JPS6161451B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 円盤状の情報記録媒体（以下、デイスクと記載
されることもある）を用いて各種の情報信号を高
密度記録し、それを再生する技術に関しての研究
開発が行なわれた結果、近年になつてデイスクを
用いた各種の高密度記録再生方式が実用化の域に
迄達していることは周知のとおりである。

さて、デイスクの原盤に対して情報信号を高い
記録密度で記録しようとする場合に従来から行な
われている記録手段の代表的なものは、情報信号
によつて変調されたレーザ光ビームの微小なスポ
ツト、あるいは情報信号によつて変調された電子
ビームの微小なスポツトをデイスクの原盤のビー
ム感材層（例えばフオトレジスト層）上に投射す
る、というものであつたが、前記の記録手段の内
で、電子ビームを用いる記録手段は高価な装置の
使用が必要とされるために、デイスクの回転数が
低く設定された場合の他は、安価なレーザ光ビー
ムを用いる記録手段が採用されることが多い。

ところで、デイスクに記録形成されるべき情報
信号による記録跡は、記録跡中から情報信号を読
取るために用いられる再生素子の情報読取り能力
その他多くの要因の存在によつて、ある定められ
た記録跡巾を有するものとなされていることが必
要とされ、そのために、デイスクの原盤に対する
情報信号の記録に当つて投射されるビームスポツ
トが、その断面形状寸法として記録跡の延長方向
の寸法よりも記録跡の巾方向の寸法の方が大きい
というような略々長方形のものとなされることが
あり、その場合にはレーザ光ビームの断面形状を
規制するスリツトを記録レンズまでの光路中に設
けることが行なわれる。

前記のようにレーザ光の通路中にスリツトが設
けられると、スリツトに生じる光の回折によつて
スリツト巾の方向に、零次回折光、１次回折光、
２次回折光……による光の強度分布が現われ、そ
れが現像処理後にデイスクの原盤に形成されるピ
ツトの断面の底面に凹凸を生じさせ、それにより
接触型の再生素子の寿命が短かいものとなつた
り、デイスクが損傷を受け易くなる、その他の欠
点を引き起こすことが問題となつた。

そこで、本出願人会社では、先に、デイスクの
原盤に投射されたレーザ光ビームスポツトを構成
している複数個の次数を異にしている回折光の
個々のものの強度をそれぞれ所定のように定める
ことにより、前記した問題点の生じない断面形状
を備えたビツトを容易にデイスクの原盤に形成さ
せることができるようにするための光学的記録方
法を提案した（特開昭55−146633号公報参照）。

特開昭55−146633号公報によつて開示された本
出願人会社による既提案の光学的記録方法は、情
報記録媒体に対する情報信号の記録を、情報信号
によつて変調され、かつ、その断面形状が略々長
方形であるようなレーザ光ビームスポツトを記録
レンズ（結像レンズ）から情報記録媒体に投射し
て光学的に行なうようにするために、記録レンズ
の入射側までの光路中に設けられた光学系中に、
レーザ光ビームの断面形状を規制するスリツトを
介在させておき、前記したスリツトによつて生じ
た次数の異なる回折光の内で、次数を異にする複
数の回折光が結像のために使用される場合に、結
像のために使用される次数を異にする複数の回折
光の組合わせの態様が、零次回折光と１次回折光
との組合わせ、あるいは零次回折光と１次回折光
と２次回折光との組合わせ、もしくは零次回折光
と１次回折光と２次回折光と３次回折光との組合
わせ、または零次回折光と１次回折光と２次回折
光と３次回折光と４次回折光との組合わせ、その
他というように、複数の次数の異なる回折光の組
合わせの態様がどうであるかに応じて、組合わさ
れている各次数の回折光がそれぞれ異なつた所定
の減衰率での減衰が与えられて前記した記録レン
ズに入射されるようにした手段を備えたものであ
り、この既提案の光学的記録方法の実施により、
デイスクの原盤に形成されるピツトとして、それ
の断面形状における底面に凹凸のない状態のもの
を容易に得ることを可能とした。

