JPS6161234A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPS6161234A
JPS6161234A JP18333784A JP18333784A JPS6161234A JP S6161234 A JPS6161234 A JP S6161234A JP 18333784 A JP18333784 A JP 18333784A JP 18333784 A JP18333784 A JP 18333784A JP S6161234 A JPS6161234 A JP S6161234A
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JP
Japan
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magnetic
smoothing
powder
film
contact
Prior art date
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Application number
JP18333784A
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English (en)
Inventor
Sadao Yamashita
山下 定夫
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Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳し
くは磁性塗膜の表面平滑性が良好で電磁変換特性に優れ
た磁気記録媒体を長時間連続的に製造する方法に関する
〔背景技術〕
一般に磁気テープなどの磁気記録媒体は、磁性粉末、結
合剤成分、を機溶剤およびその他の必要成分からなる磁
性塗料を、基体フィルム上に、グラビアロールなどの生
工殿でもって塗布し、その塗膜が未乾燥状態にある間に
、第6図に示すような、シート取りつけ座1に取りつけ
たフレキシブルな合成樹脂製平滑化処理シート2を、バ
ンキングロール3を介、して矢印A方向に走行する基体
フィルム4上の未乾燥の磁性塗膜5に接触させ、平滑化
処理を施してつくられている。(特開昭49−5363
1号) ところが、この従来の方法で使用される合成樹脂製平滑
化処理シートは、硬度がせいぜいモース硬度2〜3程度
で比較的柔らかいため、モース硬度が5以上の比較的硬
い磁性粉末を含む磁性饋膜面に接触する際、合成樹脂製
事情化処理シートの接触面や最も重要な先端部分が傷つ
き易く、長時間平滑化処理を行っていると、磁性塗膜に
小さなスジが入ったりして磁性塗膜の表面平滑性が劣化
し、甚だしい場合には合成樹脂製平滑化処理シートの傷
ついた先端に凝集塗料が引っ掛かって大きなスジになっ
たりするという難点がある。このため、同じ合成樹脂製
平滑化処理シートを長時間連続して使用することができ
ず、磁性塗膜の表面平滑性が良好で電磁変換特性に優れ
た磁気記録媒体を長時間連続的に製造することができな
い。
〔発明の目的〕
この発明はかかる欠点を解消し、磁性塗膜の表面平滑性
が良好で電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を長時間連
続的に製造する方法を提供することを目的としてなされ
たもので、磁性粉末より硬い平滑化処理材を磁性塗膜表
面に接触させて平滑化処理を行うことによって、平滑化
処理材を取り替えたりすることな(長時間にわたって連
続的に良好な磁性塗膜の表面平滑化処理が行えるように
し、所期の目的を達成したものである。
〔発明の概要〕
この発明は、基体フィルム上に磁性塗料を塗着し、次い
で、この塗着により形成された磁性塗膜を平滑化処理す
るに当たり、当該磁性塗料に使用した磁性粉末より硬い
平滑化処理材を磁性塗膜表面に接触させて磁性塗膜表面
を平滑化することを特徴とするもので、磁性粉末より硬
い平滑化処理材を磁性塗膜表面に接触させて平滑化処理
を行っているため、比較的硬い磁性粉末を含む磁性塗膜
と接触してもこの平滑化処理材に傷が生じることもなく
、長時間連続的に良好な平滑化処理が行えて表面平滑性
に優れた磁性塗膜が形成され、電磁変換特性に優れた磁
気記録媒体が得られる。
以下、この発明の実施例を示す第1図ないし第4図を参
照しながら説明する。
第1図において、6は表面の硬度が磁性粉末より硬い材
質のもので構成されたロール状の平滑化処理材で、パフ
キングロール3を介して矢印A方向に走行する基体フィ
ルム4上の未乾燥の磁性塗膜5上に接触するように配設
されている。
しかして、基体フィルム4上に塗布形成された未乾燥の
磁性塗膜5は、表面の硬度が磁性粉末より硬い材質のロ
ール状の平滑化処理材6によって平滑化処理されるため
、比較的硬い磁性粉末を含む磁性塗膜5に接触しても、
このロール状の平滑     ′比処理材6に傷が生じ
ることもなく、長時間連続的に良好な平滑化処理が行え
て表面平滑性に優れた磁性塗膜が形成され、電磁変換特
性に優れた磁気記録媒体が得られる。なお、このロール
状の平滑化処理材6は回転させてもよく、たとえば、矢
印Bに示すように基体フィルム4の走行方向Aと逆方向
に回転させると、磁性塗膜5表面の平滑化処理がより良
好に行えて良好な結果が得られる。
第2図の(イ)、(ロ)および(ハ)は、平滑化処理材
の他の例を示したもので、これらの図面に示すように、
平滑化処理材は、断面半円形の半円柱状の平滑化処理材
7、あるいは一部切欠部を有する円柱状の平滑化処理材
8、もしくは断面まが玉状の板状平滑化処理材9であっ
てもよく、外形状は特に限定されないが、磁性塗膜5と
の接触面はゆるやかな円弧となっていることが望ましい
。このように形状が種々に異なる平滑化処理材7.8.
