JPS6196794A - 導電性回路を有する基板の連続製造法 - Google Patents

導電性回路を有する基板の連続製造法

Info

Publication number
JPS6196794A
JPS6196794A JP21918984A JP21918984A JPS6196794A JP S6196794 A JPS6196794 A JP S6196794A JP 21918984 A JP21918984 A JP 21918984A JP 21918984 A JP21918984 A JP 21918984A JP S6196794 A JPS6196794 A JP S6196794A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
film
conductive
ink
conductive circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21918984A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH058599B2 (ja
Inventor
松村 紘三
英司 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissha Printing Co Ltd filed Critical Nissha Printing Co Ltd
Priority to JP21918984A priority Critical patent/JPS6196794A/ja
Priority to PCT/JP1985/000576 priority patent/WO1986002519A1/ja
Publication of JPS6196794A publication Critical patent/JPS6196794A/ja
Publication of JPH058599B2 publication Critical patent/JPH058599B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/067Etchants
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Printing Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、導電性回路を有する基板を連続的に製造する
方法に関するものである。
導電性回路を有する基板は、液晶表示体、エレクトロク
ロミック表示体、電子写真記録体、電気泳動記録体、透
明スイッチ、コ不りクー、フレキシブルサーキット、帯
電防止体1面状発熱体、太陽電池、導電体等の材料とし
て、電気・電子工業分野をはしめ各産業分野において広
く利用されている。
〈従来技術〉 従来、かかる4電性回路を有する基板の製造法としては
、次のような方法が知られている。即ち、金、i艮、S
同、容易、ニッケル、パラジウム等の金属皮膜、或いは
酸化錫、酸化インジウム、M化アンチモン等の金属酸化
物皮膜を、真空蒸着法。
スパッタリング法もしくは印刷法によりガラス基板、プ
ラスチックス基板等の基板上全面に形成した後、所定の
必要な導電性回路部分に、フォトレジスト法やスクリー
ン印刷法によりマスキング層を形成し、次いでl!式或
いは乾式のエツチング法により不要な金属皮膜部分、或
いは金属酸化物皮膜部分を除去した後、更に前記マスキ
ング層を除去することによって所望の導電性回路を有す
る基板を製造する方法がある。
しかし、前記した方法は、マスキング層の形成工程、エ
ッチング工程、マスキング層の除去工程等多くの工程が
必要であり、作業性が掻めて悪いものであった。
前記した方法の問題点を解決する方法として、ヤ 特開昭56−13789号公II1や特開昭58−11
3376号公報等に開示された方法が提案されている。
この方法は何れも、基板上に設けられた4電膜上に、腐
食によって除去すべき所定の範囲に前記導電膜の腐食剤
を含有するインキを印刷し、前記4電膜の不要な部分を
腐食した後、前記腐食剤を含有するインキ部分を除去す
ることによって所望の導電性回路を有する基板を製造す
る方法である。
この方法によると、マスキング層の形成工程。
マスキング層の除去工程が不必要になるという生産上、
作業工程が減少するという点で大きな効果を有するもの
であった。
く本発明の解決しようとする問題点〉 しかしながら、この方法は、作業工程が減少する点では
良好な効果を存するものであるものの、連続生産には極
めて不適当なものであった。何故なら、前記した方法は
何れも、使用する腐食剤が常温で液状のものであるため
、腐食剤を含有するインキを印刷した後、そのままの状
態、即ち、導電膜上に印刷したインキを他と接触させる
ことのない状態で、次工程であるエッチング工程、不要
物の除去工程に移らねばならず、従って基板を連続的に
巻き取りながら印刷を行うということができないからで
ある。
〈本発明の目的〉 本発明の目的とするところは、従来の種々の方法が有す
る問題点を全て解決するとともに、特に連続生産に適し
た導電性回路を有する基板の連続製造法を提供すること
にある。
〈問題を解決しようとする技術手段〉 本発明者らは、前記従来技術が有する諸問題点を解消す
べく、永年にわたり各種の原料関係の条件、処理条件及
び作業手順等の研究・実験を重ね、鋭意努力を傾注して
きた結果、遂に新しい利口すべき方法として本発明を完
成するに至ったのである。即ち、本発明は、50℃〜3
00℃の加熱条件下において酸性ガスを発生する固体腐
食剤を含有するインキを用いて基板上に設けられた4電
膜上に所定の図柄を印刷し、次いで50℃〜300℃に
加熱してエツチング反応を行わすことにより腐食作用を
完了させ、しかる後前記固体腐食剤を含有するインキ部
分を洗浄することを特徴とする導電性回路を有する基板
の連続製造法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に係る50℃〜300℃の加熱条件下において発
