JPS6153792A - 多層配線基板 - Google Patents
多層配線基板Info
- Publication number
- JPS6153792A JPS6153792A JP17534984A JP17534984A JPS6153792A JP S6153792 A JPS6153792 A JP S6153792A JP 17534984 A JP17534984 A JP 17534984A JP 17534984 A JP17534984 A JP 17534984A JP S6153792 A JPS6153792 A JP S6153792A
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- JP
- Japan
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- multilayer wiring
- wiring board
- conductor layer
- hole
- conductor
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は、基板上に所定のパターンの導体層ど絶縁体層
とを積層してなる多層配線基板に関する。
とを積層してなる多層配線基板に関する。
C発明の技術的削り
従来から、電子部品の高密度実装化を進めるために、回
路基板を多層化することが行われでいろ。
路基板を多層化することが行われでいろ。
セラミック材を基板どして1史用する多層化の方法どし
ては、以下に示ツ3通りの方法か知られている。
ては、以下に示ツ3通りの方法か知られている。
第1の厚膜積層法は、アルミJ等の暴坂りに金、銅、銀
バラジラム等の導体ペーストと結晶化ガラスである絶縁
体ペーストとを所定のパターンになるよう印刷し、印刷
覆るごとに焼成を繰り返して多層化を行なう方法である
。
バラジラム等の導体ペーストと結晶化ガラスである絶縁
体ペーストとを所定のパターンになるよう印刷し、印刷
覆るごとに焼成を繰り返して多層化を行なう方法である
。
この場合、層間接続は絶縁体層のパターンとして形成さ
れるスルーボールを、印刷する導体ペーストで充jσイ
することにより行なわれる。
れるスルーボールを、印刷する導体ペーストで充jσイ
することにより行なわれる。
第2の印刷偵h′q法は、アルミナ等のグリーンシート
上にモリブデン、タングステン等の導体ペース1−を所
定のパターンになるよう印刷して乾燥し、この上にアル
ミナ等の絶縁体ペーストを所定のパターンになるよう印
刷して乾燥Jる。これを必要な層の故だり繰り返し、そ
の都度絶縁体層のパターンとして形成される各層ごとの
スルーボールを印1611 ′?I−る導体ペース1−
で充填して居間接続を行ない、積層したしのを所望の形
に打法いた後、還元′雰囲気中で焼成し−C多層化を行
なう方法である。
上にモリブデン、タングステン等の導体ペース1−を所
定のパターンになるよう印刷して乾燥し、この上にアル
ミナ等の絶縁体ペーストを所定のパターンになるよう印
刷して乾燥Jる。これを必要な層の故だり繰り返し、そ
の都度絶縁体層のパターンとして形成される各層ごとの
スルーボールを印1611 ′?I−る導体ペース1−
で充填して居間接続を行ない、積層したしのを所望の形
に打法いた後、還元′雰囲気中で焼成し−C多層化を行
なう方法である。
第3のグリーンシート積層法は、アルミナ等のグリーン
シートにモリブデン、タングステン等の導1本ペースト
を所定のパターンになるよう印刷しkらのを必要な層の
数だけ重ねて加熱加圧した後、所望の形に打1友き、還
元′l;囲気中で焼成ηる方法である。この場合、層間
接続は予めグリーンシー1−にプレス史打ら1友さ″等
により形成してJ5いたスルーホールを、グリーンシー
トを積層するごとに導体ペーストで充1眞することにに
り行なわれる。
シートにモリブデン、タングステン等の導1本ペースト
を所定のパターンになるよう印刷しkらのを必要な層の
数だけ重ねて加熱加圧した後、所望の形に打1友き、還
元′l;囲気中で焼成ηる方法である。この場合、層間
接続は予めグリーンシー1−にプレス史打ら1友さ″等
により形成してJ5いたスルーホールを、グリーンシー
トを積層するごとに導体ペーストで充1眞することにに
り行なわれる。
なJ5最近では、コンデンサや抵抗体を層間に形成した
ものち開発されている1゜ [苛n技術の問題点1 しかしながら、上述したような従来の多層化により製造
される多層配tfAj、を板には幾つかの問題点がある
。
ものち開発されている1゜ [苛n技術の問題点1 しかしながら、上述したような従来の多層化により製造
される多層配tfAj、を板には幾つかの問題点がある
。
