JPS6157231A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPS6157231A JPS6157231A JP15662184A JP15662184A JPS6157231A JP S6157231 A JPS6157231 A JP S6157231A JP 15662184 A JP15662184 A JP 15662184A JP 15662184 A JP15662184 A JP 15662184A JP S6157231 A JPS6157231 A JP S6157231A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- valve body
- cam
- gate valve
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体基板やマスク基板等を真空処理するロー
ドロック室を具備する真空装置に関する。
ドロック室を具備する真空装置に関する。
半導体装置の製造において、半導体基板やマスク基板等
を真空処理する工程は露光、エツチング、スパ７り、イ
オン注入、蒸着等極めて多い。 このような工程におい
ては真空室の真空を常時維持するために、半導体基板や
マスク基板等の被処理体を真空室へ搬入、搬出する場合
は一般にロードロック室を経由して行う。
を真空処理する工程は露光、エツチング、スパ７り、イ
オン注入、蒸着等極めて多い。 このような工程におい
ては真空室の真空を常時維持するために、半導体基板や
マスク基板等の被処理体を真空室へ搬入、搬出する場合
は一般にロードロック室を経由して行う。
被処理体の搬入、搬出時にロードロツタ室の真空を破っ
たときに、ロードロック室と真空室間のゲートバルブは
大気圧を受けるため、常時閉止状態を保つために種々な
工夫が凝らされている。
たときに、ロードロック室と真空室間のゲートバルブは
大気圧を受けるため、常時閉止状態を保つために種々な
工夫が凝らされている。
第３図は従来例によるロードロック室を具備する真空装
置の断面図である。
置の断面図である。
図において、１は真空室、２はロードロツタ室、３はゲ
ートバルブの弁体、４，５はパツキン、６は蓋、７はゲ
ートバルブの弁体３を駆動するシリンダ、ｄはロードロ
ツタ室側弁座の開口部の直径を示す。
ートバルブの弁体、４，５はパツキン、６は蓋、７はゲ
ートバルブの弁体３を駆動するシリンダ、ｄはロードロ
ツタ室側弁座の開口部の直径を示す。
被処理体の搬入、搬出時にＭ６を開きロードロック室の
真空を破ったときは、ゲートバルブの弁体３は大気圧を
受けるため、ゲートバルブが閉止状態を保つためにはシ
リンダ７により、πｄ２７４ｋｇ（ｄはｃｍであられす
）の力で上方に押し上げなければならない。
真空を破ったときは、ゲートバルブの弁体３は大気圧を
受けるため、ゲートバルブが閉止状態を保つためにはシ
リンダ７により、πｄ２７４ｋｇ（ｄはｃｍであられす
）の力で上方に押し上げなければならない。
例えばｄ ＝２０ｃｍ の場合は、約３００ｋｇとい
う大きな力を必要とする。
う大きな力を必要とする。
従って弁体３を駆動するシリンダ７は大きくなり、装置
は大型化される。
は大型化される。
従来例によると、ロードロック室と真空室間のゲートバ
ルブの弁体を駆動する装置の容量が大きくなり、また駆
動源が断の時には真空室の真空が破れるという欠点があ
る。
ルブの弁体を駆動する装置の容量が大きくなり、また駆
動源が断の時には真空室の真空が破れるという欠点があ
る。
〔問題点を解決するための手段〕 ・
上記問題点の解決は、ロードロツタ室と真空室間のゲー
トバルブを閉止した時に、該ゲートバルブの弁体をカム
機構によりロックする手段を有する本発明による真空装
置により達成される。
トバルブを閉止した時に、該ゲートバルブの弁体をカム
機構によりロックする手段を有する本発明による真空装
置により達成される。
〔作用〕。
本発明によれば、ロードロツタ室を大気にさらしたとき
、ゲートバルブを閉止するために弁体をロードロック室
側の弁座に押しつける力は、弁体を駆動するシリンダに
よらないで、カム機構によりロックするため、弁体を駆
動するシリンダは単に弁体を移動するだけの小容量のシ
リンダでよい。
、ゲートバルブを閉止するために弁体をロードロック室
側の弁座に押しつける力は、弁体を駆動するシリンダに
よらないで、カム機構によりロックするため、弁体を駆
動するシリンダは単に弁体を移動するだけの小容量のシ
リンダでよい。
またカムの形状を斜面にし、これにより拡大された押圧
力を利用すればカムを駆動するシリンダも小容量でよく
、装置は小型化される。
力を利用すればカムを駆動するシリンダも小容量でよく
、装置は小型化される。
このようなロック機構により、駆動源断時にも真空室の
真空が破れるようなことはない。
真空が破れるようなことはない。
第１図は本発明によるロードロック室を具備する真空装
置の断面図である。
置の断面図である。