前記した光学的記録方法は、単一のレーザ光ビ
ームによつてピツトによる記録跡を記録形成させ
る場合には別段の問題も生じないが、デイスクに
対して主要な情報信号と対応するピツトによる記
録跡と、再生素子を前記した記録跡上に追跡させ
るためのトラツキング情報と対応するピツトによ
る記録跡とを、複数のレーザ光ビームによつて記
録形成させて無溝形態のデイスク（以下、無溝デ
イスクと記載する）を得ようとするような場合に
トラツキング情報と対応するピツトが大きくなつ
たり、記録に使用される複数のレーザ光ビームの
集光状態の監視を良好に行ない得ないことがあ
る、という点が問題となつた。

上記の問題点について具体的に説明すると次の
とおりである。すなわち、無溝デイスクは、例え
ば特開昭53−98814号公報にも開示されているよ
うに、主要な情報信号と対応するピツトを、平坦
な面に渦巻状あるいは同心円状に配列することに
より、平坦な面に渦巻状あるいは同心円状の記録
跡（トラツク）が、所定の記録跡間隔（トラツク
ピツチ）を隔てているように、かつ、前記した主
要な情報信号と対応するピツトの配列によつて形
成された記録跡の相隣り合うもの同士の間に、ト
ラツキング情報と対応するピツトを連続的または
間欠的に配列して、このトラツキング情報と対応
するピツトの配列による渦巻状あるいは同心円状
の記録跡を形成させ、また、前記した主要な情報
信号と対応するピツトと、トラツキング情報と対
応するピツトとが、ピツトの巾方向において互い
に幾分か重畳するようになされているような記録
パターンを示すものとして構成されている。

そして、無溝デイスクにおける主要な情報信号
の再生は、デイスク中の主要な情報信号と対応す
るピツトのピツト巾と略々同じ電極巾か、それよ
りも僅かに狭い電極巾（再生巾）を有する電極を
備えると共に、記録跡の巾方向での記録跡間隔よ
りも広い接触巾でデイスクの面と接触しうるよう
になされた再生針（例えば、特開昭53−108413号
公報参照）を用いてデイスクに記録されている複
数個の情報信号を、前記した電極とデイスクに形
成されている各情報信号と対応するピツトとの間
の静電容量値の変化の検出によつて行なうように
し、また、前記の再生に当つては、主要な情報信
号の記録跡の両側に形成されているトラツキング
情報の記録跡から得た信号をトラツキング制御信
号やタイミング信号として用い、トラツキング制
御系の動作により、再生針における電極の中心と
主要な情報信号の記録跡の中心とが常に一致する
ようになされる。

第１図は、無溝デイスクの記録パターンの一例
と、再生針との対応関係などを図示説明するため
にデイスクの極く一部分の表面を拡大して示す平
面図であり、図においてTPはトラツクピツチ、
１ａ，１ｂ……は主要な情報信号と対応するピツ
ト、２，３はトラツキング情報と対応するピツト
であつて、前記した主要な情報信号と対応するピ
ツトに付した符号１ａ，１ｂ，１ｃ……などにお
ける添字のａ，ｂ，ｃ……は、それぞれ異なる主
要な情報信号トラツクを構成しているピツトであ
ることを区別するために便宜上付したものであ
り、以下の記載において、主要な情報信号と対応
するピツトの全般に関する事柄を説明する場合に
は、前記の添字の記載を省略して、主要な情報信
号と対応するピツト１（または、主要情報信号の
ピツト１）のように記載される。

なお、図中に例示されているトラツキング情報
のピツト２，３の長さ（トラツキング情報のデイ
スク上での記録波長の半波長に相当する）は図面
用紙の大きさ上の制限から大巾に短縮して図示さ
れている。

上記した主要な情報信号は、無溝デイスクによ
つて、本来、記録対象の目的とされる情報内容を
含んでいる信号であつて、それは例えば、カラー
映像信号、TV信号、立体音響信号、その他の情
報信号などの内の所要なものを変調信号として、
例えばFM波の信号形態のものとなされているこ
とが一般的である。

また、前記したトラツキング情報は主要な情報
信号とは周波数分離の可能な適当な周波数値の信
号が用いられるのであり、第１図中において、ト
ラツキング情報と対応するピツト２，３は、前記
した各隣り合う主要な情報信号の記録跡の間の部
分に形成され、前記のピツト２，３は互いに記録
波長が異なるものとなされている。

そして、上記のような各異なるピツト１，２，
３のそれぞれのものの一連の配列によつて、それ
ぞれ各別の記録跡が平坦なデイスク面に全体とし
て渦巻状または同心状に形成されるのである。

