JPS6164623A - 平らな部材を移送する装置 - Google Patents
平らな部材を移送する装置Info
- Publication number
- JPS6164623A JPS6164623A JP60105742A JP10574285A JPS6164623A JP S6164623 A JPS6164623 A JP S6164623A JP 60105742 A JP60105742 A JP 60105742A JP 10574285 A JP10574285 A JP 10574285A JP S6164623 A JPS6164623 A JP S6164623A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cradle
- pick
- wafer
- carrier
- intermediate station
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/137—Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette
- Y10S414/138—Wafers positioned vertically within cassette
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/18—Mechanical movements
- Y10T74/18568—Reciprocating or oscillating to or from alternating rotary
- Y10T74/18832—Reciprocating or oscillating to or from alternating rotary including flexible drive connector [e.g., belt, chain, strand, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/18—Mechanical movements
- Y10T74/18888—Reciprocating to or from oscillating
- Y10T74/1892—Lever and slide
- Y10T74/18968—Flexible connections
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は、キャリアあるいはポートの中に１６かれてい
る半導体のウェハのような平らな対象物または部材を自
動的に配置するための装置に関する。
る半導体のウェハのような平らな対象物または部材を自
動的に配置するための装置に関する。
半導体ウェハをプラスチンクポートからクォーツ処理ボ
ートへ（その中で部材は拡散炉に導かれる）、あるいは
その逆に、ウェハの表面に汚染をきたすことなく、迅速
に自動的に移送することは好ましいことである。そのよ
うな汚染は、クォーツポートにウェハを配置する間にウ
ェハが配置されるスロットにウェハが当ってひっかさを
作り。
ートへ（その中で部材は拡散炉に導かれる）、あるいは
その逆に、ウェハの表面に汚染をきたすことなく、迅速
に自動的に移送することは好ましいことである。そのよ
うな汚染は、クォーツポートにウェハを配置する間にウ
ェハが配置されるスロットにウェハが当ってひっかさを
作り。
そこから生ずることが多い。同時に汚染は、移送を実行
するために使用される装置の中の部品のひっかきゃすへ
りからも生じる可能性かある。
するために使用される装置の中の部品のひっかきゃすへ
りからも生じる可能性かある。
１９８２年５月２４日登録の合衆国特許第３８１１９１
号は、平行な方向に可動な２個のトロリ（１個はクォー
ツポート、もう１個はプラスチックポートのためのもの
）と、トロリかスロットを定位置に動かすにつれて反対
の方向に動きポートの中の異なるスロットにある異なる
ウェハに係合する真空ピンクアンプアームを有する従来
のウェハ移送取扱い装置を開示している。これらの応用
において記述される装置を使用するにおいては、ウェハ
の前面と後面は、典型的にはプラスチックボートとクォ
ーツポートの中で同じ方向にある。
号は、平行な方向に可動な２個のトロリ（１個はクォー
ツポート、もう１個はプラスチックポートのためのもの
）と、トロリかスロットを定位置に動かすにつれて反対
の方向に動きポートの中の異なるスロットにある異なる
ウェハに係合する真空ピンクアンプアームを有する従来
のウェハ移送取扱い装置を開示している。これらの応用
において記述される装置を使用するにおいては、ウェハ
の前面と後面は、典型的にはプラスチックボートとクォ
ーツポートの中で同じ方向にある。
半導体の面の方向を、プラスチック貯蔵ポートから取出
し、クォーツポートの中に配置する間に変更することが
望まれる場合は、例えば、ウェハの取扱いに影響するた
めにウェハの後面と後面を向い合わせて置くような場合
は、ウェハは手により、あるいは回転キャリアにより、
例えば大量移送システムによって移送されねばならず、
そこには何かウェハの汚染あるいは損傷の結果を生ずる
ｒ＋７能性がある。
し、クォーツポートの中に配置する間に変更することが
望まれる場合は、例えば、ウェハの取扱いに影響するた
めにウェハの後面と後面を向い合わせて置くような場合
は、ウェハは手により、あるいは回転キャリアにより、
例えば大量移送システムによって移送されねばならず、
そこには何かウェハの汚染あるいは損傷の結果を生ずる
ｒ＋７能性がある。
本発明の實約
