JPS6197843A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS6197843A
JPS6197843A JP21994084A JP21994084A JPS6197843A JP S6197843 A JPS6197843 A JP S6197843A JP 21994084 A JP21994084 A JP 21994084A JP 21994084 A JP21994084 A JP 21994084A JP S6197843 A JPS6197843 A JP S6197843A
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Takayoshi Nishi
西 貴義
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Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
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Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は半導体装置の改良、特に半導体素子をロウ材で
固着する半導体装置の改良に関する。
(ロ)従来の技術 従来の半導体装置、特にパワートランジスタでは、載置
部材として銅のリードフレームの載置部にニッケルメッ
キを施したものを用い、これと半導体素子とをロウ付け
するロウ材として重量比90%の錫(Sn)と重量比1
0%のアンチモン(sb)、又は重量比60%の錫(S
n)と重量比40%の鉛(Pb)等を用いていた。
ところで、斯上した構造ではコスト高となるために、リ
ードフレームのニッケルメッキを省略しようとする動き
があった。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 従来のロウ材で銅のリードフレームと半導体素子とをロ
ウ付げすると、トランジスタが断続動作するヒートサイ
クルで生ずる熱疲労に弱く、信頼性に欠けるため、リー
ドフレームのニッケルメッキを省げないという欠点があ
った。これは、ロウ付けする際にロウ材の錫とリードフ
レームの銅とが合金を形成することに起因するもので、
この合金は非常に硬くてもろいために、リードフレーム
の膨張率と半導体素子の膨張率との差を吸収しきれずK
ひび割れ等の欠陥を生じるr:、めである。
に)問題点を解決するための手段 本発明は斯上した欠点に鑑みてなされ、載置部材にニッ
ケルメッキを省略したリードフレームを使用し、ロウ付
けに重量比82〜92.4%の錫(Sn)と重量比7.
0〜10.0%のアンチモン(Sb)と重量比0.6〜
3.0%のニッケル(Ni)より組成されるロウ材を用
いることにより従来の欠点を除去した。
(ホ)作用 本発明ではロウ付けに重量比82〜92.4%の錫(S
n)と重量比7.0〜10.0%のアンチモン(Sb)
と重量比0.6〜3.0%のニッケル(Ni)より成る
ロウ材を用いているので、信頼性に欠けることなく載置
部材としてニッケルメッキを省略したリードフレームを
用いることができる。
(へ)実施例 第1図に本発明によるパワートランジスタの断面図を示
す。(1)は半導体素子、(2)は半導体素子の載置部
材であるリードフレーム、(3)は半導体素子(1)と
リードフレーム(2)とをロウ付けするロウ材、(4)
はこれらを封止したエポキシ樹脂である。なお、リード
フレーム(2)のニッケルメッキは省略されている。
本発明の最も特徴とする点は、半導体素子(1)とリー
ドフレーム(2)とのロウ付げに、その組成を重量比8
2〜92.4%の錫(Sn)と重量比7.0〜10.0
%のアンチモン(Sb)と重量比0.6〜3.0%のニ
ッケル(Ni)より構成されるロウ材を用いた点にある
。この構造により、信頼性に欠けることなくニッケルメ
ッキを省略したリードフレーム(2)を用いることがで
きろ。これは、ニッケルを混入したことによりニッケル
がリードフレーム(2)とロウ材(3)との境界面に入
りこみ、銅と錫との合金が形成されないように働き、ト
ランジスタのヒートサイクルによる熱疲労を吸収できる
ためと考えられる。
本発明に用いられるロウ材の他の作用としては、接着強
度が大幅に向上したことが上げられる。これはニッケル
を混入したことにより粘性が増した     。。
ことによるものと考えられる。
以下に本発明によるロウ材と半導体装置の試験結果を述
べる。
(1)濡れ性試験 ここでは生産性を考慮し、窒素ガスの雰囲気中でニッケ
ルメッキ試験片と銅板試験片とで濡れ性の試験を行った
。試験としてはロウ材と試験片との接触角、メニスコグ
ラフ試験での浮力値を測定し、濡れ性の評価を行った。
試験結果を第1表に示す。
上記第1表で示すように、ニッケルメッキ試験片、銅板
試験片共に従来使用されているロウ材と何ら変りない濡
れ性と液相温度を示した。このことは従来と全く変りな
い取り扱い性をもつことを意味する。ただし、第1表に
示したように、ニッケルの重量比が3.0%を超えると
濡れ性が悪(なる傾向にあるので実用上ここが限度であ
る。
(2)強度試験 ここでは接着強度と熱疲労寿命に犬ぎく影響する耐熱引
張強度試験を行い、その結果を第2図に示す。同図は一
例として114°Cの温度条件での従来の90Sn−1
0Sbのロウ材と92.4Sn−7Sb−0,6Niの
ロウ材の試験結果であり、横軸にロウ材の機械的な伸び
率、縦軸に引張強度を示している。
第2図から明らかなように、伸び率1.5%での従来の
ロウ材の引張強度が約0.5 ky/−なのに対し、上
記のロウ材では約1. Olv/−と2倍の強度が得ら
れた。これは従来のものと比較して非常に粘り強い性格
のロウ材であることを意味し、接着強度と熱疲労寿命が