その1つとして、スルーホール接続部が形成された部分
の表面平ift度の低下がある。
の表面平ift度の低下がある。
従来、第3図および第4図に示したように°電源ライン
、GNDライン等、パターンの幅用法が池の部位より大
きくされている幅広ン9体層部分1a、1bが絶縁体層
2を介して対向している部分がa在してこれら幅広導体
層部分1a、11]を層間接続する場合には、1111
!lのスルーホール3を形成し、このスルーホール3に
導体ベース1−を充填していた。
、GNDライン等、パターンの幅用法が池の部位より大
きくされている幅広ン9体層部分1a、1bが絶縁体層
2を介して対向している部分がa在してこれら幅広導体
層部分1a、11]を層間接続する場合には、1111
!lのスルーホール3を形成し、このスルーホール3に
導体ベース1−を充填していた。
ここで幅広導体層部分1a、1bは他の導体層部分4a
、4bと比較して大きな電流が流れるため、抵抗値を
極力低くしなければならないので、 !スルーホ
ール3は幅寸法の小さい導体層部分4a、4bを層間接
続する場合に形成覆るスルーホール5よつも大径にする
必要があった。
、4bと比較して大きな電流が流れるため、抵抗値を
極力低くしなければならないので、 !スルーホ
ール3は幅寸法の小さい導体層部分4a、4bを層間接
続する場合に形成覆るスルーホール5よつも大径にする
必要があった。
ところが、このようにスルーホールのi¥を大きくする
と、特にスルーボールの周縁部に導1本ベース吋−の凹
凸が発生し易く、先に述lメた厚膜積層法−1′J印刷
偵層法のように導IA層上に絶縁体層を形成し、さらに
再び導体層を形成するという工程を繰り返りと、積層さ
れて得られる多層配線板の表層部が相当凹凸を持った形
状になり、例えば表層部にIcチップとのボンディング
を行なうアウターリードボンディングパットが形成され
る場合には、凹凸にJ:リボンディング強度が著しく低
下してしまう。
と、特にスルーボールの周縁部に導1本ベース吋−の凹
凸が発生し易く、先に述lメた厚膜積層法−1′J印刷
偵層法のように導IA層上に絶縁体層を形成し、さらに
再び導体層を形成するという工程を繰り返りと、積層さ
れて得られる多層配線板の表層部が相当凹凸を持った形
状になり、例えば表層部にIcチップとのボンディング
を行なうアウターリードボンディングパットが形成され
る場合には、凹凸にJ:リボンディング強度が著しく低
下してしまう。
一方、先に述べたグリーンシート積層法により多層化を
行なう場合には、スルーホールの径が大ぎくで6表層部
は凹凸を持った形状に41らないが、この場合には径の
大きなスルーホールを形成すること自体が困′f「であ
るとともに、径の大ぎなスルーホールを形成したとして
も、そのスルーホール内への導体ベース1−の充填が困
雌であった。
行なう場合には、スルーホールの径が大ぎくで6表層部
は凹凸を持った形状に41らないが、この場合には径の
大きなスルーホールを形成すること自体が困′f「であ
るとともに、径の大ぎなスルーホールを形成したとして
も、そのスルーホール内への導体ベース1−の充填が困
雌であった。
これらの問題を解決するために、第5図J3よび第6図
に示したように、幅広導体層部分1a、1bに幅寸法の
小さい導体層部分4a、41+に形成するスルーホール
5と略等しい程度の小径のスルーホール3′を形成して
層間接続を行なう方法か考えられるが、この方法による
と表九η部の凹凸を減少させることは可能になるものの
、今度は接続部分の抵抗1直が上昇する。その結果、幅
広導体層部分がGNr)ラインあるいは電源ラインのパ
ターン等であった場合には、電圧隣下が生じてしよう。
に示したように、幅広導体層部分1a、1bに幅寸法の
小さい導体層部分4a、41+に形成するスルーホール
5と略等しい程度の小径のスルーホール3′を形成して
層間接続を行なう方法か考えられるが、この方法による
と表九η部の凹凸を減少させることは可能になるものの
、今度は接続部分の抵抗1直が上昇する。その結果、幅
広導体層部分がGNr)ラインあるいは電源ラインのパ
ターン等であった場合には、電圧隣下が生じてしよう。
また、幅広導体層部分に大ぎな電流が流れた場合に、抵
抗値の上背によりスル−ホール3′の部分が過熱し、最
悪の場合には接続が破断してしまう恐れがある。
抗値の上背によりスル−ホール3′の部分が過熱し、最
悪の場合には接続が破断してしまう恐れがある。
[発明の目的]
本発明は上述したにうな従来の問題点を解湾−リベくな
されたもので、基板上に所定のパターンの複数層の導体
層が絶縁体層を介して積層され、2層以上の導体層がス
ルーホール接続されてなる多h1配線基板において、表
層部の凹凸によるボンディング性の劣化やスルーホール