生する酸性ガスとは、実質的に水分を含まない比較的純
粋なガスもしくはこれと有機化合物ガスとの混合物であ
り、上記ガスもしくは混合物の他に水、鉱酸、弗化水素
、有機酸もしくは無水套機酸の微細なる液滴が混しった
比較的拡散性に乏しい気液混合物であってもよい。
このようなガスを発生する固体腐食剤としては、酸性硫
酸塩、酸性弗化水素酸塩、酸性燐酸塩、アミノ基含有化
合物鉱酸塩、弗化ホウ素錯塩、アミノ基含有化合物ホウ
弗化水素酸塩、アミノ基含有化合物ケイ弗化水素酸塩等
の単独もしくは二種以上の混合物がある。その含有量は
限定されるものではないが、通常インキの5〜30重量
%である。
本発明に係るインキは、上記固体腐食剤単独でも使用可
能なものもあるが、バーインダー等の共存材料との相互
作用により使用可能となるものもある。この際、使用す
るバインダーとしては、例えば水ン容性のものとして、
グルコース、ポリビニルアルコール、ヒドロキシセルロ
ース、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸等のごとき
活性水素を含存する化合物があり、また有機溶剤可溶性
のものとして、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、アク
リレート、メタクリレート、フェノール、尿素、メラミ
ン等のごとき強力な極性基を組成として有する化合物が
ある。その含有量は限定されるものではないが、通常イ
ンキの20〜50重量%である。
また、本発明に係るインキは、前記バインダーの他に反
応促進剤を含むものであってもよい。この反応促進剤と
は、固体腐食剤と共存材料の混合系にガス発生の反応を
促進するために加えられる触媒的あるいは助触媒的性能
を有する第三物質で、例えば、無水マレイン酸、無水コ
ハク酸、アジピン酸、セパチン酸、アゼライン酸、安息
香酸、各置換安息香酸、ナフタリンカルボン酸、無水ト
リメリット酸、無水イタコン酸、測水フタール酸。
イソフタ−ル酸、テレフタール酸、撫水ノルボルネン、
ジカルボン酸、フミン酸、タンニン酸等のごとき、融点
が50°C以上である有m酸もしくは無水付機成をさす
。その添加量は限定されるものではないが、通常固体腐
食剤の10重量%以下である。
本発明においては、先ず前記したインキを用いて基板上
に設けられた導電膜上に所定の図柄を印刷する。
本発明に係る印刷方法としては、スクリーン印刷法、グ
ラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、凸
版印刷法等がある。
本発明において特に重要なことは、上記印刷法として、
基板上に形成した導電膜を腐食するために使用する腐食
剤が常温で固体のものであるため、連続巻取式のスクリ
ーン印刷法あるいは連続巻取式のグラビア印刷法を適用
することができることである。
本発明に係る基板としては、従来、この種の基板に用い
られているものなら何でも使用可能であるが、本発明に
おいては特に各種プラスチックスフィルムが好適であり
、例えばポリエステルフィルム、ナイロンフィルム、ポ
リサルフォンフィルム、ボリエステルサルフォンフィル
ム等が印刷上好ましい。
本発明に係る導電膜としては、金、銀、 vA、錫。
ニッケル、パラジウム等の金属皮膜があり、また酸化錫
、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化カ
ドミウム、或し料よ酸化インジウム−酸化錫、酸化錫−
酸化アンチモン等の遷移金属酸化物系皮膜があるが、エ
ツチング加工性、経済性等を考慮すると、銅5ニッケル
、酸化インジウム。
酸化錫系のものが最も好ましい。これら導電膜の厚さは
10人〜3000人、)氏抗値は電気回路の用途によっ
て1Ω/口〜104Ω/口であるが、特に好ましくはI
OΩ/口〜2000Ω/がよい。
次いで、前記基板を50℃〜300℃に加熱してエツチ
ング反応を行わすことにより腐食作用を完了させる。
本発明に係る加熱方法としては、熱風?i!i環炉。
遠赤ヒータートンネル炉等を使用する方法があり、加熱
条件としては、50℃〜300℃、特に80℃〜120
℃で30秒〜1分の加熱処理が好ましい条件となる。
本発明にいうエツチング反応とは、シミ膜の一部もしく
は全部が前記した固体腐食剤と接触して適当な温度下に
おいて酸性塩、酸性酸化物、あるいは可溶性化合物、剥
離性物質、粉末状物質等に基板上で変質する現象を総称
して云い、また腐食作用とは、エツチング反応の結果、
所要部分が明らかに腐食されて処理前とは異なった形態
上の変化とか外見上の変化を来す作用を云うのである。
しかる後、前記固体腐食剤を含有するインキ部分を除去
する。
本発明に係る除去方法としては、水或いは極性溶剤によ
るンヤワー洗浄、浴槽中での洗浄、垣音波洗浄、マイク
ロ波洗浄等の方法がある。
なお、本発明は、常圧下、加圧下、減圧下のいずれの状
態においても加熱温度と固体腐食剤等の種類を勘案して
任官に製造条件を設定するこ七ができる。一 本発明者らは上記した本発明に係る導電性回路を有する
基板の製造法に関して多数の実験を行い、本発明の優秀
性を確認したものであるが、更に本発明の技術的内容を
説明するため、以下代表的な例を実施例として示す0本
発明の方法は、単に以下に示された実施例のみに限定し
て解釈されるべきではなく、任意にその実施f13Jを
適宜に実施し得ることは当然である。
〈実施例1〉 市販のポリエステル連続巻き取りフィルムに、酸化イン
ジウム:酸化錫−90: 10の組成のインジウム・錫
酸化物をスパッタリング法により付着させた。スパッタ
リングは真空度10− ’ torrにてアルゴンガス
導入のもとに行い、付着膜厚は約100人であった0次
に、ポリアクリルアミド8重量部に対し硫酸水素ナトリ
ウム1電子部、ケイ酸アルミニウム25重量部を加え、
水で希釈して全量をlo。
重量部とし、連続シルクスクリーン印刷法に適するイン
キを作った。このインキを用いて上記フィルムに線幅5
.0m+w、線間10mm、即ち15.011+1ピツ