第１図中のαで示す矢印は、デイスクの回転に
よりデイスク面における記録跡が再生針４の位置
に対して移動する方向を示すものであり、平坦な
デイスク面に軽い針圧で接するようにおかれた再
生針４は、主要な情報信号の記録跡の記録跡巾と
略々同じ電極巾を有する電極４ａにより、デイス
クの回転時に主要な情報信号の記録跡における
次々のピツト１，１……の情報を静電容量値の変
化として検出すると共に、トラツキング情報と対
応するピツト２，３の情報をも検出し、再生針４
は前記したピツト２，３からの情報量が等しくな
るように図示しないサーボ系によつて制御される
ことにより、再生針４は常に主要な情報信号の記
録跡を正しく追跡して情報信号の再生を行なうの
である。

上記したような無溝デイスクを得るための記録
媒体（無溝デイスクの原盤）に対して、主要な情
報信号と他の情報信号との２種類の情報信号を記
録する際に、従来から行なわれている記録手段の
代表的なものは、既述もしたように情報信号によ
つて変調されたレーザ光ビームの微小なスポツト
あるいは情報信号によつて変調された電子ビーム
の微小なスポツトを、デイスクの原盤のビーム感
材層（例えば、フオトレジスト層）上に投射す
る、というものであつたが、前記の記録手段の内
で電子ビームを用いる記録手段は高価な装置の使
用が必要とされるために、デイスクの回転数が低
く設定された場合の他は、安価なレーザ光ビーム
を用いる記録手段が採用されることが多い。

すなわち、レーザ光ビームを用いた光学的記録
装置では、同一のレーザ光源からの光を分割して
得た２本のレーザ光ビームをそれぞれ異なつた情
報信号によつて強度変調して同一の記録媒体面へ
同時に投射することが容易であり、記録装置の構
成が簡単なものとなるからである。

主情報信号の記録跡から情報信号を再生するこ
とが必要とされることはいうまでもないが、再生
針４に対してトラツキング制御が施こされた状態
で主面な情報信号を無溝ダイスクから読出すよう
になされている場合には、主要な情報信号の記録
跡とトラツキング情報の記録跡との相対的な配置
関係が、常に一定の関係に保たれていることが必
要とされるのであり、特に、記録密度を高めるた
めに主要な情報信号の記録跡間にスペース（ガー
ドバンド）が存在しない状態のものとして、主要
な情報信号が記録された無溝デイスクにおいて
は、主要な情報信号の記録跡とトラツキング情報
の記録跡との相対的な配置関係は高精度で一定の
関係に保たれていなければならない。

今、片面の演奏時間が１時間であるような無溝
デイスクにおいて、記録跡間隔が1.4μｍであつ
たとすれば、隣接する主要な情報信号の記録跡の
中間に配置されているトラツキング情報の記録跡
と、前記した主要な情報信号の記録跡とは、それ
らの中心間の距離は0.7μｍであり、このような
距離関係となるように主要な情報信号の記録跡と
トラツキング情報の記録跡とを複数本のレーザ光
ビームの照射によつて同時に記録媒体上に記録す
るのには、記録媒体に照射される２つのレーザ光
ビームスポツトは、それらの中心間が記録媒体の
径方向に0.7μｍだけ離れているものとなされる
ことが必要である。

そして、デイスクの再生時において隣接記録跡
間のクロストークによるビート信号の発生などの
好ましくない現象の発生を防止する上からは、上
記した２つのビームスポツトの間隔の誤差は例え
ば0.1μｍ以下というような極めて厳しい値とな
るのである。それで、記録媒体に対する情報信号
の記録の開始に先立つて、記録媒体に照射される
２つのレーザ光ビームスポツトを良好なフオーカ
ス状態に設定すると共に、２つのレーザ光ビーム
スポツトが規定された相対的位置にあるように調
整することが必要とされる。

