JPS60170889A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は液晶表示素子の製造方法に関するものである。

〈従来技術〉 液晶表示素子は表示部以外からの漏光を遮断するために
液晶セル内のパターン電極のない領域にマスクが形成さ
れているが、従来のこのマスク形成方法は次の通りであ
った。第５図参照のこと。

基板１上に透明導電膜２を蒸着後、該透明導電膜２上に
所望のパターンにレジスト膜３を印刷しエツチングを行
う（同図（ａ））。

出来」二がったパターン電極２上のレジスト膜３を剥離
する（同図（ｂ））。

フォトリゾグラフィ法又はスクリーン印刷法若しくはオ
フセット印刷法等により前記パターン電極２間（或は一
部電極２上）にマスク４を形成する。

ところか、この従来法では、精度の関係上、パターン電
極２とマスク４との間に間隙が生じたり、或いは電極２
上にマスク４が重なるために表示面積が損なわれるとい
う欠点があった。

〈発明の目的〉 そこで本発明においては、電極との間にすき間を生じた
り、又、電極位置にすれ込んだりしないところの工程数
を減じるマスク形成法を有する液晶表示素子の製造方法
を提供する。

〈実施例〉 以下、本発明の構成を開示する。

本発明の液晶表示素子の製造方法はレジスト剥離の前に
Ｑｉ極基板全面にマスクをコーティングすることを特徴
とする。

具体的に実施例を取り上げて説明する。第１図参照のこ
と。

基板５上に透明導電膜６を蒸着後、該透明導電膜６上に
所望のパターンでレジスト膜７を印刷しエツチングを行
う（同図（ａ））。

基板全面に黒色インク（顔料、セルロース樹脂及びブチ
ルセルソルブの混合体）８をロールコータにて塗布する
。これゆえ、該黒色インキ８は前記パターン電極６上の
レジスト膜７上及び該パターン電極６のない基板５上に
コーティングされる（同図（ｂ））。

レジスト膜７を剥離する。すると、パターン電極６上に
あったレジスト膜上に塗布された黒色インキ８は該レジ
スト剥離に伴い脱離して、基板５上に直接コーティング
されていた黒色インキ８のみ残存する（同図（Ｃ））。

本実施例によれば、第２図及び第３図の通り、基板上の
パターン型彫のない領域を余す所なく着実にマスクでき
る。

又、第４図の如（、ドツトマトリックス液晶表示の場合
においても小さな隙間に容易にマスク可能で、点灯部Ａ
を片面マスク部Ｂ及び両面マスク部Ｃで囲繞するため点
灯部分が密集しているにも拘らずある点灯部分と隣接す
る点灯部分とに明確な境界線を入れられる。

なお、本発明の液晶表示装置の製造方法はＧＨ（ゲスト
・ホスト）及びＴＮ（ツイストネマチック）ＦＥＭの液
晶セルに適用できる。

さらに、本発明のマスク工程をセグメント電極基板及び
コモン電極基板の両方に施せば、引き出し線（引き出し
電極）等の非点灯領域にもマスクできる。

〈効果〉 以上の様に本発明の液晶表示素子の製造方法によれば、 （８１電極を形成するパターンを成したレジスト嘆上に
マスクを塗布するため、位置ズレのない且つ隙間のない
マスクが形成できる。

（ｂｌ　従来ではマスク形成に当たり、再度フォトリゾ
グラフィか若しくはスクリーン印刷等の工程を要したが
、本方式ではマスクに使用する材料をエツチング後塗布
するだけで済み、工程数が減少する。

（Ｃ）　エツチング後全面に塗布するだけと言う簡単な
処理にて細いパターンまで精度良くマスクできる。

等の作用効果を得る。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ＋　、　（ｂ）　、　（Ｃ）は本発明の液晶
表示素子の製造方法の工程図、第２図、第３図及び第４
図は前記本発明の液晶表示装置の製造方法の適用された
電極基板の平面図、第５図（ａ）、　（ｂ）　、　（Ｃ
）は従来の液晶表示素子の製造方法の工程図である。 ５・・・基板、６・・・透明導電膜、７・・・レジスト
腔。 ８・・・マスク。 代理人　弁理士　福　士　愛　豚（２名）（ｂ） 第１図　第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記工程を包含することを特徴とする液晶表示素子
   の製造方法。 ■　基板」二に透明導電膜を蒸着する。 ■　レジストを印刷する。 ■　エツチングを行う。 ■　全面にマスクを塗布する。 ■　レジストを剥離する。