チヤ            の長さ10(1wmの細
線を10本、連Vt巻き取り式のスクリーン印刷機によ
り印刷、巻取りを行い、その後、印刷したフィルムを熱
風循環炉で80°Cで30秒間加熱処理を行った。イン
キの乾燥と同時にエツチング反応が行われ、腐食作用は
完了した。
次いで前記フィルムを水洗し、インキ部分を完全に除去
した後乾燥した。各細線においては両端間の表面抵抗が
500Ω/口であり、また各細線間は完全に絶縁されて
いた。
〈実施例2〉 市販のポリエステルサルフォンフィルムに銅を蒸着法に
よって厚み1000人となるように付着させ、w4薄膜
付フィルムを作った。次に、グルコース20重量部、ポ
リビニルアルコール20重量部、燐酸水素ナトリウム8
重量部、ケイ酸アルミニウム12重量部および水40重
置部からなるインキを調整した。
このインキを用いて、上記銅薄膜付フィルムに線幅1.
27mm、線間1 、27mm、即ち2.54+u+ピ
ツチの長さ50m+sの細wA50本を、連続巻き取り
式のスクリーン印刷機によって印刷、巻き取りを行い、
その後アーチ式の遠赤ヒータートンネル炉を使用して1
20℃、20秒間加熱処理を行って、銅のエツチング反
応を起こさセで腐食作用を完了させ、続いて前記フィル
ムを水洗し、インキを完全に除去した後乾燥したところ
、所定の銅の細線パターンが得られた。
〈実施例3〉 膜厚200人のインジウム−錫酸化物薄膜付ポリエステ
ルフィルムにメタクリル樹脂100重量部、テトラフル
オロホウ酸アルミニウム30重量部、ケイ酸アルミニウ
ム20重量部、エチルアルコール−水混合溶剤200重
量部、無水マレイン酸1重量部からなるインキを連VL
@き取り式のグラビア印刷機を用いて印刷した。続いて
巻き取ったポリエステルフィルムをアーチ式〇遠赤ヒー
タートンネル炉を使用して90℃で1分間加熱処理を行
った後、インキを完全に除去したところ所望のインジウ
ム−錫酸化物からなる導電性回路が得られた。
〈発明の効果〉 本発明は、以上のような構成からなるものであるから次
のような効果を有するものである。即ち、基板上に形成
された導電膜を腐食するために使用する腐食剤は、常温
で固体形状を呈するものであるから、この腐食剤を含有
してなるインキを用いて所定の図柄を印刷した後、連続
的に巻き取ることができるものであり、従って印刷法と
して連続巻き取り式の印刷法を通用することが可能なも
のであるから、連続的な大量生産に極めて大きな効果を
有するものである。この結果、製造工程の合理化ができ
、エツチング反応の短縮化ができ、更に腐食剤含有のイ
ンキの印刷時において印刷不良等の原因により製品が不
良となることが予測される場合には、この段階で前記イ
ンキを洗浄除去し、高価な基板を再使用することができ
るものであるから、良品率の向上、コストダウン等の効
果も有するものである。
従って本発明に係る導電性回路を有する基板の連続製造
法は、産業上極めて有用な、利用価値の高いものである
なお、本発明に係る導電性回路を有する基板の連続製造
法は、必ずしも連続巻き取り式の印刷法を通用する必要
はなく、また連1巻き殴り式〇印刷法を適用した場合で
も必ずしも巻き取る必要はなく、印刷乾燥後直ちに所定
の大きさに断裁して後の工程に備えたり、あるいは印刷
後乾燥すると同時に後工程である加熱工程に移ってもよ
いものであることは云うまでもない。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)50℃〜300℃の加熱条件下において酸性ガス
    を発生する固体腐食剤を含有するインキを用いて基板上
    に設けられた導電膜上に所定の図柄を印刷し、次いで5
    0℃〜300℃に加熱してエッチング反応を行わすこと
    により腐食作用を完了させ、しかる後前記固体腐食剤を
    含有するインキ部分を除去することを特徴とする導電性
    回路を有する基板の連続製造法。
  2. (2)導電膜が、導電性の金属皮膜であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の導電性回路を有する基
    板の連続製造法。
  3. (3)導電膜が、遷移金属酸化物系皮膜であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の導電性回路を有す
    る基板の連続製造法。
  4. (4)インキが、バインダーを含むことを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の導電性回路を有する基板の連
    続製造法。
  5. (5)インキが、バインダー及び反応促進剤を含むこと
    を特徴とする特許請求の範囲第(4)項記載の導電性回
    路を有する基板の連続製造法。
JP21918984A 1984-10-17 1984-10-17 導電性回路を有する基板の連続製造法 Granted JPS6196794A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21918984A JPS6196794A (ja) 1984-10-17 1984-10-17 導電性回路を有する基板の連続製造法
PCT/JP1985/000576 WO1986002519A1 (en) 1984-10-17 1985-10-16 Method of continuously producing a substrate having an electrically conductive circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21918984A JPS6196794A (ja) 1984-10-17 1984-10-17 導電性回路を有する基板の連続製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6196794A true JPS6196794A (ja) 1986-05-15
JPH058599B2 JPH058599B2 (ja) 1993-02-02