従来のものと比較して飛躍的に向上することを意味して
いる。
ただし、重量比0.6%を下まわるものではニッケル明
朝#が単なる不純物としての性格しか示さず、引張強度
が低下する傾向にあるので実用上ここが限度である。
(3)信頼性評価 ここでは第1図に示した構造のパワートランジスタを用
い、断続動作試験で評価した。これはPN接合部と室温
との温度差が100℃になる条件でトランジスタを断続
動作し、熱抵抗測定法の一種であるΔV□法を用いて寿
命の判定を行った。
その結果を第3図に示す。同図において横軸は断続動作
回数、縦軸はトランジスタの動作停止後一定時間におけ
るΔV mmの変化率であり、初期値から1.3倍以上
変化した場合故障と判定する。
第2図から明らかなように、従来のロウ材とニッケルメ
ッキを施したリードフレームを用いた装置が約5千回の
断続動作で故障するのに対し、上記のロウ材とニッケル
メッキを省略したリードフレームを用いた装置は約3万
回と6倍以上の伸びを示した。これは主に試験結果(2
)で示した引張強度が向上したことによるもので、信頼
性が飛躍的に向上したことを意味している。
なお、ニッケルの重量比が0.6%を下まわるもの、又
は3.0%を超えるものは本発明に用いられるものと比
較して劣ることが確認されている。
以上の結果から明らかなように、本発明に用いられるロ
ウ材は従来のロウ材と同様の取り扱い性を確保する一力
で接着強度が増し、信頼性が飛躍的に向上している。
(ト)発明の効果 本発明によれば、信頼性に欠けることな(ニッケルメッ
キを省略したリードフレームを用いることができる。こ
のことは、安価な装置を提供することができる。さらに
、試験fi+、(2)、(3)の結果から、従来のロウ
材と同様の取り扱い性を確保する      。
一方で、接着強度が強く、信頼性が飛躍的に向上した装
置を提供することが可能である。このことは、特にヒー
トサイクルによる熱疲労が問題になるパワートランジス
タにおいて有用であり、信頼性の高い装置を提供するこ
とができる。しかも、接着強度が強いことからチップサ
イズを縮小して接着面積を減少させたとしても十分な信
頼性を保つことが可能となる。
本発明は以上のことから明らかなように、安価で信頼性
の高い装置を提供することが可能となる。
なお、試験(1)でニッケルメッキ試験片でも濡れ性は
変りないことから、ニッケルメッキを施したリードフレ
ームを用いてもよく、この場合でも信頼性は大幅に向上
することが確認されている。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による半導体装置を説明する断面図、第
2図は本発明に用いられるロウ材の耐熱引張強度試験の
結果を示す特性図、第3図は本発明による半導体装置の
断続動作試験の結果を示す%性図である。 主な図番の説明 filは半導体素子、(3)はロウ材である。 第1図 第2図 ↑

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体素子とこれを支持する載置部材とをロウ材
    でロウ付けした半導体装置において、前記ロウ材の組成
    を重量比82〜92.4%の錫と重量比7.0〜10.
    0%のアンチモンと重量比0.6〜3.0%のニッケル
    より構成することを特徴とする半導体装置。
  2. (2)上記載置部材が銅素材のみで形成されることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の半導体装置。
JP21994084A 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置 Granted JPS6197843A (ja)

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JP21994084A JPS6197843A (ja) 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置

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JP21994084A JPS6197843A (ja) 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置

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JPS6197843A true JPS6197843A (ja) 1986-05-16
JPH033937B2 JPH033937B2 (ja) 1991-01-21

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JP21994084A Granted JPS6197843A (ja) 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE10013255B4 (de) * 1999-03-18 2009-12-17 Hitachi, Ltd. Harzgekapselte elektronische Vorrichtung zur Verwendung in Brennkraftmaschinen

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JP2009283741A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55127027A (en) * 1979-03-26 1980-10-01 Toshiba Corp Semiconductor device

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