9を用い、これらを基体フィルム4上に塗布形成された
未乾燥の磁性塗膜5に接触させて平滑化処理を行った場
合も、前記第1図に示ずロール状の平滑化処理材6の場
合と同じ効果が得られ、比較的硬い磁性粉末を含む磁性
塗膜5に接触しても、これら平滑化処理材7.8.9に
傷が生ぜず、長時間連続的に良好な平滑化処理が行えて
表面平滑性に優れた磁性塗膜が形成され、電磁変換特性
に優れた磁気記録媒体が得られる。
これらの平滑化処理材6.7.8および9の材質として
は、磁性粉末より硬いものであれば特に限定されず、た
とえば、セラミ・7り、サーメット、ガラス、硬鋼、超
硬鋼等で構成されるものの他、金属あるいはプラスチッ
ク材で本体を構成し、その表面に硬質クロムメッキを施
すか、あるいは炭化チタン、窒化チタン、アルミナなど
セラミックを被覆したものなどが、好適なものとして使
用される。
この他、平滑化処理材は、第3図に示すように、ステン
レス板、炭素鋼板等の磁性粉末の硬度より硬い板材で構
成されたシート状の平滑化処理材10であってもよく、
さらに第4図に示すように真鍮、軟鋼、アルミ、銅、プ
ラスチック等の板状基材11の表面に、硬質クロムメッ
キ12等を施した複合シート状の平滑化処理材13であ
ってもよい。またこれらのシート状の平111化処理材
10および13はフレキシブルシートであっても硬いシ
ートであってもよい。この場合もシート状の平滑化処理
材10および13はその表面の硬度が、磁性塗膜5中の
磁性粉末より硬いため、基体フィルム4上に塗布形成さ
れた未乾燥の磁性塗膜5に接触させて平滑化処理を行う
場合、比較的硬い磁性粉末を含む磁性’1zH’A5に
接触しても、平滑化処理材10および13に傷が生じる
こともなく、長時間連続的に良好な平滑化処理が行えて
表面平滑性に優れた磁性塗膜が形成され、電磁変換特性
に優れた磁気記録媒体が得られる。
このように、この発明で使用される平滑化処理材は、第
1図ないし第4図に示すような種々の膨軟のものが使用
されるが、これらの平滑化処理材はいずれも磁性塗膜5
に接触する部分の面粗度が、磁性塗II’;i5の表面
平滑性に大きく影響し、この面粗度が中心線平均粗度(
CLA値)で0.3μより粗すぎると良好な平滑化処理
が行えないため、これら平滑化処理材の面粗度は中心線
平均粗度(CLA値)で0.3μ以下であることが好ま
しく、中心線平均粗度(CLA値)がO01μ以下の面
粗度であることがより好ましい。
この発明に使用される磁性粉末としては、たとえば、r
−Fe203粉末、Fe3O4粉末、CO含有r−Fe
203m末、Go含有F 6304扮末、CrO2粉末
1、Fe粉末、Co粉末など従来公知の各種磁性粉末が
広く包含され、結合剤樹脂としては、塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール樹脂、繊維素
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、イ
ソシアネート化合物など従来汎用されている結合剤樹脂
が広く使用される。
また、有機溶剤としては、トルエン、メチルイソブチル
ケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチルなど従来から汎用されてい
る有機溶剤が、単独または二種以上混合して使用される
さらに、これらの磁性粉末、結合剤樹脂および有機溶剤
等を混合分散して開裂される磁性型材を、基体フィルム
上に塗布する塗工機は、ナーイフコーター、グラビアコ
ーター、リバースロールコータ−、ビードコーター、キ
スコーター、グイコーター、カーテンコーターなど従来
から使用されているものがいずれも好適に使用される。
なお、磁性塗料中には、通常使用されている各種添加剤
、たとえば、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤など
を任意に添加使用してもよい。
〔実施例〕
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例I CO被着r−Fe203粉末  100重量部ニトロセ
ルロース14夏Gl  (旭 10   〃化成社製、
ニトロセルロース) ニスタン5702  (グツドリソ  9 〃チケミカ