被処理体の搬入、搬出時に蓋６を開きロードロック室２
の真空を破ったときは、ゲートバルブの弁体３は大気圧
を受けるため、ゲートバルブが閉止状態を保つために弁
体３を上方に押し上げなければならない。
の真空を破ったときは、ゲートバルブの弁体３は大気圧
を受けるため、ゲートバルブが閉止状態を保つために弁
体３を上方に押し上げなければならない。
この力Ｆはカム８によって与えられる。
図において、８は断面形状に斜面を有するカムで、上下
のガイド９．１０にガイドされ、シリンダＩＪにより左
右に駆動する。弁体３の駆動軸１２に取り付けられたベ
アリング１３がカム８に接触して、弁体３をロックした
り、開放したりできるようになっている。
のガイド９．１０にガイドされ、シリンダＩＪにより左
右に駆動する。弁体３の駆動軸１２に取り付けられたベ
アリング１３がカム８に接触して、弁体３をロックした
り、開放したりできるようになっている。
ベアリング１４．１５は弁体３をロック時に、その駆動
軸１２に受ける撓みを防止するためのものである。
軸１２に受ける撓みを防止するためのものである。
弁体３を上方に押し上げる力は、カム８の斜面により拡
大されるため、シリンダ１１は小容量のものでよい。
大されるため、シリンダ１１は小容量のものでよい。
第２図はカム８の構造を模式的に説明する斜視図である
。図で撓み止めベアリング１４．１５は省略している。
。図で撓み止めベアリング１４．１５は省略している。
以上説明したように本発明によれば、ロードロック室と
真空室間のゲートバルブの弁体の駆動源“が断の時にも
、真空室の真空を確実に維持することができ、かつ装置
は小型化できる。
真空室間のゲートバルブの弁体の駆動源“が断の時にも
、真空室の真空を確実に維持することができ、かつ装置
は小型化できる。
第１図は本発明によるロードロック室を具備する真空装
置の断面図、 第２図はカム８の構造を模式的に説明する斜視図、 第３図は従来例によるロードロツタ室を具備する真空装
置の断面図である。 図において、 ｌは真空室、 ２はロードロック室、３は弁体、
４．５はパツキン、６は蓋、 ７
はシリンダ、 ８はカム、 ９，１０はガイド、１１はシリン
ダ、 １２は駆動軸、 １３．１４．１５はベアリング を示す。
置の断面図、 第２図はカム８の構造を模式的に説明する斜視図、 第３図は従来例によるロードロツタ室を具備する真空装
置の断面図である。 図において、 ｌは真空室、 ２はロードロック室、３は弁体、
４．５はパツキン、６は蓋、 ７
はシリンダ、 ８はカム、 ９，１０はガイド、１１はシリン
ダ、 １２は駆動軸、 １３．１４．１５はベアリング を示す。
Claims (1)
- ロードロック室と真空室間のゲートバルブを閉止した時
に、該ゲートバルブの弁体をカム機構によりロックする
手段を有することを特徴とする真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15662184A JPS6157231A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15662184A JPS6157231A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 真空装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6157231A true JPS6157231A (ja) | 1986-03-24 |
| JPS6322174B2 JPS6322174B2 (ja) | 1988-05-11 |
Family
ID=15631713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15662184A Granted JPS6157231A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6157231A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04129706U (ja) * | 1991-05-17 | 1992-11-27 | 三陽機器株式会社 | 農用トラクタのフロントローダ連結支持装置 |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP15662184A patent/JPS6157231A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04129706U (ja) * | 1991-05-17 | 1992-11-27 | 三陽機器株式会社 | 農用トラクタのフロントローダ連結支持装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6322174B2 (ja) | 1988-05-11 |
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