一般に１本発明は、平らな部材（例えばウェハ）を２個
のキャリア（例えばプラスチック及びクォーツ貯蔵ポー
ト）の間の取上げ装置により移送する間に１つの方向を
向いた取上げ装置δからの一＋ｉらな部材を受取りその
部材の方向をそれが取上げ装置により取除かれる前に変
える中間ステイションを供給することにより、その部材
の方向を変えることを特徴とする。
のキャリア（例えばプラスチック及びクォーツ貯蔵ポー
ト）の間の取上げ装置により移送する間に１つの方向を
向いた取上げ装置δからの一＋ｉらな部材を受取りその
部材の方向をそれが取上げ装置により取除かれる前に変
える中間ステイションを供給することにより、その部材
の方向を変えることを特徴とする。
好ましい実施例においては、中間ステイションは部材を
受取り回転させるためのクレードルを有し、真空アクチ
ュエータがクレードルを駆動させるために使用され、該
７クチユエータは駆動軸にあるブーりに係合しているケ
イブルを経てクレードルのための該駆動軸へ連結されて
いて、真空アクチュエータが１方向にクレードルを回転
させ。
受取り回転させるためのクレードルを有し、真空アクチ
ュエータがクレードルを駆動させるために使用され、該
７クチユエータは駆動軸にあるブーりに係合しているケ
イブルを経てクレードルのための該駆動軸へ連結されて
いて、真空アクチュエータが１方向にクレードルを回転
させ。
クレードルを他の方向に回転させる第二の真空アクチュ
エータがあり、真空アクチュエータを真空源へ選択的に
接続する複数のバルブがあり、それにより連結されてい
ない該アクチュエータは速度を調整し、それにより連結
されているアクチュエータがクレードルを回転させる。
エータがあり、真空アクチュエータを真空源へ選択的に
接続する複数のバルブがあり、それにより連結されてい
ない該アクチュエータは速度を調整し、それにより連結
されているアクチュエータがクレードルを回転させる。
そこには、部材が取上げ装置により動かされるための予
定された位置を通り過ぎていかないようにクレードルの
回転を防ぐ停止装置があり、該停止装置は、クレードル
と共に回転するために取付けられたディスクと、ディス
クに取付けられたストップパーと、クレードルがウェハ
を取上げる位置まで回転した場合にストップパーに出会
うよう対応したストップ部材とを備えて成り、該ディス
クはそれを貫通している開口部を有し、そこにはエネル
ギービーム源と開口部を探知するセンサとがあり、取上
げ装置は反対側のパドル表面でウェハに係合するために
取付けられた平らな取上げパドルを有し、クレードルは
一度に２個のウェハを受取るための２組のスロットを有
し、キャリアは、平行な方向に動くために取付けられた
摺動可能なトロリにより支持され、１該取上げ装置、は
横方向に可動なアームをり１１えて成り、中間ステイシ
ョンはトロリの上に移動のために取付けられている。
定された位置を通り過ぎていかないようにクレードルの
回転を防ぐ停止装置があり、該停止装置は、クレードル
と共に回転するために取付けられたディスクと、ディス
クに取付けられたストップパーと、クレードルがウェハ
を取上げる位置まで回転した場合にストップパーに出会
うよう対応したストップ部材とを備えて成り、該ディス
クはそれを貫通している開口部を有し、そこにはエネル
ギービーム源と開口部を探知するセンサとがあり、取上
げ装置は反対側のパドル表面でウェハに係合するために
取付けられた平らな取上げパドルを有し、クレードルは
一度に２個のウェハを受取るための２組のスロットを有
し、キャリアは、平行な方向に動くために取付けられた
摺動可能なトロリにより支持され、１該取上げ装置、は
横方向に可動なアームをり１１えて成り、中間ステイシ
ョンはトロリの上に移動のために取付けられている。
本発明のその他の特徴及び利点は、後述の好ましい実施
例の説明及び特許請求の範囲にある説明において明白で
ある。
例の説明及び特許請求の範囲にある説明において明白で
ある。
実施例
第１図を見ると、そこにはプラスチック貯蔵ポート１４
のスロットからクォーツ処理ポーｌ−１６にあるスロッ
トの中へ移動するウニ／＼１３のためのアーム１２を有
するウェハ取扱い装置ｔｏがある。取上げパドル１１は
アーム１２の端に位置し、それの前面と後面に一度に２
個のウェハを取上げ保持することのできる、真空源に連
結された開口部１５を有している。アーム１２はｘ−Ｚ
方向で水平及び垂直に可動である。プラスチックホード
１４及びクォーツポーｈ１６は、トロリ１７．１９によ
りＸ方向に可動で、その詳細は土庄の米国特許出即第３
８１１９１号にある。中間ステイショ７１８は、ウェハ
１３を１つのプラスチックポート１４から取除き、それ
をクォーツホード１６に配置する間に、８凹がある場合
に同ウェハ１３の前面と後面とを反対にするために、没
けられており、プラスチックポート１４と共にＸ方向に
移動するためにトロリ１７に取付けられている。
のスロットからクォーツ処理ポーｌ−１６にあるスロッ
トの中へ移動するウニ／＼１３のためのアーム１２を有
するウェハ取扱い装置ｔｏがある。取上げパドル１１は
アーム１２の端に位置し、それの前面と後面に一度に２
個のウェハを取上げ保持することのできる、真空源に連
結された開口部１５を有している。アーム１２はｘ−Ｚ
方向で水平及び垂直に可動である。プラスチックホード
１４及びクォーツポーｈ１６は、トロリ１７．１９によ
りＸ方向に可動で、その詳細は土庄の米国特許出即第３
８１１９１号にある。中間ステイショ７１８は、ウェハ
１３を１つのプラスチックポート１４から取除き、それ
をクォーツホード１６に配置する間に、８凹がある場合
に同ウェハ１３の前面と後面とを反対にするために、没