接続部分の過熱によるIIJ’i線等が生じる心配のな
い多層配線基板の提供を目的としている。
されたもので、基板上に所定のパターンの複数層の導体
層が絶縁体層を介して積層され、2層以上の導体層がス
ルーホール接続されてなる多h1配線基板において、表
層部の凹凸によるボンディング性の劣化やスルーホール
接続部分の過熱によるIIJ’i線等が生じる心配のな
い多層配線基板の提供を目的としている。
[発明の1■要1
すなわら本発明の多りく配線基板は、l板上に所定のパ
ターンの複数層の導体層が絶縁体層を介して積層されて
なる多層配線基板において、2層以上の導体層が前記絶
縁体層を介して対向している部分に複数のスルーボール
接続部が形成されていることを特徴としている。
ターンの複数層の導体層が絶縁体層を介して積層されて
なる多層配線基板において、2層以上の導体層が前記絶
縁体層を介して対向している部分に複数のスルーボール
接続部が形成されていることを特徴としている。
[発明の実施例コ
以下本発明の詳細を図面に示ず実施例に基づいて説明す
る。
る。
第1図および第2図は本発明の多層配線基板の一実施例
の構成を示す平面図J3よび横断面図である。
の構成を示す平面図J3よび横断面図である。
同図において68は積層工程において下層側どなる幅広
導体層部分を示している。この幅広導体層部分6aの上
方には絶縁体層7が形成されており、絶縁体層7の上層
側には幅広導体層部分6bが形成されている。これら幅
広導体層部分6a、6bはGNDライン、電源ライン等
、他の導(ホ層部分よりも大きな電流の流れるラインで
ある。
導体層部分を示している。この幅広導体層部分6aの上
方には絶縁体層7が形成されており、絶縁体層7の上層
側には幅広導体層部分6bが形成されている。これら幅
広導体層部分6a、6bはGNDライン、電源ライン等
、他の導(ホ層部分よりも大きな電流の流れるラインで
ある。
そして幅広導体層部分6a、6b間に(−j (f す
る絶縁[A層7には少数(図中133周)のスルーホー
ル8.8、・・・が近接して形成されている。これらス
ルーホール8.8、・・・の大きさは、幅寸法の小さい
導体層部分9a 、9bを居間接続する場合に形成する
スルーホール10の人ささとほぼ等しい径にされている
。
る絶縁[A層7には少数(図中133周)のスルーホー
ル8.8、・・・が近接して形成されている。これらス
ルーホール8.8、・・・の大きさは、幅寸法の小さい
導体層部分9a 、9bを居間接続する場合に形成する
スルーホール10の人ささとほぼ等しい径にされている
。
ずなわら、幅広導体層部分6a、6b間の接続を行なう
際に形成されるスルーホールのi子か通常450μm程
度にされる場合、本実施例における複数のスルーホール
8.8、・・・の径はそれぞれ100〜150μmV1
度にされる。
際に形成されるスルーホールのi子か通常450μm程
度にされる場合、本実施例における複数のスルーホール
8.8、・・・の径はそれぞれ100〜150μmV1
度にされる。
このJ、うなスルーホール8,8、・・・の形成(、L
、多層化を行なう際の各■稈で行なわれる。、 19+
1えぼ多層化が厚膜積層法や印刷積層法ににす(テなね
れる場合には、まずアルミナ等の基板りに金、′J’l
=J、 を銀バラジラム、モリブデン、タングス
テン等のジ9体ペーストを所定のパターンになるように
印刷し、さらにその上に結晶化ガラス、アルミプ等の絶
縁体ペーストを所定のパターンになるよう印刷するが、
この時、複数の小径のスルーホール8.8、・・・を近
IKさせて形成すればよい。
、多層化を行なう際の各■稈で行なわれる。、 19+
1えぼ多層化が厚膜積層法や印刷積層法ににす(テなね
れる場合には、まずアルミナ等の基板りに金、′J’l
=J、 を銀バラジラム、モリブデン、タングス
テン等のジ9体ペーストを所定のパターンになるように
印刷し、さらにその上に結晶化ガラス、アルミプ等の絶
縁体ペーストを所定のパターンになるよう印刷するが、
この時、複数の小径のスルーホール8.8、・・・を近
IKさせて形成すればよい。
多層化がグリーンシート積層法ににり行なわれる場合に
は、予め積層すべきグリーンシートにブレスや打ら(友
き等により複数の小径のスルーホール8.8、・・・を
所定の位置に形成してあけばよい。
は、予め積層すべきグリーンシートにブレスや打ら(友
き等により複数の小径のスルーホール8.8、・・・を
所定の位置に形成してあけばよい。
しかして、本実施例に示したように、幅広導体層部分の
居間接続を複数のスルーホール接続部を近接して形成づ
°ることにより行なえば、得られる多層配線基板の表層
部は平滑になる。
居間接続を複数のスルーホール接続部を近接して形成づ
°ることにより行なえば、得られる多層配線基板の表層
部は平滑になる。
