JPS6181619A - 半導体ウエハ熱処理炉用ボ−トロ−ダシステム - Google Patents
半導体ウエハ熱処理炉用ボ−トロ−ダシステムInfo
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- JPS6181619A JPS6181619A JP20315684A JP20315684A JPS6181619A JP S6181619 A JPS6181619 A JP S6181619A JP 20315684 A JP20315684 A JP 20315684A JP 20315684 A JP20315684 A JP 20315684A JP S6181619 A JPS6181619 A JP S6181619A
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- quartz
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- boat loader
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/22—Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体クエハを熱処理炉内に挿入及び引き出し
動作を行うボートローダシステムに関するものである。
動作を行うボートローダシステムに関するものである。
従来、半導体ウェハ熱処理炉システムに於いて、第３図
に示すように半導体ウェハ３ａを熱処理炉５ａ内に挿入
するときには、半導体ウェハを石英ボート４ａに乗せ、
この石英ボート４ａの一端を石英棒７を介してボートロ
ーダ２で押して該半導体ウェハを処理位置まで挿入して
いる。６ａはプロセスチェープである。ところで、半導
体ウェハの処理枚数を増加させるために、熱処理炉が大
型化され、それに伴ってボートローダが半導体ウェハを
炉内に挿入させるストロークも長くなっている。
に示すように半導体ウェハ３ａを熱処理炉５ａ内に挿入
するときには、半導体ウェハを石英ボート４ａに乗せ、
この石英ボート４ａの一端を石英棒７を介してボートロ
ーダ２で押して該半導体ウェハを処理位置まで挿入して
いる。６ａはプロセスチェープである。ところで、半導
体ウェハの処理枚数を増加させるために、熱処理炉が大
型化され、それに伴ってボートローダが半導体ウェハを
炉内に挿入させるストロークも長くなっている。
しかしながら、従来は石英ボード４ａを１台のボートロ
ーダにて後押ししてこれを半導体ウェハの処理位置まで
出し入れするから、熱処理炉の大型に伴なう石英ボート
４ａの移動ストロークの拡大はボートローダ２の実効長
を実質的に長くシ、このことがボートローダンステムの
横方向の設置スペースを大型化する原因となシ、クリー
ンルーム内の専有面積が大きくなってしまい、作業スペ
ースまでも狭くしてしまうという欠点があった。
ーダにて後押ししてこれを半導体ウェハの処理位置まで
出し入れするから、熱処理炉の大型に伴なう石英ボート
４ａの移動ストロークの拡大はボートローダ２の実効長
を実質的に長くシ、このことがボートローダンステムの
横方向の設置スペースを大型化する原因となシ、クリー
ンルーム内の専有面積が大きくなってしまい、作業スペ
ースまでも狭くしてしまうという欠点があった。
本発明の目的は、ボートローダの移動ストローりを短く
したボートローダシステムを提供するものである。
したボートローダシステムを提供するものである。
本発明は熱処理炉内に半導体クエ・・を差込位置を通過
させてその奥の処理位置まで出し入れするボートローダ
システムにおいて、半導体ウニ／′−を熱処理炉の差込
位置まで送り込む第１段目のボートローダと、該半導体
ウェノ・を差込位置より処理位置まで送）込む第２段目
のボートローダとを有することを特徴とする半導体ウェ
ハ熱処理炉用ボートローダシステムである。
させてその奥の処理位置まで出し入れするボートローダ
システムにおいて、半導体ウニ／′−を熱処理炉の差込
位置まで送り込む第１段目のボートローダと、該半導体
ウェノ・を差込位置より処理位置まで送）込む第２段目
のボートローダとを有することを特徴とする半導体ウェ
ハ熱処理炉用ボートローダシステムである。
以下に、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、熱処理炉５ｂ内に差込位置５ｂ１と処
理位置５ｂｚとの間で移動する石英親ボー）１０を設け
、かつ該ボート１０の一端を炉外に延長させてこれを第
２段目のボートローダ９に連結する。
理位置５ｂｚとの間で移動する石英親ボー）１０を設け
、かつ該ボート１０の一端を炉外に延長させてこれを第
２段目のボートローダ９に連結する。
一方、前記石英親ボート１０上に複数枚の半導体ウェハ
３ｂの支持用石英ボー）４ｂを滑走可能に載置し、かつ
前記ボートローダ９に第１段目のボードローダ８を並列
に並べて設置してボートローダシステム１を構成する。
３ｂの支持用石英ボー）４ｂを滑走可能に載置し、かつ
前記ボートローダ９に第１段目のボードローダ８を並列
に並べて設置してボートローダシステム１を構成する。
６ｂはプロセスチューブである。
実施例において、第２図（１）がボートｏ−デフステム
の初期状態であり、この状態において、第１段目のボー
トローダ８を駆動して該ローダ８にて石英ボード４ｂを
石英親ボート８上に滑走させてこれを熱処理炉５ｂの差
込位置５ｂ１まで挿入する（第２図（■））。次いで、
石英ボート４ｂよシ第１段目のボートローダ８を切り離
すとともに、第２段目のボートローダ９を駆動して石英
ボート４ｂを乗せたまま石英親ボート１０を熱処理炉５
ｂ内にさらに挿入し、最終的に石英ボート４ｂの半導体
ウニノー、３ｂを処理位置５ｂｚまで送り込む。熱処理
炉５ｂ内での処理が終了した半導体ウエノ・を炉外に取
り出すには前記動作と逆のことを行なえば良い。