ところが、前記した第１図示のような記録パタ
ーンを有する無溝デイスクを得るのに、主要な情
報信号によつて強度変調したレーザ光ビームのス
ポツトと、トラツキング情報によつて強度変調し
たレーザ光ビームのスポツトとを同一の記録媒体
面で互いに所定の位置関係となるように同時に記
録媒体面に照射するようになされている光学的記
録装置が用いられる場合に、無溝デイスクにおけ
るピツトの底面に凹凸が現われないようにするた
めに、既述した特開昭55−146633号公報に記載の
ような光学的記録方法を適用して、第２図示の光
学的記録装置のように記録レンズの入射側までの
光学系中に光減衰手段SLを設けた際にはその光
減衰手段を通過した光が記録レンズを介して記録
媒体上に結像した光のスポツトは前記した光減衰
手段によつて多くの減衰量が与えられるように規
制された方向に広がるために、無溝デイスク上に
主要な情報信号によつて強度変調されたレーザ光
ビームのスポツトと、トラツキング情報によつて
強度変調されたレーザ光ビームのスポツトとのフ
オーカス状態や、前記した２つのレーザ光ビーム
のスポツトの相対的な位置関係などを正確に観測
したり、あるいは良好に調整したりすることがで
きない。

第２図において５はターンテーブルであり、こ
のターンテーブル５は図示しないモータによつて
所定の回転数で回転されると共に、図示していな
い移送機構によつて横方向に移送されている。タ
ーンテーブル５上には平坦な表面を備えた基板上
に記録材層を付着形成させてなる情報記録媒体Ｄ
（デイスクの原盤Ｄ）が固定されており、前記の
デイスクの原盤Ｄ上に形成された記録材層に、そ
れぞれ情報信号によつて変調され、かつ、所要な
断面形状を有する２つのレーザ光ビームスポツト
が結像されて記録が行なわれる。

第２図において、６はレーザ光源であり、この
レーザ光源６から放射されたレーザ光ビームは、
反射鏡７を介して光量調整用光変調器８に供給さ
れて、前記の光量調整用光変調器８においてレー
ザ光のドリフトの除去ならびにデイスクの原盤Ｄ
における径方向での光量制御などが行なわれ（こ
の点は特開昭52−76003号公報を参照されるとよ
い）た後に、主要な情報信号用の光変調器１０に
与えられる。光変調器１０には端子１１に主要な
情報信号の記録信号が与えられており、光変調器
１０において主要な情報信号によつて強度変調さ
れたレーザ光ビーム（第１のレーザ光ビーム）は
反射鏡１２によつて反射されて円筒状レンズ１３
に与えられる。円筒状レンズ１３から出た第１の
レーザ光ビームは、前記した円筒状レンズ１３の
集光方向に対して略々直交する方向に集光する如
き円筒状レンズ１４によつて集光された後に、ス
リツト部材１５に与えられる。

前記のスリツト部材１５はそのスリツトS₁が円
筒状レンズ１４の集光点の位置におかれている。
スリツト部材１５のスリツトS₁によつて一部遮光
された第１のレーザ光ビームは、凸レンズ１６、
偏光プリズム１７、ハーフミラー１８、プリズム
１９及び記録レンズ２０を介して、デイスクの原
盤Ｄ上に第１のレーザ光ビームによるスリツトS₁
の像を結像２１する。

すなわち、前記した凸レンズ１６と記録レンズ
２０とは、円筒状レンズ１４の集光点の位置にお
かれたスリツト部材１５のスリツトS₁の像をデイ
スクの原盤Ｄ上に結像させるのである。また、前
記したハーフミラー９で反射したレーザ光ビーム
は、トラツキング制御信号用の光変調器２２に与
えられて、この光変調器２２において、端子２３
に供給されているトラツキング情報信号により強
度変調される。光変調器２２から出力されたレー
ザ光ビーム（第２のレーザ光ビーム）は、凸レン
ズ２４、スリツト部材２５、凸レンズ２６、反射
鏡２７、偏光プリズム１７、ハーフミラー１８、
プリズム１９、記録レンズ２０を介して、デイス
クの原盤Ｄ上にスリツト部材２５におけるスリツ
トS₂位置の光像を結像３４する。

すなわち、前記した凸レンズ２６と記録レンズ
２０とは、凸レンズ２４の焦点位置におかれたス
リツト部材２５のスリツトS₂の位置の光像をデイ
スクの原盤Ｄ上に結像３４させるのである。