けられており、プラスチックポート１４と共にＸ方向に
移動するためにトロリ１７に取付けられている。
第２図乃至第４図を見ると、中間ステイション１８は、
ウェハ１３を受取るためのクレードル２０を含んでいる
ことがわかる。クレードル２０は水平支持バー２２に取
付けられ、支持バー２２は川向駆動軸２４の頂点に固定
されている。駆動軸２４は、それの底部端に固定された
駆動プーリ２６（直径Ｑ、？１３８”）を有している。
ウェハ１３を受取るためのクレードル２０を含んでいる
ことがわかる。クレードル２０は水平支持バー２２に取
付けられ、支持バー２２は川向駆動軸２４の頂点に固定
されている。駆動軸２４は、それの底部端に固定された
駆動プーリ２６（直径Ｑ、？１３８”）を有している。
駆動ケイブル２８は駆動プーリ２６並びにアイドルプー
リ３０と３２（直径０．８”）に係合し、それの両端が
真空アクチュエータ３４と３６（エアポート５Ｌ６０Ｐ
１５０Ｙ）に連結されている。
リ３０と３２（直径０．８”）に係合し、それの両端が
真空アクチュエータ３４と３６（エアポート５Ｌ６０Ｐ
１５０Ｙ）に連結されている。
ディスク３８はプーリ２６の上方で駆動軸２４に取付け
られ、それの上部表面でストップパー４０を支えている
。ス） ｙプ／＜ −４０は、ディスク３８が回転する
と調整止め螺子４２あるいは調整止め螺子４４のどちら
かに当接し、ディスク３８、駆動軸２４、クレードル２
０を停止Ｆさせる。
られ、それの上部表面でストップパー４０を支えている
。ス） ｙプ／＜ −４０は、ディスク３８が回転する
と調整止め螺子４２あるいは調整止め螺子４４のどちら
かに当接し、ディスク３８、駆動軸２４、クレードル２
０を停止Ｆさせる。
ディスク３８はスロット４６と４８をも有し、これらの
１つかそれぞれ赤外線ソースセンサ装置５０あるいは５
２の間に位置したときに、ディスク３８の位置を決定す
る。そのソース及びセンサはディスク３８の上方及び下
方に位置している。調整止め螺子４２．４・４、赤外線
ソースセンサ装置５０．５２、は中間支持板５４に取付
けられている。
１つかそれぞれ赤外線ソースセンサ装置５０あるいは５
２の間に位置したときに、ディスク３８の位置を決定す
る。そのソース及びセンサはディスク３８の上方及び下
方に位置している。調整止め螺子４２．４・４、赤外線
ソースセンサ装置５０．５２、は中間支持板５４に取付
けられている。
クレードルの駆動機構全体はその内部で生ずる汚染から
ウェハを守るためにハウジング５６に入れられている。
ウェハを守るためにハウジング５６に入れられている。
駆動軸２４のベアリング５８と６０はそれぞれハウジン
グ５６の頂板と支持板５４に取付けられている。シール
６２はハウジング５６の上部板と支持パー２２の間の駆
動軸２４に位置している。
グ５６の頂板と支持板５４に取付けられている。シール
６２はハウジング５６の上部板と支持パー２２の間の駆
動軸２４に位置している。
第３図には、２個のウェハを受取るためにクレードル２
０の４箇所の部分６９に設けられた深さ０．０８５イン
チの２組のスロット６６．６８が示されている。部分６
９の位置は、ウェハの周囲の一定の部分のみがクレード
ルに接触することを保証するように、そして同じ公称直
径を有するウェハの小さな直径の変化に対応できるよう
に選択される。
０の４箇所の部分６９に設けられた深さ０．０８５イン
チの２組のスロット６６．６８が示されている。部分６
９の位置は、ウェハの周囲の一定の部分のみがクレード
ルに接触することを保証するように、そして同じ公称直
径を有するウェハの小さな直径の変化に対応できるよう
に選択される。
第５図と第６図は、中間スティション１８の駆動機構を
図示している。真空アクチュエータ３４と３６はソレノ
イド制御バルブ７０と７２にそれぞれ連結している。ソ
レノイドバルブ７０は、アクチュエータ３４のチェンバ
を選択的に真空源７４あるいは絞り弁７６のどちらかに
連結する。ソレノイドバルブ７２は同様に、アクチュエ
ータ３６のチェンバを選択的に真空源７４あるいは絞り
弁７８のどちらかに連結する。真空アクチュエータ３４
のピストン７９遍真空アクチュエータ３６のピストン８
ｏはリンク８２．８４により駆動ケイブル２８の端に連
結されている。
図示している。真空アクチュエータ３４と３６はソレノ
イド制御バルブ７０と７２にそれぞれ連結している。ソ
レノイドバルブ７０は、アクチュエータ３４のチェンバ
を選択的に真空源７４あるいは絞り弁７６のどちらかに
連結する。ソレノイドバルブ７２は同様に、アクチュエ
ータ３６のチェンバを選択的に真空源７４あるいは絞り
弁７８のどちらかに連結する。真空アクチュエータ３４
のピストン７９遍真空アクチュエータ３６のピストン８
ｏはリンク８２．８４により駆動ケイブル２８の端に連
結されている。
操作
ウェハ取扱い装置１０の操作全体は、上述の特許出願に
記述されている。標準の移送行程は、パドル１１にある
アーム１２によりプラスチ、クポート１４からウェハを
取上げ、ウェハを直接クォーツポート１６に配置する。
記述されている。標準の移送行程は、パドル１１にある
アーム１２によりプラスチ、クポート１４からウェハを
取上げ、ウェハを直接クォーツポート１６に配置する。
クォーツポートに配置されたウェハの前面と後面はそれ
らがプラスチ・ンクポート１４にあったのと同じ方向を
保持している。
らがプラスチ・ンクポート１４にあったのと同じ方向を
保持している。
選択されたウェハの方向をクォーツポート１６に配置す
る前に反対にしたい場合は、ウェハをプラスチックポー
ト１４から取出し、それをアーム１２を使用してクレー
ドル２０に置き、ウエハノ面の方向を反対にするために