ここでスルーホールを小径、化することににす、側々の
スルーホール接続部の抵抗10(よ上Rするが、このよ
うなスルーホールは?J2ftk形成されるので接続部
分の合成抵抗値は低くなり、焼き切れるような心配はな
い。
スルーホール接続部の抵抗10(よ上Rするが、このよ
うなスルーホールは?J2ftk形成されるので接続部
分の合成抵抗値は低くなり、焼き切れるような心配はな
い。
なお本実施例ではセラミック材からなる基板を用いた場
合について説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、樹脂材、金属材からむる基板を用いる場合に
も同様に実施可能である。
合について説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、樹脂材、金属材からむる基板を用いる場合に
も同様に実施可能である。
また、本実施例では層間接続される尋体居か2hηであ
る場合について説明したが、層間接、しモされる導体層
は3層、4層あるいはそれ以上であってfJJ、い。
る場合について説明したが、層間接、しモされる導体層
は3層、4層あるいはそれ以上であってfJJ、い。
[発明の効果]
以上説明したcl、うに本発明によれば、7311j上
に所定のパターンの複数層の導体層が絶縁体層を介して
積層されてなる多層配線基板の、2苦以十の導体層が絶
縁体層を介して対向している部分に複数のスルーホール
接続部を形成りるので、表層部に凹凸が生じることがな
く、しかもスルーホール接続部分の抵抗値も上背しない
。従ってボンディング性の劣化やスルーホール接続部分
の断線等を防止J゛ることができる。
に所定のパターンの複数層の導体層が絶縁体層を介して
積層されてなる多層配線基板の、2苦以十の導体層が絶
縁体層を介して対向している部分に複数のスルーホール
接続部を形成りるので、表層部に凹凸が生じることがな
く、しかもスルーホール接続部分の抵抗値も上背しない
。従ってボンディング性の劣化やスルーホール接続部分
の断線等を防止J゛ることができる。
第1図は本発明の多層配線基板の一実施例のhi成を示
す平面図、第2図その横断面図、第3図は従来の多層配
線基板の構成を承り平面図、第4図はその横断面図、第
5図は従来の他の多層配腺基仮の(1°11成を示1平
面図、第6図はその横断面図である。 1a、1b、6a、6b ・・・・・・・・・・・・幅広導体層部分2.7・・・
・・・・・・・・・・・・・・・絶縁体層3.3′、5
.8.10 ・・・・・・・・・・・・スルーホール4a 、4b
、 9a 、 9b ・・・・・・・・・・・・(幅寸法の小さい)導体層部
分 代理人弁理士 須 山 咋 − 第1図 第2図 a
す平面図、第2図その横断面図、第3図は従来の多層配
線基板の構成を承り平面図、第4図はその横断面図、第
5図は従来の他の多層配腺基仮の(1°11成を示1平
面図、第6図はその横断面図である。 1a、1b、6a、6b ・・・・・・・・・・・・幅広導体層部分2.7・・・
・・・・・・・・・・・・・・・絶縁体層3.3′、5
.8.10 ・・・・・・・・・・・・スルーホール4a 、4b
、 9a 、 9b ・・・・・・・・・・・・(幅寸法の小さい)導体層部
分 代理人弁理士 須 山 咋 − 第1図 第2図 a
Claims (5)
- (1)基板上に所定のパターンの複数層の導体層が絶縁
体層を介して積層されてなる多層配線基板において、2
層以上の導体層が前記絶縁体層を介して対向している部
分に複数のスルーホール接続部が形成されていることを
特徴とする多層配線基板。 - (2)スルーホール接続される導体層が、他の部位の導
体層よりも幅広に形成されている特許請求の範囲第1項
記載の多層配線基板。 - (3)スルーホール接続される導体層が、他の部位の導
体層よりも大さな電流が流れるラインのパターンである
特許請求の範囲第1項または第2項記載の多層配線基板
。 - (4)積層が、厚膜積層法あるいは印刷積層法により行
なわれている特許請求の範囲第1項ないし第3項のいず
れか1項記載の多層配線基板。 - (5)積層が、グリーンシート積層法により行なわれて
いる特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか1項
記載の多層配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17534984A JPS6153792A (ja) | 1984-08-23 | 1984-08-23 | 多層配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17534984A JPS6153792A (ja) | 1984-08-23 | 1984-08-23 | 多層配線基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6153792A true JPS6153792A (ja) | 1986-03-17 |
