧レベルはスイッチされず、固定さ
れているので、それらのノードのキャパシタンスはスイ
ッチング時間に影響を与えない。実際に於てその入力段
に取付けられた感知トランジスタの数とは無関係に、回
路の遅延は一定である。
れているので、それらのノードのキャパシタンスはスイ
ッチング時間に影響を与えない。実際に於てその入力段
に取付けられた感知トランジスタの数とは無関係に、回
路の遅延は一定である。
更に、トランジスタT1、T2及びT3、T4は常にア
クティブなので、それらのスイッチング遅延は最小限に
保たれる。
クティブなので、それらのスイッチング遅延は最小限に
保たれる。
第10図に感知増幅回路の特徴は次の如く要約される。
1、感知トランジスタはビット電流スイッチとして構成
されており、それらのベースはそのデータ・グループ内
のビット線に接続されている。これは、感知増幅器の入
力段を形成している。
されており、それらのベースはそのデータ・グループ内
のビット線に接続されている。これは、感知増幅器の入
力段を形成している。
2、回路のスイッチングは電流モードで行われる。
即ち、A及びBに於ける入力電圧は、固定され、スイッ
チングはT3又はT4を経て感知電流ISをステアリン
グすることによって行われる。この動作モードは、極め
て大きなファン・イン能力及び入力負荷に依存しない迅
速な回路速度を可能にする。
チングはT3又はT4を経て感知電流ISをステアリン
グすることによって行われる。この動作モードは、極め
て大きなファン・イン能力及び入力負荷に依存しない迅
速な回路速度を可能にする。
3、回路の遅延を最小限にするために、すべてのスイッ
チング素子(Tl、T2及びT3、T4)は常にアクテ
ィブに保される。
チング素子(Tl、T2及びT3、T4)は常にアクテ
ィブに保される。
G1発明の効果
本発明によれば、高速且つ安定に動作するRAMが得ら
れる。
れる。
第1図は本発明の1実施例を示す図、l第1A図は第1
図のRAMの感知及び書込制御回路を示す図、第2図は
CTS型メモリ・セルを用いた公知のRAMを示す図、
第2A図は公知のCTS型メモリ・セルを示す図、第3
図は1kX4RAMの全体を示す図、第4図は第1図の
RAMに於て用いられるビット・アドレス・レシーバ回
路を示す図、第5図はビット・デコード回路を示す図、
第6図はビット選択回路を示す図、第7図−はビット高
レベル・クランプ回路を示す図、第8図は電圧モードの
ワード選択方式を示す図、第9図はワード・デコード回
路を示す図、第10図は感知増幅回路を示す図、第11
図は第10図の感知増幅回路の配置を示す図、第1,2
図は電圧モード読取動作を説明する図、第13図は電圧
モード書込動作を説明する図、第14図は書込動作時の
波形を示す図である。 出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ
・コーポレーション 代理人 弁理士 山 本 仁 朗(外1名) 第1図 木発朝f)4莫施イ列 第1A図 威知回路及び婁人υj御回路 りLlltlU引j メモリの全体図 号−タ出功第、
31遠 VN ヒ゛1.7ト アドレス しレーノぐ ll ビソトデ゛コー鉢゛回路 ビ・ノド訪[択国落 第6図 第7図 1−E・/l−高しへ゛)し シランプ回に各Vρ VN ワード テ°“コート″回路 第9図 電圧千斗′喜仄動作 第13図
図のRAMの感知及び書込制御回路を示す図、第2図は
CTS型メモリ・セルを用いた公知のRAMを示す図、
第2A図は公知のCTS型メモリ・セルを示す図、第3
図は1kX4RAMの全体を示す図、第4図は第1図の
RAMに於て用いられるビット・アドレス・レシーバ回
路を示す図、第5図はビット・デコード回路を示す図、
第6図はビット選択回路を示す図、第7図−はビット高
レベル・クランプ回路を示す図、第8図は電圧モードの
ワード選択方式を示す図、第9図はワード・デコード回
路を示す図、第10図は感知増幅回路を示す図、第11
図は第10図の感知増幅回路の配置を示す図、第1,2
図は電圧モード読取動作を説明する図、第13図は電圧
モード書込動作を説明する図、第14図は書込動作時の
波形を示す図である。 出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ
・コーポレーション 代理人 弁理士 山 本 仁 朗(外1名) 第1図 木発朝f)4莫施イ列 第1A図 威知回路及び婁人υj御回路 りLlltlU引j メモリの全体図 号−タ出功第、
31遠 VN ヒ゛1.7ト アドレス しレーノぐ ll ビソトデ゛コー鉢゛回路 ビ・ノド訪[択国落 第6図 第7図 1−E・/l−高しへ゛)し シランプ回に各Vρ VN ワード テ°“コート″回路 第9図 電圧千斗′喜仄動作 第13図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 m列及びn行(m及びnは正の整数)のメモリ・セル
を含むメモリ・セル・アレイと、 各々第1ビット線BL及び第2ビット線BRを含み、上
記メモリ・セル・アレイの各メモリ・セル列に設けられ
たm対のビット線と、 各々上部ワード線WL及び下部ワード線DLを含み、上
記メモリ・セル・アレイの各メモリ・セル行に設けられ
たn対のワード線と、 上記n対のワード線を選択するために上記n対のワード
線に接続されており、選択されたワード線対の上部ワー
ド線WL及び下部ワード線DLにプッシュ・プル電圧駆
動機能を与える電圧モードのワード選択手段を含む、ワ
ード線デコード回路手段とを有している、 ランダム・アクセス・メモリ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/624,486 US4578779A (en) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | Voltage mode operation scheme for bipolar arrays |
US624486 | 1984-06-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS619896A true JPS619896A (ja) | 1986-01-17 |
JPH07107794B2 JPH07107794B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=24502192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60101698A Expired - Lifetime JPH07107794B2 (ja) | 1984-06-25 | 1985-05-15 | ランダム・アクセス・メモリ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4578779A (ja) |
EP (1) | EP0168633B1 (ja) |
JP (1) | JPH07107794B2 (ja) |
DE (1) | DE3585304D1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP0426597B1 (en) * | 1989-10-30 | 1995-11-08 | International Business Machines Corporation | Bit decode scheme for memory arrays |
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DE10047251C2 (de) * | 2000-09-23 | 2002-10-17 | Infineon Technologies Ag | 1-aus-N-Decodierschaltung |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS57138197U (ja) * | 1981-02-23 | 1982-08-28 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1984
- 1984-06-25 US US06/624,486 patent/US4578779A/en not_active Expired - Fee Related
-
1985
- 1985-05-15 JP JP60101698A patent/JPH07107794B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-06-13 EP EP85107230A patent/EP0168633B1/en not_active Expired
- 1985-06-13 DE DE8585107230T patent/DE3585304D1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57138197U (ja) * | 1981-02-23 | 1982-08-28 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0168633B1 (en) | 1992-01-29 |
JPH07107794B2 (ja) | 1995-11-15 |
DE3585304D1 (de) | 1992-03-12 |
EP0168633A2 (en) | 1986-01-22 |
EP0168633A3 (en) | 1989-02-01 |
US4578779A (en) | 1986-03-25 |
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