JPS6194793A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
- Publication number
- JPS6194793A JPS6194793A JP59215723A JP21572384A JPS6194793A JP S6194793 A JPS6194793 A JP S6194793A JP 59215723 A JP59215723 A JP 59215723A JP 21572384 A JP21572384 A JP 21572384A JP S6194793 A JPS6194793 A JP S6194793A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- marking
- mask
- reflected
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、マスクに文字や記号等を透孔によって形成
し、この透孔を透過するレーザビームによってマーキン
グするレーザマーキング装置に関する。
し、この透孔を透過するレーザビームによってマーキン
グするレーザマーキング装置に関する。
ＴＥＡ ＣＯ２レーザ等を用いたし°−ザマーキング
装置は、一般に第２図に示すように構成されている。す
なわち、１はレーザ発振器で、２は出力側ミラーである
。この出力側ミラー２がら出力されたレーザビーム３は
マスク４に照射されるようになっている。このマスク４
には第３図に示すように、マーキングすべき文字、記号
等が透孔５によって形成され、この透孔５を透過したの
ち集光レンズからなる結像光学系６によって被マーキン
グ面７に結像されるように構成されている。そして、マ
スク４の透孔５がたとえば“Ａ″であれば、第３図の白
抜き部分ａはレーザビーム３が透過するが、その他の部
分すはレーザビーム３が反射する。このマスク４はレー
ザビーム３を吸収しない材料、たとえばＣＯ２レーザビ
ームの場合には銅板で形成されている。したがって、マ
スク４の透孔５を透過するレーザビーム３以外はほぼ同
じ強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示す）こ
れはマスク４が光路８に対して垂直である ′た
めで、反射光３ａは前記レーザ発振器１の出力側ミラー
２に戻る。このため、出力側ミラー２がレーザビーム３
の反射光３ａによって損傷を与える原因となっている。
装置は、一般に第２図に示すように構成されている。す
なわち、１はレーザ発振器で、２は出力側ミラーである
。この出力側ミラー２がら出力されたレーザビーム３は
マスク４に照射されるようになっている。このマスク４
には第３図に示すように、マーキングすべき文字、記号
等が透孔５によって形成され、この透孔５を透過したの
ち集光レンズからなる結像光学系６によって被マーキン
グ面７に結像されるように構成されている。そして、マ
スク４の透孔５がたとえば“Ａ″であれば、第３図の白
抜き部分ａはレーザビーム３が透過するが、その他の部
分すはレーザビーム３が反射する。このマスク４はレー
ザビーム３を吸収しない材料、たとえばＣＯ２レーザビ
ームの場合には銅板で形成されている。したがって、マ
スク４の透孔５を透過するレーザビーム３以外はほぼ同
じ強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示す）こ
れはマスク４が光路８に対して垂直である ′た
めで、反射光３ａは前記レーザ発振器１の出力側ミラー
２に戻る。このため、出力側ミラー２がレーザビーム３
の反射光３ａによって損傷を与える原因となっている。
この発明は、前記事情に着目してなされたもので、その
目的とするところは、レーザビームの光路に設置された
マスクからの反射レーザビームによるレーザ発振器の損
傷を防止するとともに、その反射レーザビームを有効に
利用してマーキングできるレーザマーキング装置を提供
することにある。
目的とするところは、レーザビームの光路に設置された
マスクからの反射レーザビームによるレーザ発振器の損
傷を防止するとともに、その反射レーザビームを有効に
利用してマーキングできるレーザマーキング装置を提供
することにある。
この発明は、前記目的を達成するために、レーザビーム
の光路にこのレーザビームに対して傾斜する第１のマー
キング用マスクを設けるとともに、この第１のマーキン
グ用マスクから反射する反射レーザビームの反射光路に
この反射レーザビームに対して傾斜する第２のマーキン
グ用マスクを設け、反則レーザビームを有効に利用する
ことにある。
の光路にこのレーザビームに対して傾斜する第１のマー
キング用マスクを設けるとともに、この第１のマーキン
グ用マスクから反射する反射レーザビームの反射光路に
この反射レーザビームに対して傾斜する第２のマーキン
グ用マスクを設け、反則レーザビームを有効に利用する
ことにある。
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明するが
、レーザマーキング装置の基本的構成は、従来と同一で
あるため同一番号を付して説明を省略する。
、レーザマーキング装置の基本的構成は、従来と同一で
あるため同一番号を付して説明を省略する。
第１図および第２図中、１１は第１のマーキング用マス
クであり、このマーキング用マスク１１にはマーキング
しようとする文字、記号などが透孔１２によって形成さ
れている。そして、この第１のマーキング用マスク１１
はレーザビーム３に対して傾斜（角度ｅ１）しており、
第１のマーキング用マスク１１の透孔１２を透過せずに
反射された反射レーザビーム１３は前記レーザビーム３
の光ｆｆ８から外れるようになっている。そして、この