前記した偏光プリズム１７は、第１のレーザ光
ビームを透過させてハーフミラー１８に与え、ま
た、第２のレーザ光ビームを反射させてハーフミ
ラー１８に与える。また、ハーフミラー１８は、
前記した偏光プリズム１７方向から入射した第
１、第２のレーザ光ビームをプリズム１９の方へ
と透過させると共に、レンズ２８の方へと反射さ
せ、また、デイスクの原盤Ｄ上のレーザ光ビーム
スポツト２１，３４からの反射光及び、プリズム
１９の表面からの反射光とを光学的な監視装置
PMの方へと反射させる。

前記した第１のレーザ光ビームの光路中に設け
られたスリツト部材１５のスリツトS₁の位置と、
第２のレーザ光ビームの光路中に設けられたスリ
ツト部材２５のスリツトS₂の位置とは、それらの
スリツトS₁，S₂の結像の相対的な位置関係は、デ
イスクの原盤Ｄ上へ照射される第１、第２のレー
ザ光ビームスポツトが所定の位置関係のものとな
るように正しく設定されている。

それで、レーザ光源６から放射されたレーザ光
の進行方向が、温度の変化によつて変わつても、
上記のように設定されているスリツト部材１５，
２５のスリツトS₁，S₂を透過した第１、第２のレ
ーザ光ビームによつてデイスクの原盤Ｄ上に照射
された第１、第２のレーザ光ビームスポツトの相
対的な位置関係は、常に所定の位置関係に保たれ
る。

上記の構成により、レーザ光源６から放射され
るレーザ光ビームの進行方向が温度によつて変化
しても、デイスクの原盤Ｄ上における第１、第２
のレーザ光ビームスポツトの関係位置が変化する
ことなく所定の位置関係に保たれることは明らか
であるが、レーザ光源６から放射されたレーザ光
ビームの進行方向が温度変化によつて変化した場
合には、スリツト部材１５，２５のスリツトS₁，
S₂を透過したレーザ光ビームに強度変化（及び断
面内の光強度分布の変化）が生じる。すなわち、
スリツト部材１５，２５のスリツトS₁，S₂に入射
するレーザ光ビームはその断面の光強度分布がガ
ウス分布を示しているから、スリツト部材１５，
２５に入射するレーザ光ビームの進路が変化し
て、スリツト部材１５，２５により遮光される部
分がレーザ光ビームの断面内で変化した場合に
は、当然のことながら、スリツト部材１５，２５
のスリツトS₁，S₂を透過したレーザ光ビームの光
強度（及び断面内の光強度分布）に変化が生じて
ピツトの深さ及び深さ方向の断面形状が正規の状
態とは異なつたものになつてしまう。

このような問題点は、スリツト部材１５，２５
に入射するレーザ光ビームの入射位置を、レーザ
光ビームの中心が常にスリツト部材１５，２５に
おけるスリツトS₁，S₂の中心と一致するように制
御することによつて解決できるのであり、第２図
示のブロツク図で示されている装置においては、
ハーフミラー１８、レンズ２８、偏光プリズム２
９、位置ずれの検出器３０，３１、制御装置３
２，３３の各部分の構成によつて、スリツト部材
１５，２５に入射するレーザ光ビームの入射位置
の自動制御を行なうようにしている。

すなわち、第２図示の構成例の場合には、第
１、第２のレーザ光ビームをハーフミラー１８で
検出制御系の方に導き、第１、第２のレーザ光ビ
ームの位置ずれを検出し、それに基づいて制御信
号を発生し、光学系の構成素子を駆動してスリツ
ト部材１５，２５に入射するレーザ光ビームの入
射位置が自動制御により常に正しい位置となるよ
うになされているのであり、ハーフミラー１８に
よつて反射された第１、第２のレーザ光ビームは
レンズ２８を介して偏光プリズム２９に与えられ
て、この偏光プリズム２９によつて第１のレーザ
光ビームは位置ずれの検出器３０へ、また、第２
のレーザ光ビームは位置ずれの検出器３１へとそ
れぞれ個別に与えられるように分離される。