クレードル２０を１８０″回転させ、クレードル２０か
らウェハを取出してクォーツポート１６へ置く、ウェハ
は手動によるのでなく機械的に中間ステイション１８に
より回転させられるので、それらは単純かつ効果的に回
転し、損傷や汚染から守られる。
る前に反対にしたい場合は、ウェハをプラスチックポー
ト１４から取出し、それをアーム１２を使用してクレー
ドル２０に置き、ウエハノ面の方向を反対にするために
クレードル２０を１８０″回転させ、クレードル２０か
らウェハを取出してクォーツポート１６へ置く、ウェハ
は手動によるのでなく機械的に中間ステイション１８に
より回転させられるので、それらは単純かつ効果的に回
転し、損傷や汚染から守られる。
第２図に見られる最初の位置から時計回りの方向に１８
０°グレートルを回転させるために、第５図に見られる
ようにソレノイドバルブ７０．７２かｉｔ、ＩＩ御位置
に置かれ、マイクロプロセンサコントローラ（示されて
いない）からの制御４５号を受取ることにより、ソレノ
イドバルブ７０が真空源７４に連結され、ソレノイドバ
ルブ７２が絞り弁７８に連結される。これにより、真空
アクチュエータ３４にあるピストン７９がアイドルプー
リ３２から離れ、それにより駆動ケイブル２８を引く。
０°グレートルを回転させるために、第５図に見られる
ようにソレノイドバルブ７０．７２かｉｔ、ＩＩ御位置
に置かれ、マイクロプロセンサコントローラ（示されて
いない）からの制御４５号を受取ることにより、ソレノ
イドバルブ７０が真空源７４に連結され、ソレノイドバ
ルブ７２が絞り弁７８に連結される。これにより、真空
アクチュエータ３４にあるピストン７９がアイドルプー
リ３２から離れ、それにより駆動ケイブル２８を引く。
それによりケイブルが引かれる速度は、絞り弁７８によ
りピストン８０に働く抵抗がどれくらいであるかにより
決定される。
りピストン８０に働く抵抗がどれくらいであるかにより
決定される。
７’７ｆユエータ３４へ向かう駆動ケイブル２８の動き
は、駆動プーリ２６（これの上に駆動ケイブル２８がス
リップを防ぐために数回巻かれている）を時計回りの方
向に回転させ、順番にそれに相応して駆動軸２４、クレ
ードル２０を回転させる。クレードル２０の回転の範囲
は、駆動軸２４を回転させるために取付けられたディス
ク３８により１８０°に制限されている。すなわち前記
ディスクの回転は、それに取付けられたストップバー４
０が止め螺子４２に出接することにより１８０” に制
限される。この位置においてスロット４６は赤外線ソー
スセンサ５２と整合し、クレードル２０かその位置にあ
るという信号をコントａ−ラに供給する。絞り弁７８は
駆動軸２４とクレードル２０を５秒間で回転するよう作
用する。
は、駆動プーリ２６（これの上に駆動ケイブル２８がス
リップを防ぐために数回巻かれている）を時計回りの方
向に回転させ、順番にそれに相応して駆動軸２４、クレ
ードル２０を回転させる。クレードル２０の回転の範囲
は、駆動軸２４を回転させるために取付けられたディス
ク３８により１８０°に制限されている。すなわち前記
ディスクの回転は、それに取付けられたストップバー４
０が止め螺子４２に出接することにより１８０” に制
限される。この位置においてスロット４６は赤外線ソー
スセンサ５２と整合し、クレードル２０かその位置にあ
るという信号をコントａ−ラに供給する。絞り弁７８は
駆動軸２４とクレードル２０を５秒間で回転するよう作
用する。
このゆっくりとした回転はクレードル２０にあるウェハ
のきしみを最少限に押え、それによりウェハの損傷の可
能性を最少限にする。
のきしみを最少限に押え、それによりウェハの損傷の可
能性を最少限にする。
第２図に見られる位置に戻すためには、クレードル２０
を反時計回りに回転して、ソレノイドバルブ７０．７２
か第６図に見られる制御位置に置かれ、ソレノイドバル
ブ７２は真空源７４と連結され、ソレノイドバルブ７０
が絞り弁７６に連結され、ケイブル２８を反対の方向へ
動かす。クレードル２０は、ストップパー４０が止め螺
子４４に到達するまで、それに対応する方向に１８０″
動く。かくて、それの最初の位置に戻り、そこでスロッ
ト４８は赤外線ソースセンサ５０と整合する。
を反時計回りに回転して、ソレノイドバルブ７０．７２
か第６図に見られる制御位置に置かれ、ソレノイドバル
ブ７２は真空源７４と連結され、ソレノイドバルブ７０
が絞り弁７６に連結され、ケイブル２８を反対の方向へ
動かす。クレードル２０は、ストップパー４０が止め螺
子４４に到達するまで、それに対応する方向に１８０″
動く。かくて、それの最初の位置に戻り、そこでスロッ
ト４８は赤外線ソースセンサ５０と整合する。
中間ステイション１８は１個又はそれ以上のウェハの面
の方向を、プラスチックポート１４からクォーツポート
１６に置く間に、反対向きにするために使用することが
できる０例えば、ウェハは交互に反対向きにすることが
でき、それにより、ウェハ同士が後述め方法で後面を非
常に接近させて置かれる（例えばパドル１１の幅）、ア
ーム１２はウェハ１３をプラスチンクポー）１４からパ
ドル１１の上に取上げ、それを反転させるためにクレー
ドル２０に置く。そのウェハが反対にされている間に、
アーム１２は他のウェハをプラスチックボート１４から
取上げてパドル１３に置く、１個面に反対にされない第
二のウェハを保持したまま、パドル１３はその他の側面
にクレードル２０から反対向きにされたウェハを取上げ
る。
の方向を、プラスチックポート１４からクォーツポート
１６に置く間に、反対向きにするために使用することが
できる０例えば、ウェハは交互に反対向きにすることが
でき、それにより、ウェハ同士が後述め方法で後面を非