ル社製、ウレタンエ ラストマー) コロネートしく日本ポリウレタ  1  〃ン工業社製
、三官能性低分子 量イソシアネート化合物) 粒状at−p’e2Q3粉末     5 ・カーボン
ブラック        5 “ステアリン酸亜鉛  
      0.5 ・ステアリン酸−n−ブチル  
  0.5〃メチルエチルケトン      100〃
トルエン           100〃この組成物を
ボールミルで72時間混合分散して磁性塗料を調整し、
この磁性塗料を塗工機で厚さ15μのポリエステルベー
スフィルム4上に乾燥厚が5.5μとなるように塗着し
た。次いで、第1図に示すように真鍮製ロールの表面に
硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6を、矢印Bで
示すように回転させながら、未乾燥の磁性塗膜5に接触
させ、平滑化処理を行った。しかる後、磁場配向処理を
施し、次いで乾燥した後、所定の巾に裁断して磁気テー
プをつくった。なお、平滑化処理材6の表面の硬度はモ
ース硬度で6.5であった。また表面粗度は中心線平均
粗度(CLA値)で0.02μであった。
実施例2 実施例1における平滑化処理材おいて、T:j、鍮裂ロ
ールの表面に硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6
に代えて、第2図(イ)に示すように、At203−C
r系サーメットからなる断面半円形の半円柱状平滑化処
理材7を使用した以外は、実施例1と同様にして磁気テ
ープをつくった。なお、平滑化処理材7の表面の硬度は
、モース硬度で8.5であった。また表面粗度は中心線
平均粗度(CLA値)で0.03μであった。
実施例3 実施例1における平滑化処理において、真鍮製ロールの
表面に硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6に代え
て、第2図(ロ)に示すような断面形状のガラス棒から
なる平滑化処理材8を使用した1以外は、実施例1と同
様にして磁気テープをつくった。なお平滑化処理材8の
表面硬度はモース硬度で6.5であった。また表面粗度
は中心線平均粗度(CLA値)で0.01μであった。
実施例4 実施例1における平滑化処理において、真鍮製ロールの
表面に硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6に代え
て、第2図(ハ)に示すように焼結アルミナで構成され
たまが玉状坂からなる平滑化処理材9を使用した以外は
、実施例1と同様にして磁気テープをつくった。なお、
平滑化処理材9の表面の硬度はモース硬度で9であった
。また表面粗度は中心線平均粗度(CLA値)で0.0
4μであった。
実施例5 実施例1における平滑化処理において、真鍮製ロールの
表面に硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6に代え
て、第3図に示すように50μ厚のSUS板からなるシ
ート状の平滑化処理材10を使用した以外は、実施例1
と同様にして磁気テープをつくった。なお、平滑化処理
材10の表面の硬度はモース硬度で6であった。また、
表面粗度は中心線平均粗度(CLA値)で0.2μであ
った。
実施例6 実施例1における平滑化処理において、真鍮製ロールの
表面に硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6に代え
て、第4図に示すように50μ厚のポリエステルフィル
ム11の表面に硬質クロムメッキ12を施したシート状
の平滑化処理材13を使用した以外は、実施例1と同様
にして磁気テープをつくった。なお、平滑化処理材13
の表面の硬度はモース硬度で6.5であった。また表面
粗度は中心線平均粗度(CLA値)で0.05μであっ
た。
比較例1 実施例1における平滑化処理において、真鍮梨ロールの
表面に硬質クロムメッキを施した平滑化処理材6に代え
て、第6図に示すように25μ厚のポリエステルフィル
ム2を使用した以外は、実施例1と同様にして磁気テー
プをつくった。なお、ポリエステルフィルム2の表面の
硬度はモース硬度で2.5であった。また表面粗度は中
心線平均粗度(CLA値)で0.02μであった。
各実施例および比較例において得られた磁気テープにつ
