JPS6157552A - 3−アミノピロリジンまたはその塩の製法 - Google Patents
3−アミノピロリジンまたはその塩の製法Info
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- JPS6157552A JPS6157552A JP17843984A JP17843984A JPS6157552A JP S6157552 A JPS6157552 A JP S6157552A JP 17843984 A JP17843984 A JP 17843984A JP 17843984 A JP17843984 A JP 17843984A JP S6157552 A JPS6157552 A JP S6157552A
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- Japan
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- acid
- aminopyrrolidine
- salt
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、3−アミノピロリジンまたはその塩の製法に
関する。さらに詳細には、本発FiAFi、一般式 〔式中 R1は低級アルキル基を示す。コで表わされる
化合物を鉱酸と反応させることを特徴とする3−アミノ
ピロリジンまたはその塩の製法に関する。
関する。さらに詳細には、本発FiAFi、一般式 〔式中 R1は低級アルキル基を示す。コで表わされる
化合物を鉱酸と反応させることを特徴とする3−アミノ
ピロリジンまたはその塩の製法に関する。
本発明によって得られる3−アミノピロリジンまたはそ
の塩は、合成抗菌剤として有用な一般式で表わされるΦ
ノリンカルポン酸およびす7チリジン力ルボン酸系化合
物を製造する際の中間体として極めて有用な化合物であ
る。
の塩は、合成抗菌剤として有用な一般式で表わされるΦ
ノリンカルポン酸およびす7チリジン力ルボン酸系化合
物を製造する際の中間体として極めて有用な化合物であ
る。
従来、3−アミノピロリジンまたはその塩は、つぎに示
すルートに従って製造されている(ジャーナル・オプ・
メデイシナル・ケミストリー第11巻、第1034〜1
037頁(1968年)特開昭53−28161号公報
)。
すルートに従って製造されている(ジャーナル・オプ・
メデイシナル・ケミストリー第11巻、第1034〜1
037頁(1968年)特開昭53−28161号公報
)。
しかしながら、上記した従来の方法によれば、ピロリジ
ンの1位をベンジル基で保護しているため、最終工程に
おいてこれを接触還元によ)脱離させる必要があるので
、この方法を工業的に実施することは極めて困難であっ
た。
ンの1位をベンジル基で保護しているため、最終工程に
おいてこれを接触還元によ)脱離させる必要があるので
、この方法を工業的に実施することは極めて困難であっ
た。
かかる状況下において本発明者らは、このような接触還
元を行うことなく、簡単な操作で工業的に有利な3−ア
ミノピロリジンまたはその塩の製法を開発せんと鋭意研
究した結果、本発明を完成するに至った。
元を行うことなく、簡単な操作で工業的に有利な3−ア
ミノピロリジンまたはその塩の製法を開発せんと鋭意研
究した結果、本発明を完成するに至った。
本発明方法によれば、ピロリジン骨格の1位にr+”o
L基(11は前記したと同様の意味を有する。)を導入
した一般式Cll0化合物を原料とし、これと鉱酸を反
応させるといった簡単な操作で容易に3−アミノピロリ
ジンまたはその塩へ誘導することができる。
L基(11は前記したと同様の意味を有する。)を導入
した一般式Cll0化合物を原料とし、これと鉱酸を反
応させるといった簡単な操作で容易に3−アミノピロリ
ジンまたはその塩へ誘導することができる。
以下、本発明の詳細な説明する。
なお、本明細書において、「低級アルキル基」とは、た
とえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル
、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、tert
−ブチルなどのC□〜4アルキル基を、および「低級ア
ルケニル基」とは、たとえば、ビニル、アリルなどのC
2〜4アルケニ/I/基を意味するものとする。
とえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル
、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、tert
−ブチルなどのC□〜4アルキル基を、および「低級ア
ルケニル基」とは、たとえば、ビニル、アリルなどのC
2〜4アルケニ/I/基を意味するものとする。
本発明方法における鉱酸としては、たとえば、濃塩酸、
濃硫酸、希硫酸などが挙げられ、これらは一般式CI)
の化合物に対して約5〜50倍モル使用される。また、
本発明方法は、50〜150℃で1〜20時間反応させ
ることによって実施され、ついで、所望に応じて通常の
脱塩または塩形成反応を行ってもよい。
濃硫酸、希硫酸などが挙げられ、これらは一般式CI)
の化合物に対して約5〜50倍モル使用される。また、
本発明方法は、50〜150℃で1〜20時間反応させ
ることによって実施され、ついで、所望に応じて通常の
脱塩または塩形成反応を行ってもよい。
3−アミノピロリジンの塩としては、塩酸、臭化水素酸
、ヨク化水素酸、硝酸または硫酸などの鉱酸との塩が挙
げられる。
、ヨク化水素酸、硝酸または硫酸などの鉱酸との塩が挙
げられる。
また、本発明方法の原料である一般式CDの化合物は、
たとえば、特開昭53−281’61号公報またはケミ
シエ轡ペリヒテ第117巻、第856頁(1984年)
などに記載された方法で、下記の製造ルートに従って製
造することができる。
たとえば、特開昭53−281’61号公報またはケミ
シエ轡ペリヒテ第117巻、第856頁(1984年)
などに記載された方法で、下記の製造ルートに従って製
造することができる。
CI)
〔式中、妃は前記と同様の意味を有する。〕つぎに、実
施例を挙げて説明するが、本発明は、これに限定される
ものではない。
施例を挙げて説明するが、本発明は、これに限定される
ものではない。
実施例
ジルアミ/・塩酸塩9.7Pを加えて室温で1時間反応
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にクロ
ロホルム100コおよび水50dを加え、有機層を分取
する。この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプ
ロピルエーテル20−を加えて析出した結晶を戸数すれ
ば、融点94〜96℃を示すl−エトキシカルボニル−