反射レーザビーム１３の反射光路１４にはこの反射レー
ザビーム１３に対して傾斜（角度＋９ｚ ＞して第２の
マーキング用マスク１５が設置されている。この第２の
マーキング用マスク１５にはマーキングしようとする文
字、記号などが透孔１６によって形成されている。さら
に、この第２のマーキング用マスク１５の透孔１６を透
過した反射レーザビーム１３は集光レンズからなる結像
光学系１７を介して第２の被マーキング面１８に結像さ
れるように構成されている。
クであり、このマーキング用マスク１１にはマーキング
しようとする文字、記号などが透孔１２によって形成さ
れている。そして、この第１のマーキング用マスク１１
はレーザビーム３に対して傾斜（角度ｅ１）しており、
第１のマーキング用マスク１１の透孔１２を透過せずに
反射された反射レーザビーム１３は前記レーザビーム３
の光ｆｆ８から外れるようになっている。そして、この
反射レーザビーム１３の反射光路１４にはこの反射レー
ザビーム１３に対して傾斜（角度＋９ｚ ＞して第２の
マーキング用マスク１５が設置されている。この第２の
マーキング用マスク１５にはマーキングしようとする文
字、記号などが透孔１６によって形成されている。さら
に、この第２のマーキング用マスク１５の透孔１６を透
過した反射レーザビーム１３は集光レンズからなる結像
光学系１７を介して第２の被マーキング面１８に結像さ
れるように構成されている。
しかして、レーザ発振器１から発振されたレーザビーム
３は出力側ミラー２から第１のマーキング用マスク１１
に照射される。この第１のマーキング用マスク１１には
文字、記号などの道孔１２が穿設されているため、レー
ザビーム３の一部は透孔１２を透過し、さらに結像光学
系６を介して第１の被マーキング面７に結像される。し
たがって、第１の被マーキング面７には前記第１のマー
キング用マスク１１の透孔１２によって得られたマーク
か形成される。このとき、前記第１のマーキング用マス
ク１１秤照射されたレーザビーム３の一部、つまり透孔
１２から外れたレーザビーム３は第１のマーキング用マ
スク１１によって反射され、この反射レーザビーム１３
は第２のマーキング用マスク１５に照射される。反則レ
ーザビーム１３はレーザビーム３の広がりの不均一性お
よびマーキング用マスク１１の表面粗さや平面度および
透孔５の幅がレーザビーム３の大きさと比較して極めて
小さいこと＜１／４０以下）などの原因からマーキング
用マスク１５に到達するまでにその強度分布が均一なレ
ーザビームとなっている。
３は出力側ミラー２から第１のマーキング用マスク１１
に照射される。この第１のマーキング用マスク１１には
文字、記号などの道孔１２が穿設されているため、レー
ザビーム３の一部は透孔１２を透過し、さらに結像光学
系６を介して第１の被マーキング面７に結像される。し
たがって、第１の被マーキング面７には前記第１のマー
キング用マスク１１の透孔１２によって得られたマーク
か形成される。このとき、前記第１のマーキング用マス
ク１１秤照射されたレーザビーム３の一部、つまり透孔
１２から外れたレーザビーム３は第１のマーキング用マ
スク１１によって反射され、この反射レーザビーム１３
は第２のマーキング用マスク１５に照射される。反則レ
ーザビーム１３はレーザビーム３の広がりの不均一性お
よびマーキング用マスク１１の表面粗さや平面度および
透孔５の幅がレーザビーム３の大きさと比較して極めて
小さいこと＜１／４０以下）などの原因からマーキング
用マスク１５に到達するまでにその強度分布が均一なレ
ーザビームとなっている。
この第２のマーキング用マスク１５にも透孔１６が穿設
されているため、反射レーザビーム１３の一部は透孔１
６を透過し、さらに結像光学系１７を介して第２の被マ
ーキング面１８に結像される。
されているため、反射レーザビーム１３の一部は透孔１
６を透過し、さらに結像光学系１７を介して第２の被マ
ーキング面１８に結像される。
したがって、第１のマーキング用マスク１１によって反
射された反射レーザビーム１３がレーザ発振器１の出力
側ミラー２に戻ることはなく、出力側ミラー２の損傷を
未然に防止することができるとともに、その反射レーザ
ビーム１３によって別の被マーキング面１８にマーキン
グすることができ、２ケ所で同時にマーキングが可能と
なり、レーザビームを有効に利用できる。
射された反射レーザビーム１３がレーザ発振器１の出力
側ミラー２に戻ることはなく、出力側ミラー２の損傷を
未然に防止することができるとともに、その反射レーザ
ビーム１３によって別の被マーキング面１８にマーキン
グすることができ、２ケ所で同時にマーキングが可能と
なり、レーザビームを有効に利用できる。
なお、前記一実施例においては、第１のマーキング用マ
スク１１の反射レーザビーム１３を第２のマーキング用
マスク１５に照射し、第２の被マーキング面１８に結像
するようにしたが、第２のマーキング用マスク１５の反
射レーザビームを利用して第３のマーキングを行なうこ
ともできる。
スク１１の反射レーザビーム１３を第２のマーキング用
マスク１５に照射し、第２の被マーキング面１８に結像
するようにしたが、第２のマーキング用マスク１５の反
射レーザビームを利用して第３のマーキングを行なうこ
ともできる。
以上説明したように、この発明によれば、レーザビーム
の光路にこのレーザビームに対して傾斜する第１のマー
キング用マスクを設けるとともに、この第１のマーキン
グ用マスクから反射する反射レーザビームの反射光路に
この反射レーザビームに対して傾斜する第２のマーキン
グ用マスクを設けたから、反射レーザビームによるレー
ザ発振器のｌｆｌを未然に防止することができるととも
に、反射レーザビームによって第２のマーキングが同時
に行なえ、レーザビームを有効に利用することができる