前記した位置ずれの検出器３０，３１は、第
１、第２のレーザ光ビームの位置ずれを、それに
与えられたレーザ光ビームの断面内の光強度の分
布状態の変化によつて検出する。図示の例におい
て位置ずれの検出器３０，３１は、それぞれ２個
の光強度の検出手段PD₁，PD₂またはPD₃，PD₄
（例えば、２個のフオトダイオード）よりなり、
スリツト部材１５，２５のスリツトS₁，S₂の中心
と第１（第２）のレーザ光ビームの中心とが一致
した状態においては、２個の光強度の検出手段
PD₁，PD₂またはPD₃，PD₄からの出力が等しく、
また、スリツト部材１５，２５に入射するレーザ
光ビームの中心がスリツトS₁，S₂の中心に対して
スリツトの巾方向（図中で寸法が小さく示されて
いる方がスリツトの巾）にずれた時における２個
の光強度の検出手段PD₁，PD₂またはPD₃，PD₄か
らの出力は、ずれの方向及びずれの大きさに応じ
てそれぞれ変化したものとなる。

位置ずれの検出器３０，３１からの出力は、制
御装置３２，３３における差動増幅器に与えられ
て制御信号が作られ、次いでそれは駆動装置に与
えられる。

制御装置３２は制御信号に応じて第１のレーザ
光ビームの通路中の構成素子、例えば円筒状レン
ズ１３を図中の矢印Y₁方向に移動させ、また、
制御装置３３は制御信号に応じて第２のレーザ光
ビームの通路中の構成素子、例えば凸レンズ２４
を図中の矢印Y₂方向に移動させて、第１（第
２）のレーザ光ビームの中心とスリツト部材１
５，２５におけるスリツトS₁，S₂の中心とが一致
した状態となるように、すなわち、位置ずれの検
出器３０，３１における２個の光強度の検出手段
PD₁，PD₂，PD₃，PD₄から等しい出力が得られる
状態となるようにする。

第２図中において、記録レンズ２０の直前の光
路中に点線により図示されているものは光減衰手
段SL（光減衰付与部材SL）であつて、この光減
衰手段SLとしては、既述した特開昭55−146633
号公報中に詳細に説明されているように、結像の
ために記録レンズ２０中に通過させるべき複数の
次数の異なる回折光の組合わせ態様に応じた平面
形状を有する如きスリツト板、あるいは、それの
最大透過率の部分を記録レンズ２０の中心部分と
対応する部分に設けて、そこを零次回折光が通過
するようにし、また、各次数の回折光が個別に通
過する各部分は、それらの各部分毎に、それぞれ
の部分の全域についてそれぞれ異なる所定の透過
率を有するものとし、回折光の次数の高いもの程
透過率の低い部分を通るようになされた濾度フイ
ルタ、などが用いられる。

そして、前記のような光減衰手段SLが用いら
れた場合には、デイスクに形成されるピツトの断
面形状を記録跡の巾方向について所望なものとす
ることができ、再生時におけるデイスクや再生針
の損傷を少なくすることができる。

さて、第２図において、PMは光学的な監視装
置であつて、この光学的な監視装置PMは既述の
ようにデイスクの原盤Ｄ上のレーザ光ビームスポ
ツト２１，３４からの反射光、及びプリズム１９
からの反射光などを受けてそれを拡大結像するこ
とにより、デイスクの原盤Ｄ上の２つの光スポツ
ト２１，３４のフオーカスの状態や、２つの光ス
ポツトの相対的な位置関係などの監視に用いられ
るのであるが、第２図に例示されている光学的記
録装置では、記録レンズ２０の直前に光減衰手段
が設けられているために、デイスクの原盤Ｄ上に
レーザ光ビームスポツト２１，３４を生じさせる
べき２つのレーザ光ビームの双方のものが、前記
の光減衰手段を通過し、したがつて、前記したデ
イスクの原盤Ｄ上のレーザ光ビームスポツト２
１，３４はそれの双方のものが前記した光減衰手
段によつて多くの減衰量が与えられるように規制
された方向に広がつたものとなつてしまう。

しかし、デイスクの原盤Ｄ上に形成される２つ
のレーザ光ビームスポツト２１，３４の内で、ト
ラツキング情報で強度変調されている方のレーザ
光ビームスポツト３４は広がらない状態のものと
して記録されることが望ましいものであり、ま
た、前記した２つのレーザ光ビームスポツト２
１，３４の相対的な位置関係の監視や調整に際し
ては、前記２つのレーザ光ビームスポツトが広が
らない状態となされていることが望ましく、さら
に主要な情報信号の記録はデイスクに形成される
ピツトの断面形状が既述のように所望なものとな
されることが望ましいから、前記した第２図示の
構成の光学的記録装置は幾つかの点で不満足なも
のであり、それの改善が要望された。

