JPS6161115B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

この発明はコントラスト等の表示品位を著しく
向上した表示装置の製造方法に関する。 一般に平型のマトリクス表示装置は大面積の表
示が可能なこと、図形の歪が生じないこと、更に
はブラウン管を用いたものに対して小型化が可能
で、低電圧で動作させることができるなどの長所
を持ち、各方面で用いられるようになつてきてい
る。マトリクス表示装置としては液晶表示装置、
プラズマ表示装置、螢光表示装置PLZT表示装置
等が含まれるが、この発明においては液晶表示装
置の場合を例として説明を行なうことにする。 さて、従来のマトリクス表示装置例えばダイナ
ミツクスキヤツタリングモード液晶表示装置は第
１図に示すように構成され、これは特公昭45−
21729号公報にも詳しく説明されている。即ち、
２枚のガラスからなる基板１，２が約５〜30μｍ
の間隔をもつて対向配設され、その内部にはネマ
テイツク液晶が定められた分子配列をもつて充た
されている。そして一方の基板１の内面には行電
極群となる複数の帯状透明導電膜３が被着され、
他方の基板２の内面にも列電極群となる複数の帯
状透明導電膜４が前記透明導電膜３と直交する方
向に被着されている。これら各透明導電膜３，４
の交点部分が表示素として、その交点を通る１組
の透明導電膜３，４に規定の電圧が印加された場
合、光の散乱を起こすことによつて表示を行な
う。尚、第１図中５，６は電圧源、７，８はスイ
ツチ、９は光源、１０は使用者の目である。 又、第２図は別の従来例を示したもので、上記
の透明導電膜３，４の電気抵抗を下げるために、
透明導電膜４にクロムなどの金属膜１１を並置し
た場合の例であり、一方の基板２のみ図示してあ
る。尚、金属膜１１は不透明であるので表示には
関与しないが、他は第１図の場合と同様の動作を
行なう。 ところが上記のような従来の表示装置において
は次のような欠点がある。即ち、不要に散乱され
た光によつてコントラストが低下する。又、観察
面側から入つた光の反射によりコントラストが低
下する。更に第２図のように金属膜１１を並置し
た場合には、この金属膜１１部分の光の反射率が
高いため、コントラストを低下させる。 この発明は上記従来の欠点を除去したもので、
コントラスト等の表示品位を著しく向上した表示
装置の製造方法を提供することを目的とする。 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を詳
細に説明する。この発明はマトリクス状に形成さ
れた表示素の周囲の一部又は全部を光吸収物質を
もつて覆つたことを特徴としており、表示装置と
してダイナミツクスキヤツタリングモード液晶表
示装置の場合を例にとり説明する。即ち、第３図
に示すように２枚のガラスからなる基板１２，１
３が５〜30μｍの間隔をもつて対向配設され、そ
の内部にはｎ型ネマテイツク液晶が定められた分
子配列をもつて充たされている。そして一方の基
板１２の内面には、行電極群となる複数の帯状透
明導電膜１４が被着され、他方の基板１３の内面
にも列電極群となる複数の帯状透明導電膜１５が
被着されている。この場合、透明導電膜１４と透
明導電膜１５とは互いに交差する方向に形成され
ていることが必要であり、通常、直交する方向に
形成されている。尚、第３図においては、各透明
導電膜１４，１５はそれぞれ各基板１２，１３に
つき４個づつしか示していないが、これは説明を
簡単にするためで、通常はもつと多く設けられて
いる。これら各透明導電膜１４，１５の交点部分
が表示素として、その交点を通る一組の透明導電
膜１４，１５に規定の電圧が印加された場合、光
の散乱を起すことにより表示を行なう訳けである
が、更に、この発明では前記複数の透明導電膜１
４の相互間及び前記複数の透明導電膜１５の相互
間には、それぞれ光吸収物質１６，１７が被着さ
れている。この光吸収物質１６，１７としては、
例えば黒色塗料を用いることができる。 この黒色塗料を被着すると、液晶表示素子の場
合には極めて薄くする必要があるため、この発明
では次のようにして光吸収物質１６，１７を被着
している。即ち、基板１２，１３に硫化銀30％を
含むペーストを約0.5mmの厚さに所定の部分（透
明導電膜１４，１５の非形成部分）にスクリーン
印刷により印刷する。これを乾燥した後、580℃
大気中で４時間、更に580℃還元雰囲気中で４時
間焼成して銀を基板１２，１３中に拡散させる。
この処理によつて基板１２，１３中に数μｍの深