3−ヒドロキシイミノピロリジン18、Of(収率82
.2%)を得る。
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にクロ
ロホルム100コおよび水50dを加え、有機層を分取
する。この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプ
ロピルエーテル20−を加えて析出した結晶を戸数すれ
ば、融点94〜96℃を示すl−エトキシカルボニル−
3−ヒドロキシイミノピロリジン18、Of(収率82
.2%)を得る。
I R(IC]3 r) cm−1;νc=o 168
ONMR(CDC1x)δ値; 1.25 < sn 、 t 、 J=7Hz 、 c
H,C)t!−> 。
ONMR(CDC1x)δ値; 1.25 < sn 、 t 、 J=7Hz 、 c
H,C)t!−> 。
(2)l−エトキシカルボニル−3−ヒドロキシイミノ
ピロリジン5.Ofをエタノール150dに溶解させ、
塩化ニッケル・6水和物16,5fを加える。ついで、
−30℃で水素化ホウ素ナトリウム2.21Fを1時間
を要して分割添加し、同温度で1時間、さらに室温で1
時間反応させる。
ピロリジン5.Ofをエタノール150dに溶解させ、
塩化ニッケル・6水和物16,5fを加える。ついで、
−30℃で水素化ホウ素ナトリウム2.21Fを1時間
を要して分割添加し、同温度で1時間、さらに室温で1
時間反応させる。
ついで、反応液を0℃まで昇温させ、6N−塩酸でpH
[lに調整した後、減圧下に溶媒を留去する。
[lに調整した後、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物に酢酸エチル50mおよび水10−を加
え、濃アンモニア水でpH9に調整する。
え、濃アンモニア水でpH9に調整する。
析出する不溶物を戸先し、有機層を分取する。さらに水
層を酢酸エチル50−ずつで2回抽出して、有機層を分
取し、先の有機層と合せて、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、油状の1−エトキ
シカルボニル−3−アミノピロリジン4.Of(収率8
7.1%、)を得る。
層を酢酸エチル50−ずつで2回抽出して、有機層を分
取し、先の有機層と合せて、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、油状の1−エトキ
シカルボニル−3−アミノピロリジン4.Of(収率8
7.1%、)を得る。
IR(ニー))cln−”i νc=o 168O
NMR(CDC1;)δ値; 1.25 (3H、t 、 J=7Hz 、 CH3c
H1−) 。
NMR(CDC1;)δ値; 1.25 (3H、t 、 J=7Hz 、 CH3c
H1−) 。
13) 1−エトキシカシメニル−3−アミノピロリ
ジン4.Ofを濃塩酸40dに溶解させ、5時間加熱還
流させる。ついで、反応液を室温まで冷却した後、減圧
下に溶媒を留去し、析出した結晶性物質をエタノール6
dで洗浄すれば、吸湿性の3−アミノピロリジン・2塩
酸塩3.3?(収率82.096)を得る IR(ヌジョール)cm−”; シNK、+、m、+
3000〜200ONMR(D雪O)δ値; (4)3−アミノピロリジン・2塩酸塩15.9fにメ
タノール50mを加え、さらに、ナトリウムメチラー)
10.8Fを加える。ついで、室温で1時間攪拌した後
、不溶物を戸先し、得られたF液を蒸留すれば、沸点1
56℃を示す3−アミノピロリジンを得る。
ジン4.Ofを濃塩酸40dに溶解させ、5時間加熱還
流させる。ついで、反応液を室温まで冷却した後、減圧
下に溶媒を留去し、析出した結晶性物質をエタノール6
dで洗浄すれば、吸湿性の3−アミノピロリジン・2塩
酸塩3.3?(収率82.096)を得る IR(ヌジョール)cm−”; シNK、+、m、+
3000〜200ONMR(D雪O)δ値; (4)3−アミノピロリジン・2塩酸塩15.9fにメ
タノール50mを加え、さらに、ナトリウムメチラー)
10.8Fを加える。ついで、室温で1時間攪拌した後
、不溶物を戸先し、得られたF液を蒸留すれば、沸点1
56℃を示す3−アミノピロリジンを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は低級アルキル基を示す。〕で表わされ
る化合物を鉱酸と反応させることを特徴とする3−アミ
ノピロリジンまたはその塩の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17843984A JPS6157552A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 3−アミノピロリジンまたはその塩の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17843984A JPS6157552A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 3−アミノピロリジンまたはその塩の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6157552A true JPS6157552A (ja) | 1986-03-24 |
Family
ID=16048536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17843984A Pending JPS6157552A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 3−アミノピロリジンまたはその塩の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6157552A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5598160A (en) * | 1979-01-09 | 1980-07-25 | Robins Co Inc A H | Cis and transs33aryloxyy44hydroxypyrrolidine and its derivative |
-
1984
- 1984-08-29 JP JP17843984A patent/JPS6157552A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5598160A (en) * | 1979-01-09 | 1980-07-25 | Robins Co Inc A H | Cis and transs33aryloxyy44hydroxypyrrolidine and its derivative |
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