本発明は、第２図示の光学的記録装置における
諸問題点を良好に解消しうる光学的記録装置を提
供することを目的としてなされたものであり、以
下、本発明の光学的記録装置の具体的な内容を添
付図面を参照しながら詳細に説明する。

第３図は本発明の光学的記録装置の一実施態様
を示すブロツク図であり、この第３図において既
述した第２図に示す光学的記録装置における構成
部分と対応する構成部分には、第２図中に使用し
た図面符号と同一の図面符号を付している。

第３図において、VSLは光減衰手段（光減衰付
与部材VSL）であつて、この光減衰付与部材VSL
は、主要な情報信号によつて強度変調されたレー
ザ光ビームと、トラツキング情報により強度変調
されたレーザ光ビームとを合成する偏光プリズム
１７と凸レンズ１６との間のレーザ光ビームの通
路中にそれの光減衰付与部分が出入自在となるよ
うに設けられている。

そして、前記した光減衰付与部材VSLは、それ
が主要な情報信号により強度変調されたレーザ光
ビームの通路中でレーザ光ビームに対して何らの
規制をも及ぼさないような状態で使用されるよう
になされたり、あるいはレーザ光ビームに対して
所定の態様の規制を及ぼすような状態で使用され
るのであるが、第４図は光減衰付与部材VSLがス
リツト板の構成形態のものとして構成された場合
の一例を示したものである。

第４図に示す光減衰付与部材VSLにおいて、領
域Ａにはそれがレーザ光ビームの通路に位置した
際にレーザ光ビームに何らの制限をも加えずに通
過させうるような孔が設けられており、また、領
域Ｂにはそれがレーザ光ビームの通路に位置した
際に、主要な情報信号により強度変調されたレー
ザ光ビームの結像のために記録レンズ２０中に通
過させるべき複数の次数の異なる回折光の組合わ
せ態様に応じた平面形状を示すスリツトが構成さ
れている。なお、光減衰付与部材VSLにおける領
域Ｂの部分として、所定のパターンを有する濃度
フイルタが用いられてもよいことは勿論である。

前記した光減衰付与部材VSLは、光学的な記録
装置による記録の開始に当つて行なわれる２つの
レーザ光ビームスポツトのフオーカスの調整、及
び２つのビームスポツトの相互の位置関係の調整
などに際しては、光減衰付与部材VSLにおける領
域Ａの部分がレーザ光ビームの通路中に位置され
るように設定され、また、記録動作が行なわれる
状態においては、光減衰付与部材VSLにおける領
域Ｂの部分がレーザ光ビームの通路中に位置され
るように変位自在に構成なされている。

また、第３図においてHMはハーフミラーであ
り、このハーフミラーHMは、偏光プリズム１７
からハーフミラー１８に入射された２本のレーザ
光ビームの反射光の一部を透過させてレンズ２８
に与える。前記のハーフミラーHMからの反射光
は、ハーフミラー１８を透過して監視装置PMに
与えられる。

監視装置PMは、レンズ３６，３７、スケール
板３８、接眼レンズ３９などで構成されており、
デイスクの原盤Ｄ上の２つの光スポツト２１，３
４からの反射光が、記録レンズ２０→プリズム１
９→ハーフミラー１８→レンズ３６→レンズ３７
の光路を介してスケール板３８の位置に結んだ空
中像を人間の目４０によつて観測したり、前記し
た偏光プリズム１７から出射した２本のレーザ光
ビームの内で、ハーフミラー１８→ハーフミラー
HM→ハーフミラー１８→レンズ３６→レンズ３
７の光路を介してスケール板３８の位置に結んだ
空中像を人間の目によつて観測したりするのに用
いられる。

前記したスケール板３８の位置に結ばれる前記
した２つの空中像はそれがそれぞれ拡大結像され
た状態のものとなるように、かつ、前記した２つ
の空中像を人間の目４３により同一視野内で観測
できるようにすることは容易であり、また、前記
した２つの中空像が同一視野内で互いに区別でき
るように離れたものとして観測されるようにハー
フミラーHMの設置角度の設定を行なうことも容
易である。