常に接近させて置かれる（例えばパドル１１の幅）、ア
ーム１２はウェハ１３をプラスチンクポー）１４からパ
ドル１１の上に取上げ、それを反転させるためにクレー
ドル２０に置く。そのウェハが反対にされている間に、
アーム１２は他のウェハをプラスチックボート１４から
取上げてパドル１３に置く、１個面に反対にされない第
二のウェハを保持したまま、パドル１３はその他の側面
にクレードル２０から反対向きにされたウェハを取上げ
る。
反対向きにされていないウェハは、クレードル２０から
反対向きにされたウェハを取上げる間にクレードル２０
にある第二のスロットの組により収容される（第３図）
。この２枚のウェハは次にクォーツボート１６に置かれ
る。
反対向きにされたウェハを取上げる間にクレードル２０
にある第二のスロットの組により収容される（第３図）
。この２枚のウェハは次にクォーツボート１６に置かれ
る。
真空アクチュエータ／絞り弁機構を使用する１つの利点
は、真空を利用することにより、正圧力を利用する場合
と反対に、潜在的な汚染を吸収することにより汚染を防
ぐことである。別の利点は、その簡素性にある。つまり
それの操作のために必要とされる電気結合及び制御が少
ないことである。
は、真空を利用することにより、正圧力を利用する場合
と反対に、潜在的な汚染を吸収することにより汚染を防
ぐことである。別の利点は、その簡素性にある。つまり
それの操作のために必要とされる電気結合及び制御が少
ないことである。
以上、本発明の一実施例につき述べたが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
例えば、絞り弁７６．７８を設ける代りに、制限された
空気流を生ずるよう、真空アクチュエータ３４．３６に
わずかな漏れを生じるようにすることができる。同様に
、ケイブル２８とプーリ２６．３０．３２の位置にチェ
インとスプロケット機構あるいはその他の機械的リンク
機構を使用することもできる。又同様に、フレドル２ｏ
をウェハを受取るためのスロットのついたテフロン製の
４個（又はそれ以外の数）の水平部材を有する前置の板
で製造することもできる。この構造の利点は、スロット
の形態と水モ部材の位置を変更することができる点であ
る。
空気流を生ずるよう、真空アクチュエータ３４．３６に
わずかな漏れを生じるようにすることができる。同様に
、ケイブル２８とプーリ２６．３０．３２の位置にチェ
インとスプロケット機構あるいはその他の機械的リンク
機構を使用することもできる。又同様に、フレドル２ｏ
をウェハを受取るためのスロットのついたテフロン製の
４個（又はそれ以外の数）の水平部材を有する前置の板
で製造することもできる。この構造の利点は、スロット
の形態と水モ部材の位置を変更することができる点であ
る。
第１図は、本発明に従ったウェハ取扱い装置の概略斜視
図である。 第２図は、第１図の装だの中間ステイションの一部切欠
斜視図である。 第３図は、第２図の３−３の断面図である。 第４図は、第１図のクレードルが回転した状態を同図の
４−４線に沿って見た図である。 第５図と第６図は、第２図の真空駆動システムの概略図
である。 ｌＯウェハ取扱い装置、１１ピツクアツプパドル、１２
アーム、１３ウエハ、１４プラスチツク貯蔵ポート、１
５開口部、１６クオーツ処理ポート、１７トロリ、１８
中間ステイション 、１９トロリ、２０クレードル、２
２水平支持／曳−１２４垂直駆動軸、２６ドライブプー
リ、２８ドライブケイブル、３０アイドルプーリ、３２
アイドルプーリ、３４真空アクチュエータ、３６真空ア
クチュエータ、３８デイスク、４０ストツプパー、４２
止め螺子、４４止め螺子、４６スロント、４８スロツト
、５０ソースセン、す装置、５２ソースセンサ装置、５
４中間支持板、５６ハウジング、５８へ７リング、６０
ヘアリ／グ、６２シール、６６スロント、６８スロント
、６９４個の部分、７０ソレノイドバルブ、７２ソレノ
イドバルブ、７４真空源、７６絞り弁、７８絞り弁。 ７９ピストン、８０ピストン、８２リンク、８４リンク ζ３４；２ 明細−ｊｆ ！／） ｉ＋；）ご内ごに変更なし）手
ｎ 、、ｐ Ｅ 、τ）゛（方ｊヨｔ、
）Ｊ２和 （、年 ７ ＋ｉ ／ｊ ’ＬＪ４鴇’Ｆｌ
〒しく官 宇 ご′（コ１ユ 部 殿３補正をする
者 ′■注七り閏５ 出 頚 人 住所 、／、 ’：’ｔ、 −ｙ−、−：二’／７．
イ；’？−ナー＋ｊｌｌ−イーツーす゛ｌ−；、１−
４代理人
図である。 第２図は、第１図の装だの中間ステイションの一部切欠
斜視図である。 第３図は、第２図の３−３の断面図である。 第４図は、第１図のクレードルが回転した状態を同図の
４−４線に沿って見た図である。 第５図と第６図は、第２図の真空駆動システムの概略図
である。 ｌＯウェハ取扱い装置、１１ピツクアツプパドル、１２
アーム、１３ウエハ、１４プラスチツク貯蔵ポート、１
５開口部、１６クオーツ処理ポート、１７トロリ、１８
中間ステイション 、１９トロリ、２０クレードル、２
２水平支持／曳−１２４垂直駆動軸、２６ドライブプー
リ、２８ドライブケイブル、３０アイドルプーリ、３２
アイドルプーリ、３４真空アクチュエータ、３６真空ア
クチュエータ、３８デイスク、４０ストツプパー、４２
止め螺子、４４止め螺子、４６スロント、４８スロツト
、５０ソースセン、す装置、５２ソースセンサ装置、５
４中間支持板、５６ハウジング、５８へ７リング、６０
ヘアリ／グ、６２シール、６６スロント、６８スロント
、６９４個の部分、７０ソレノイドバルブ、７２ソレノ
イドバルブ、７４真空源、７６絞り弁、７８絞り弁。 ７９ピストン、８０ピストン、８２リンク、８４リンク ζ３４；２ 明細−ｊｆ ！／） ｉ＋；）ご内ごに変更なし）手