Family

ID=16731599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21918984A Granted JPS6196794A (ja) 1984-10-17 1984-10-17 導電性回路を有する基板の連続製造法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS6196794A (ja)
WO (1) WO1986002519A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5770895A (en) * 1995-06-08 1998-06-23 Tokyo Electron Limited Operation control device and method for a plurality of electric power consuming systems

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7651830B2 (en) 2007-06-01 2010-01-26 3M Innovative Properties Company Patterned photoacid etching and articles therefrom

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS591680A (ja) * 1982-06-25 1984-01-07 Daicel Chem Ind Ltd 導電性薄膜のエッチング液

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS604233B2 (ja) * 1975-12-26 1985-02-02 卓馬 桐山 粘稠な金属表面処理剤及びその製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS591680A (ja) * 1982-06-25 1984-01-07 Daicel Chem Ind Ltd 導電性薄膜のエッチング液

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5770895A (en) * 1995-06-08 1998-06-23 Tokyo Electron Limited Operation control device and method for a plurality of electric power consuming systems

Also Published As

Publication number Publication date
WO1986002519A1 (en) 1986-04-24
JPH058599B2 (ja) 1993-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4913784A (en) Process for metallizing a ceramic substrate
JP7260923B2 (ja) 電気工学的薄膜積層体の製造方法
CN109559843A (zh) 透明柔性电极薄膜、制作方法及透明柔性电极
KR101321420B1 (ko) 전해용 전극을 재활성화하는 방법
JPS6196794A (ja) 導電性回路を有する基板の連続製造法
CN101192627A (zh) 一种硅薄膜光电池的电极图案及蚀刻方法
JPH0340452B2 (ja)
JPH06148661A (ja) 表示装置用基板の製法
JPH11302876A (ja) 透明導電膜の電極パターン加工方法
JPWO2002056282A1 (ja) カラー表示装置用電極板とその製造方法
JPS62197332A (ja) ガラス基板素材の処理方法
JP2742068B2 (ja) 透明導電性微粒子の製造法及びそれによる透明導電性薄膜の作成方法
JP2729835B2 (ja) アルミニウム基体表面にセラミックス皮膜を形成させる方法
JP2005179695A (ja) 配線基板および電気配線の形成方法
JP2702713B2 (ja) 卑金属薄膜の製造方法
JP3549089B2 (ja) 透明導電膜付きガラス基板とその製法
CN114164421B (zh) 一种采用反置换沉积液在铜表面沉积活化薄膜的方法
JPH01173041A (ja) パターン形成方法
CN118047543A (zh) 半导体纳米发热板正面接地保护制作工艺
KR910005115B1 (ko) 금속판에 세라믹 전열선을 형성시키는 방법
JPS63276817A (ja) 透明導電性回路板の製造法
JPH0382187A (ja) 高耐電食性プリント配線板の製造方法
JPH053690B2 (ja)
TWM648782U (zh) 透明導電膜結構及應用透明導電膜的光能發電膜結構
JPS63227785A (ja) パタ−ンの形成方法