という効果を奏する。
の光路にこのレーザビームに対して傾斜する第１のマー
キング用マスクを設けるとともに、この第１のマーキン
グ用マスクから反射する反射レーザビームの反射光路に
この反射レーザビームに対して傾斜する第２のマーキン
グ用マスクを設けたから、反射レーザビームによるレー
ザ発振器のｌｆｌを未然に防止することができるととも
に、反射レーザビームによって第２のマーキングが同時
に行なえ、レーザビームを有効に利用することができる
という効果を奏する。
第１図はこの発明の一実施例を示すレーザマーキング装
置全体の構成図、第２図は従来のレーザマーキング装置
の構成図、第３図はマスクの正面図である。 １・・・レーザ発振器、３・・・レーザビーム、 ６゜
１７・・・結像光学系、７．１８・・・被マーキング面
、８．１４・・・光路、１１・・・第１のマーキング用
マスク、１２・・・透孔、１３・・・反射レーザビーム
、１５・・・第２のマーキング用マスク。
置全体の構成図、第２図は従来のレーザマーキング装置
の構成図、第３図はマスクの正面図である。 １・・・レーザ発振器、３・・・レーザビーム、 ６゜
１７・・・結像光学系、７．１８・・・被マーキング面
、８．１４・・・光路、１１・・・第１のマーキング用
マスク、１２・・・透孔、１３・・・反射レーザビーム
、１５・・・第２のマーキング用マスク。
Claims (1)
- レーザ発振器から発振されたレーザビームを光路に設置
したマスクの透孔から透過したのち結像光学系によって
被マーキング面に結像するレーザマーキング装置におい
て、前記レーザビームの光路にこのレーザビームに対し
て傾斜する第１のマーキング用マスクを設けるとともに
、この第１のマーキング用マスクから反射する反射レー
ザビームの反射光路にこの反射レーザビームに対して傾
斜する第２のマーキング用マスクを設けたことを特徴と
するレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215723A JPS6194793A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215723A JPS6194793A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6194793A true JPS6194793A (ja) | 1986-05-13 |
| JPH0251390B2 JPH0251390B2 (ja) | 1990-11-07 |
Family
ID=16677111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59215723A Granted JPS6194793A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6194793A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0562590U (ja) * | 1992-02-01 | 1993-08-20 | 保男 米盛 | 丸編み機 |
| RU2696804C1 (ru) * | 2018-12-20 | 2019-08-06 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Способ маркировки поверхности контролируемыми периодическими структурами |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5251642U (ja) * | 1975-10-13 | 1977-04-13 | ||
| JPS5295425U (ja) * | 1976-01-14 | 1977-07-16 | ||
| JPS58162348A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | レ−ザ−印刷装置 |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59215723A patent/JPS6194793A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5251642U (ja) * | 1975-10-13 | 1977-04-13 | ||
| JPS5295425U (ja) * | 1976-01-14 | 1977-07-16 | ||
| JPS58162348A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | レ−ザ−印刷装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0562590U (ja) * | 1992-02-01 | 1993-08-20 | 保男 米盛 | 丸編み機 |
| RU2696804C1 (ru) * | 2018-12-20 | 2019-08-06 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Способ маркировки поверхности контролируемыми периодическими структурами |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0251390B2 (ja) | 1990-11-07 |
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