さまで黒化処理がなされ、光の透過率をほぼ０に
することができる。この後、表面に残つたペース
トを軽く研摩して落せば、光吸収物質１６，１７
を所定部分に有する基板１２，１３が得られるの
で、この基板１２，１３にIn₂O₃等の透明導電膜
１４，１５を蒸着し、公知の方法でパターニング
することにより、この発明に用いる完成した基板
１２，１３が得られる。 この発明の製造方法により製造された表示装置
は上記説明及び図示のように構成され、基板１
２，１３に形成した各透明導電膜１４，１５の間
には光吸収物質１６，１７が被着されているの
で、コントラストが非常に優れ、表示部位が著し
く向上した。又、この発明の製造方法では、略透
明な基板１２，１３としてガラス板を用い、銀を
含む物質を所定形状に被着後、基板１２，１３の
ガラスの軟化点より０〜50℃低い温度で熱処理し
て光を吸収する部分を設けているので、熱処理条
件を変えて銀の拡散量を調整することにより、容
易に光吸収物質１６，１７の光透過率を変えるこ
ともできる。又、このものは塗料を用いたものの
ように基板１２，１３上に凸部を形成しないの
で、液晶分子を均一に配向させることができ望ま
しいものである。 尚、第４図はこの発明の変形例を示したもの
で、ツウイステツドネマテイツク反射型液晶表示
装置に適用したものである。即ち、２枚のガラス
からなる基板１８，１９が５〜30μｍの間隔をも
つて対向配設され、その内部には正の誘電異方性
をもつネマテイツク液晶が所定の配向方向をもつ
て充たされている。そして、一方の基板１８の内
面にはクロム等からなる複数の帯状金属層２０と
この金属層２０を覆つて複数の帯状透明導電膜２
１が被着され、各金属層２０と各透明導電膜２１
により行電極群が構成されている。又、他方の基
板１９内面にはクロム等からなる複数の帯状金属
層２２とこの金属層２２を覆つて複数の帯状透明
導電膜２３が被着され各金属層２２と各透明導電
膜２３により列電極群が構成されている。この場
合、金属層２２と透明導電膜２３は前記金属層２
０及び透明導電膜２１とは直交する方向に形成さ
れている。更に観察側に位置する基板１８には、
予め各表示素間つまり各透明導電膜２１の相互間
に第５図からも明らかなように光吸収物質２４が
被着されている。又、第４図では分解して示して
あるが、基板１８の外面には偏光板２５が取付け
られ、基板１９の外面には偏光板２６と反射板２
７が積層して取付けられている。この場合、偏光
板２５と偏光板２５はその偏光軸方向が並行にな
るように取付けられているため、外部から電圧が
印加されないときは暗く、列電極と行電極間に所
定の電圧が印加された場合にその表示部分が明る
くみえる。尚、第４図中、２８は光源、２９は使
用者の目である。 上記第４図及び第５図の変形例において、発明
者の実験によれば、光吸収物質２４の占める面積
を全体の４％とし、光吸収物質２４の光透過率を
約60％とすると、コントラストの向上は正面から
観察した場合次の通りであつた。

【表】 このように、この発明は導電性を向上させるた
めのクロムのような反射率の高い被膜をもつ反射
型の表示装置に適用した場合には、各表示素の周
囲を基板の対向内面側に光吸収物質で覆つている
ため、斜め方向より観察した場合、像が２重に見
えるという欠点をも軽減できるので、よりよい表
示品位をもつツウイステツドネマテイツク反射型
液晶表示装置を得ることができる。 以上説明したようにこの発明によれば、実用的
価値大なる表示装置の製造方法を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は従来の表示装置の２例を示
す斜視図、第３図はこの発明の一実施例に係る表
示装置を示す斜視図、第４図はこの発明の変形例
を示す分解斜視図、第５図は第４図の一部を拡大
して示す斜視図である。 １２，１３……基板、１４，１５……透明導電
膜、１６，１７……光吸収物質。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 表示電極が形成された複数個の透明な基板間
   に表示媒体を挾持してなり且つ前記表示電極を設
   けた部分以外の基板面の所定箇所に光吸収物質が
   形成されてなる表示装置の製造方法において、 銀を含む物質を前記基板面の所定箇所に被着し
   た後、前記基板材質の軟化点より実質的に低い温
   度で熱処理することにより、前記銀を前記基板に
   拡散させて前記光吸収物質を形成することを特徴
   とする表示装置の製造方法。