ｎ 、、ｐ Ｅ 、τ）゛（方ｊヨｔ、
）Ｊ２和 （、年 ７ ＋ｉ ／ｊ ’ＬＪ４鴇’Ｆｌ
〒しく官 宇 ご′（コ１ユ 部 殿３補正をする
者 ′■注七り閏５ 出 頚 人 住所 、／、 ’：’ｔ、 −ｙ−、−：二’／７．
イ；’？−ナー＋ｊｌｌ−イーツーす゛ｌ−；、１−
４代理人
Claims (15)
- （１）第一キャリアと第二キャリアの間で第一及び第二
の面を有する平らな部材を移送する装置において、第一
キャリアと第二キャリアとを支持する装置と；前記部材
を取上げ、第一キャリアと第二キャリアとの間で移送す
る取上げ装置と；前記取上げ装置から前記面が最初の方
向を向いた状態のままで前記部材を受取り、前記取上げ
装置により同部材が取上げられる前に前記面の方向を変
更するための中間ステイション装置とを備えて成る装置
。 - （２）前記中間ステイションが前記部材を受取るための
クレードル装置と、前記クレードル装置を、そこに収ま
る前記部材の前記面に対し平行な軸の回りに回転させる
ための装置とを備えて成ることを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載の装置。 - （３）前記クレードル装置を回転させるための前記装置
が前記クレードル装置を駆動するために連結されている
第一真空アクチュエータを備えて成ることを特徴とする
特許請求の範囲第２項に記載の装置。 - （４）前記アクチュエータが前記駆動軸にあるプーリに
係合するケイブル装置を経て前記駆動軸に連結されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の装置
。 - （５）前記第一真空アクチュエータが前記クレードル装
置を１方向に回転させるために取付けられ、更に前記ク
レードル装置を他の方向に回転させるために取付けられ
た第二真空アクチュエータを備えて成ることを特徴とす
る特許請求の範囲第３項に記載の装置。 - （６）選択的に前記真空アクチュエータを真空源に連結
するためのバルブを備えて成り、連結されていないアク
チュエータが前記クレードル装置を回転させる速度を制
御するようにされていることを特徴とする特許請求の範
囲第５項に記載の装置。 - （７）回転のための前記装置が、前記部材が前記取上げ
装置により取除かれるべき予定された位置を超えるて前
記クレードル装置が回転するのを防ぐための停止装置を
備えて成ることを特徴とする特許請求の範囲第３項に記
載の装置。 - （８）前記停止装置が、前記クレードル装置と共に回転
するために取付けられたディスクと、前記ディスクに取
付けられた停止棒と、ディスクから離れて取付けられた
停止部材とを備え、前記クレードル装置が予定された位
置まで回転したときに、前記ディスクに取付けられた停
止棒が停止部材に出会うようにされていることを特徴と
する特許請求の範囲第７項に記載の装置。 - （９）前記ステイションが前記クレードル装置の位置を
決定するための探知装置を含むことを特徴とする特許請
求の範囲第２項に記載の装置。 - （１０）前記探知装置が、前記クレードル装置と共に回
転するために取付けられたディスクを含み、貫通する開
口部を有し、前記支持部材と開口部と交差する通路に沿
ってエネルギービームを向けるために取付けられ、その
ために位置を占めるエネルギービーム源とを含むことを
特徴とする特許請求の範囲第９項に記載の装置。 - （１１）前記平らな部材がウェハであり、前記クレード
ル装置が前記ウェハを受取るためのスロットを有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の装置。 - （１２）前記前記取上げ装置が対向する両パドル表面に
前記ウェハを係合するための平らな取上げパドルを有し
、前記クレードルが同時に２枚のウェハを受取るための
２組のスロットを有することを特徴とする特許請求の範
囲第１１項に記載の装置。 - （１３）前記第一と第二のキャリアを支持するための前
記装置が平行な方向に沿って移動するための摺動可能に
取付けられたトロリを備えて成り、前記取上げ装置が反
対方向に可動なアームを備えて成り、前記中間ステイシ
ョンが前記トロリと共に移動のために取付けられている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 - （１４）第一の部材を取上げるための前記取上げアーム
の下に第一キャリアを移動させるための装置と；その後
に前記第一部材を受取るために前記中間ステイションを
前記取上げアームの下に移動させる装置と；方向を変え
た状態で前記中間ステイションから前記第一部材を前記
取上げアームが取除いた後で前記取上げアームの下に前
記第二キャリアを移動させる装置と；を備えて成ること
を特徴とする特許請求の範囲第１３項に記載の装置。 - （１５）前記平らな部材が半導体のウェハであり、前記
中間ステイションが同時に２枚のウェハを受取るための
２組のスロットを有するクレードル装置と、前記クレー
ドル装置を回転させる装置とを備えて成り、前記取上げ
装置が対向する２面のパドル表面に２枚のウェハを係合
させるため取付けられた取上げパドルを有し、更に前記
第一キャリアを前記取上げ装置の下の位置に移動させ、
クレードル装置に置かれた一方の面を向けたウェハを取
上げる前に反対の面を向けた第二ウェハを取上げ、両ウ
ェハを前記第二キャリアへと運ぶための装置を備えて成
ることを特徴とする特許請求の範囲第１４項に記載の装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/611,419 US4699556A (en) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | Object handling apparatus |