本発明の光学的記録装置は上記のように構成さ
れているから、デイスクの原盤Ｄに対する記録の
開始に際して、光減衰付与部材VSLをそれの領域
Ａの部分がレーザ光ビームの通路に位置するよう
に設置し、監視装置PMを用いてデイスクの原盤
Ｄ上の２つのビームスポツト２１，３４のフオー
カス状態を観測すれば、良好なフオーカス状態の
ビームスポツトが得られるようにするための光学
系の調整が容易に行なわれ、また、２つのビーム
スポツトの相対的な位置関係が所定の状態となる
ようにするための光学系の調整も容易に行なうこ
とができるのである。

前記の調整が行なわれた後に、光減衰付与部材
VSLを、それの領域Ｂの部分がレーザ光ビームの
通路に位置するように変位させ、デイスクの原盤
Ｄに対する情報信号の記録を開始すれば、主要な
情報信号によつて強度変調されたレーザ光ビーム
は光減衰付与部材VSLのＢの部分によつて規制を
うけて、主要な情報信号と対応してデイスクの原
盤Ｄに記録形成されるべきピツトはそれの断面形
状の良好な状態のものとなされ、また、トラツキ
ング情報によつて強度変調されているレーザ光ビ
ームの通路中には光減衰付与部材VSLが介在して
いないから、トラツキング情報と対応してデイス
クの原盤に記録形成されるべきピツトは広がらな
い状態のものとなされる。

以上の説明から明らかなように、本発明の光学
的記録装置によれば既述した従来の光学的記録装
置における諸問題点はすべて良好に解消され、調
整が容易で、かつ、所定の記録跡パターンを有す
るデイスクの原盤を容易に得ることのできる優れ
た光学的記録装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はデイスクの記録跡パターンの一例の平
面図、第２図は従来の光学的記録装置の一例のも
ののブロツク図、第３図は本発明の光学的記録装
置の一実施態様のもののブロツク図、第４図は光
減衰付与部材（光減衰手段）の一例のものの平面
図である。 Ｄ……デイスクの原盤、VSL……光減衰手段、
PM……監視装置、１７……偏光プリズム、１
８，HM……ハーフミラー、１９……プリズム、
２０……記録レンズ、２１，３４……レーザ光ビ
ームスポツト（結像）、３６，３７……レンズ、
３８……スケール板、３９……接眼レンズ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 予め定められた記録跡間隔を有するように記
   録媒体上に記録された第１の情報信号による記録
   跡と、前記した第１の情報信号による記録跡にお
   ける相隣り合う記録跡の中間部分に記録跡の巾方
   向の中心が位置すると共に、前記した第１の情報
   信号による記録跡との間で記録跡の巾方向の一部
   において互いに重畳する部分を有する如くに記録
   媒体上に記録された第２の情報信号による記録跡
   とが記録形成されている如き記録媒体における前
   記第１の情報信号の記録跡と第２の情報信号の記
   録跡とを、それぞれ個別の情報信号によつて強度
   変調されている複数個の光スポツトにより記録媒
   体へ同時に記録するようにした光学的記録装置で
   あつて、記録媒体における前記の複数個の光スポ
   ツトの内で形状が長方形となされるべき光スポツ
   トは、その断面形状が略々長方形であるようなレ
   ーザ光ビームが記録レンズから記録媒体に投射さ
   れることによつて得られるように、記録レンズま
   での光路中に、レーザ光ビームの断面形状を規制
   するスリツトを介在させておき、前記したスリツ
   トによつて生じた次数の異なる多くの回折光の内
   で、次数を異にする複数の回折光が結像のために
   使用される場合に、結像のために使用される次数
   を異にする複数の回折光の組合わせの態様が、零
   次回折光と１次回折光との組合わせ、あるいは零
   次回折光と１次回折光と２次回折光との組合わ
   せ、もしくは零次回折光と１次回折光と２次回折
   光と３次回折光との組合わせ、または零次回折光
   と１次回折光と２次回折光と３次回折光と４次回
   折光との組合わせ、その他というように、複数の
   次数の異なる回折光の組合わせの態様がどうであ
   るのかに応じて、組合わされている各次数の回折
   光がそれぞれ異なつた所定の減衰率での減衰が与
   えられて前記した記録レンズに入射されるように
   する光減衰手段が設けられている光学的記録装置
   において、それぞれ個別の情報信号によつて強度
   変調されているレーザ光ビームが合成される以前
   の光の通路中に前記の光減衰手段が出入自在に設
   けられてなる光学的記録装置。