の初期状態であり、この状態において、第１段目のボー
トローダ８を駆動して該ローダ８にて石英ボード４ｂを
石英親ボート８上に滑走させてこれを熱処理炉５ｂの差
込位置５ｂ１まで挿入する（第２図（■））。次いで、
石英ボート４ｂよシ第１段目のボートローダ８を切り離
すとともに、第２段目のボートローダ９を駆動して石英
ボート４ｂを乗せたまま石英親ボート１０を熱処理炉５
ｂ内にさらに挿入し、最終的に石英ボート４ｂの半導体
ウニノー、３ｂを処理位置５ｂｚまで送り込む。熱処理
炉５ｂ内での処理が終了した半導体ウエノ・を炉外に取
り出すには前記動作と逆のことを行なえば良い。
本発明は以上説明したように、ボートローダシステムに
より半導体ウェハを熱処理炉に挿入及び引き出し動作を
行う場合に従来のボートストロークの長い一台のボート
ローダで操作させるより、第一段ボートローダと第二段
ボートローダの二台で操作させることによりボートスト
ロークを短く出来、ボートローダシステムの設置スペー
スを小型化できる。このことは、最近の半導体プロセス
が多岐にわたっており、設備の稼動台数におよぼす影響
が犬であることや、熱処理工程は処理時間がかかるとい
う点で半導体ウエノ１の処理能力が限られることなどか
らシステムの小型化により、フリー／ルームのレイアウ
トに自由度をもたせるとともに、作業性を向上できる効
果を有するものである。
より半導体ウェハを熱処理炉に挿入及び引き出し動作を
行う場合に従来のボートストロークの長い一台のボート
ローダで操作させるより、第一段ボートローダと第二段
ボートローダの二台で操作させることによりボートスト
ロークを短く出来、ボートローダシステムの設置スペー
スを小型化できる。このことは、最近の半導体プロセス
が多岐にわたっており、設備の稼動台数におよぼす影響
が犬であることや、熱処理工程は処理時間がかかるとい
う点で半導体ウエノ１の処理能力が限られることなどか
らシステムの小型化により、フリー／ルームのレイアウ
トに自由度をもたせるとともに、作業性を向上できる効
果を有するものである。
第１図は本発明の一実施例を示す図、′第２図（１）、
（ＩＩ）、（ＩＩＩ）は、本発明の一実施例の動作手順
を示す図、第３図は従来のボートローダンステムを示す
図である。 １・・・・・・ボートローダシステム、３ｂ・・・・・
・半導体ウェハ、４ｂ・・・・・・石英ボート、５ｂ・
・・・・・熱処理炉、 ８・・・・・・第一段ボートロ
ーダ、 ９・・・・・・第二段ボートローダ、１０・
・・・・・石英親ボート／−−−−−ボートローダンス
テム ５ｂ−−ｍ−熱処理炉 ５ｂｔ−＝−差込イ装置 ５ｂｚ−ｍ−処理位置
（ＩＩ）、（ＩＩＩ）は、本発明の一実施例の動作手順
を示す図、第３図は従来のボートローダンステムを示す
図である。 １・・・・・・ボートローダシステム、３ｂ・・・・・
・半導体ウェハ、４ｂ・・・・・・石英ボート、５ｂ・
・・・・・熱処理炉、 ８・・・・・・第一段ボートロ
ーダ、 ９・・・・・・第二段ボートローダ、１０・
・・・・・石英親ボート／−−−−−ボートローダンス
テム ５ｂ−−ｍ−熱処理炉 ５ｂｔ−＝−差込イ装置 ５ｂｚ−ｍ−処理位置
Claims (1)
- （１）熱処理炉内に半導体ウェハを差込位置を通過させ
てその奥の処理位置まで出し入れするボートローダシス
テムにおいて、半導体ウェハを熱処理炉の差込位置まで
送り込む第１段目のボートローダと、該半導体ウェハを
差込位置より処理位置まで送り込む第２段目のボートロ
ーダとを有することを特徴とする半導体ウェハ熱処理炉
用ボートローダシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20315684A JPS6181619A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 半導体ウエハ熱処理炉用ボ−トロ−ダシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20315684A JPS6181619A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 半導体ウエハ熱処理炉用ボ−トロ−ダシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6181619A true JPS6181619A (ja) | 1986-04-25 |
Family
ID=16469356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20315684A Pending JPS6181619A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 半導体ウエハ熱処理炉用ボ−トロ−ダシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6181619A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2573059C2 (ru) * | 2010-06-04 | 2016-01-20 | Син-Эцу Кемикал Ко., Лтд. | Печь термообработки |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP20315684A patent/JPS6181619A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2573059C2 (ru) * | 2010-06-04 | 2016-01-20 | Син-Эцу Кемикал Ко., Лтд. | Печь термообработки |
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