いて、磁性塗料を塗布し平滑化処理材をポリエステルフ
ィルム4上の磁性塗膜5に接触させた後の磁性塗膜5の
表面粗度と、塗布長さとの関係を凋べた。第5図はその
結果をグラフで表したもので、グラフAは実施例1で得
られた磁気テープ、グラフBは実施例2で得られた磁気
テープ、グラフCは実施例3で得られた磁気テープ、グ
ラフDは実施例4で得られた磁気テープ、グラフEは実
施例5で得られた磁気テープ、グラフFは実施例6で得
られた磁気テープ、グラフGは比較例1で得られた磁気
テープをそれぞれ示す。なお、表面粗度は、触針式表面
粗度計を用いてカットオフ0.8 mmの条件で測定し
、中心線平均粗度(CLA値)で表した。
また、各実施例および比較例で得られた磁気テープにつ
いて、磁性塗料を塗布し平滑化処理材をポリエステルフ
ィルム4上の磁性塗膜5に接触させた位置および100
00mの平滑化処理を行った位置でのビデオS/N比お
よびカラーS/N比を測定し、初期のビデオS/N比お
よびカラーS/N比をOd[lとしてその差を比較した
下表はその結果である。
表 〔発明の効果〕 第5図のグラフから明らかなように、従来の磁気テープ
(グラフG)では塗布長さが長くなるにつれて磁性層の
表面粗度が著しく大きくなっているのに対し、この発明
の製造方法で得られた磁気テープ(グラフA、  B、
  C,D、  E、  F)は、いずれも磁性塗膜の
表面粗度が小さい上、僅布長さが長くなっても磁性塗膜
の表面粗度がそれほど大きくならず、このことからこの
発明の製造方法によれば、磁性塗膜の表面平滑性にほと
んど変化がなく、長時間連続的に磁性塗膜の表面平滑性
に優れた磁気記録媒体が得られることがわかる。また、
上表から明らかなように、この発明の製造方法で得られ
た磁気テープ(実施例1〜6)は比較例1で得られた磁
気テープに比し、長期にわたりビデオS/N比およびカ
ラーS/N比の低下がなく、このことからこの発明の製
造方法によれば、平滑化処理材の耐久性が良好で、電磁
変換特性も安定し、長時間連続的に電磁変換特性に擾れ
た磁気記録媒体が得られることがわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、磁気テープの製造工程におけるこの発明の平
滑化処理の概略を示す説明図、第2図の(イ)、(ロ)
、(ハ)は、この発明で使用する平滑化処理材の他の例
を示す側面図、第3図および第4図は、磁気テープの製
造工程におけるこの発明の平滑化処理の他の例の概略を
示す説明図、第5図は、各実施例および比較例で得られ
た磁気テープの磁性塗料塗布長さと磁性塗膜の表面粗度
との関係図、第6図は、磁気テープの製造工程における
従来の平滑化処理の概略を示す説明図である。 4・・・基体フィルム、5・・・磁性塗膜、6,7,8
.9.10.13・・・平滑化処理材 甜tl彊朧Q匙回典駆く

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、基体フィルム上に磁性塗料を塗着し、次いで、この
    塗着により形成された磁性塗膜を平滑化処理するに当た
    り、当該磁性塗料に使用した磁性粉末より硬い平滑化処
    理材を磁性塗膜表面に接触させて磁性塗膜表面を平滑化
    することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
JP18333784A 1984-08-31 1984-08-31 磁気記録媒体の製造方法 Pending JPS6161234A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03288326A (ja) * 1990-04-04 1991-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体およびその製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS548646A (en) * 1977-06-22 1979-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd Method of coating

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