Family
ID=15994514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17534984A Pending JPS6153792A (ja) | 1984-08-23 | 1984-08-23 | 多層配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6153792A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0697314A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-04-08 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 半導体セラミックパッケージ基板 |
JP2015146382A (ja) * | 2014-02-03 | 2015-08-13 | キヤノン株式会社 | プリント回路板 |
US10820618B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-11-03 | Societe Des Produits Nestle S.A. | Heat sterilized high protein compositions with hydrolyzed protein from a continuous process with at least one endopeptidase |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4993864A (ja) * | 1973-01-12 | 1974-09-06 | ||
JPS5533052A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-08 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing multiilayer printed circuit board |
-
1984
- 1984-08-23 JP JP17534984A patent/JPS6153792A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4993864A (ja) * | 1973-01-12 | 1974-09-06 | ||
JPS5533052A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-08 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing multiilayer printed circuit board |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0697314A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-04-08 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 半導体セラミックパッケージ基板 |
JP2559977B2 (ja) * | 1992-07-29 | 1996-12-04 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | バイアに係るクラックを除去する方法及び構造、並びに、半導体セラミックパッケージ基板。 |
JP2015146382A (ja) * | 2014-02-03 | 2015-08-13 | キヤノン株式会社 | プリント回路板 |
US10820618B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-11-03 | Societe Des Produits Nestle S.A. | Heat sterilized high protein compositions with hydrolyzed protein from a continuous process with at least one endopeptidase |
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