| US611419 | 1990-11-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6164623A true JPS6164623A (ja) | 1986-04-03 |
Family
ID=24448943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60105742A Pending JPS6164623A (ja) | 1984-05-17 | 1985-05-17 | 平らな部材を移送する装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4699556A (ja) |
| EP (1) | EP0161942B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6164623A (ja) |
| AT (1) | ATE66329T1 (ja) |
| DE (1) | DE3583769D1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5004399A (en) * | 1987-09-04 | 1991-04-02 | Texas Instruments Incorporated | Robot slice aligning end effector |
| US5125784A (en) * | 1988-03-11 | 1992-06-30 | Tel Sagami Limited | Wafers transfer device |
| US4986729A (en) * | 1989-04-24 | 1991-01-22 | Proconics International, Inc. | Wafer transfer apparatus |
| JP2905857B2 (ja) * | 1989-08-11 | 1999-06-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型処理装置 |
| US5162047A (en) * | 1989-08-28 | 1992-11-10 | Tokyo Electron Sagami Limited | Vertical heat treatment apparatus having wafer transfer mechanism and method for transferring wafers |
| US5153841A (en) * | 1990-11-21 | 1992-10-06 | Advanced Micro Devices | Method of and apparatus for semi-conductor wafer selection |
| JPH08288355A (ja) * | 1995-04-12 | 1996-11-01 | Nikon Corp | 基板搬送装置 |
| GB0014526D0 (en) * | 2000-06-15 | 2000-08-09 | Rebanks Christopher H | Massage/manipulation ball |
| KR100428781B1 (ko) * | 2001-04-16 | 2004-04-27 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 이송 장치 및 그 이송 방법 |
| US6988440B2 (en) * | 2002-07-18 | 2006-01-24 | Phd, Inc. | Rotary actuator assembly |
| KR101042655B1 (ko) * | 2006-07-27 | 2011-06-20 | 가부시키가이샤 아드반테스트 | 전자부품 이송방법 및 전자부품 핸들링 장치 |
| JP5582895B2 (ja) * | 2010-07-09 | 2014-09-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダーストッカ装置及び基板処理装置並びに該基板ホルダーストッカ装置を用いた基板ホルダー移動方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB735359A (en) * | 1953-01-09 | 1955-08-17 | English Electric Co Ltd | Improvements relating to gimbal mechanisms |
| GB1032920A (ja) * | 1962-12-05 | 1900-01-01 | ||
| NL129819C (ja) * | 1963-12-06 | |||
| US3340176A (en) * | 1965-07-28 | 1967-09-05 | Western Electric Co | Vacuum processing machine |
| US3385120A (en) * | 1966-07-06 | 1968-05-28 | Rotork Eng Co Ltd | Auxiliary drive unit for an actuator |
| US3503527A (en) * | 1967-05-08 | 1970-03-31 | George C Devol | Article transfer and orienting means |
| US3987685A (en) * | 1974-12-16 | 1976-10-26 | Xerox Corporation | Cursor position device |
| FR2388372A1 (fr) * | 1977-04-20 | 1978-11-17 | Thomson Csf | Platine a rattrapage de niveau et positionneur a indexation mecanique utilisant une telle platine |
| US4466766A (en) * | 1981-05-20 | 1984-08-21 | Ruska Instrument Corporation | Transfer apparatus |
| US4493606A (en) * | 1982-05-24 | 1985-01-15 | Proconics International, Inc. | Wafer transfer apparatus |
| DE3219502C2 (de) * | 1982-05-25 | 1990-04-19 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Vorrichtung zum automatischen Transport scheibenförmiger Objekte |
-
1984
- 1984-05-17 US US06/611,419 patent/US4699556A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-05-17 DE DE8585303486T patent/DE3583769D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-05-17 EP EP85303486A patent/EP0161942B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-17 JP JP60105742A patent/JPS6164623A/ja active Pending
- 1985-05-17 AT AT85303486T patent/ATE66329T1/de active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE66329T1 (de) | 1991-08-15 |
| EP0161942B1 (en) | 1991-08-14 |
| US4699556A (en) | 1987-10-13 |
| DE3583769D1 (de) | 1991-09-19 |
| EP0161942A3 (en) | 1987-06-24 |
| EP0161942A2 (en) | 1985-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6164623A (ja) | 平らな部材を移送する装置 | |
| TW550684B (en) | Holding device for wafer | |
| JP2633808B2 (ja) | 半導体処理システム用のカセット入力／出力装置 | |
| US6435807B1 (en) | Integrated edge gripper | |
| JPH0618231B2 (ja) | 集積回路用ウエハ処理装置 | |
| US5944475A (en) | Rotated, orthogonal load compatible front-opening interface | |
| JPH0630022B2 (ja) | 物体移送装置 | |
| JPH1010705A (ja) | レチクルケース | |
| JPH10112490A (ja) | 半導体ウェハ搬送装置 | |
| JPH11204461A (ja) | フレーム位置決め装置及びフレーム位置決め方法 | |
| JPH0737960A (ja) | ウエハハンドリングロボット用ハンド | |
| JP2673239B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP2004527911A (ja) | プリアライナー及び格納ポッド・アクセス機構を備える集積回路基板ハンドラー | |
| JPH11284059A (ja) | 半導体ウェハ把持装置 | |
| JPH10139157A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JPH07251921A (ja) | 反転装置及び露光システム | |
| EP0238541A1 (en) | MANIPULATOR FOR MECHANICAL STANDARD COUPLING SYSTEMS. | |
| TW202139342A (zh) | 晶圓對準機台 | |
| JPS6015917A (ja) | 分子線エピタキシ装置 | |
| JP3421358B2 (ja) | 搬送方法 | |
| JPS61179549A (ja) | ウエハ検査顕微鏡装置 | |
| JPS6141236Y2 (ja) | ||
| JPH03124625A (ja) | 半導体ウエハ貼付け保持用リングフレームの搬送装置 | |
| JPH059339B2 (ja) | ||
| JPH1012697A (ja) | 基板挿抜装置 |