JPH08204299A - 配線構造 - Google Patents

配線構造

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JPH08204299A
JPH08204299A JP1380795A JP1380795A JPH08204299A JP H08204299 A JPH08204299 A JP H08204299A JP 1380795 A JP1380795 A JP 1380795A JP 1380795 A JP1380795 A JP 1380795A JP H08204299 A JPH08204299 A JP H08204299A
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JP
Japan
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conductor
laid
insulating
copper conductor
conductor portion
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JP1380795A
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English (en)
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Satoru Hayashi
悟 林
Katsuaki Maruyama
雄秋 丸山
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0263High current adaptations, e.g. printed high current conductors or using auxiliary non-printed means; Fine and coarse circuit patterns on one circuit board
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate

Landscapes

  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 実装品の作業性向上、熱的制御性向上、耐ノ
イズ性向上を満足する配線構造を得る。 【構成】 第1の絶縁層2aのうち第1の銅導体3が敷
設された部分以外にエポキシ接着シート剤6を介して第
2の絶縁層4を接着し、第2の絶縁層4に第1の銅導体
3と大きさが異なる電流が流れる第2の銅導体5aを敷
設する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子制御機器、特に
インバータ及びサーボ等装置における、主にパワー系半
導体素子で構成されるパワー部とそれらを制御する制御
回路部を高密度に実装する配線構造に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】インバータ及びサーボ等の電子制御機器
の配線構造では、主にパワー系の半導体部品等を基板に
実装して構成されるパワー部とこのパワー部を制御する
ための部品を基板に実装して構成される制御回路部とで
構成され、最近では、パワー系の半導体部品等を放熱性
の良好な金属ベース基板上に実装し、このパワー系の半
導体部品等から構成されるパワー部を制御する制御回路
部を電子部品とともに別のガラスエポキシ回路基板上に
実装し、電気接続するようになってきた。
【0003】さらに、パワー部を制御する制御回路部を
実装したガラスエポキシ基板を金属ベース基板上に接着
して部分的に2層化し、残された金属ベース基板にパワ
ー系の半導体部品等を電子部品とともに実装して、部分
2層化して一体化された金属ベース基板が使用されるよ
うになってきた。
【0004】以下、配線構造としてインバータ及びサー
ボ等の電子制御機器に一般に使用されている金属ベース
基板を例に説明する。図6は従来の部分2層化した金属
ベース基板の模式図である。図において、101は厚さ
2mmのアルミ板からなる金属ベース、102はアルミ
ナ充填剤いりエポキシ樹脂よりなる厚さ0.15mmの
第1の絶縁層、103は厚さ0.105mmの銅導体、
104はガラスエポキシ板による厚さ0.2mmの第2
の絶縁層、105は厚さ0.035mmの銅導体、10
6は厚さ0.03mmのエポキシ接着シート剤である。
【0005】ここで、第1の絶縁層102は金属ベース
101に接着または接合されており、第2の絶縁層10
4はエポキシ接着シート剤106により第1の絶縁層1
02と接着または接合されている。また、銅導体103
は第1の絶縁層102に接着または接合されており、銅
導体105は第2の絶縁層104と接着または接合され
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、パワー
部を制御する制御回路部用のガラスエポキシ基板を金属
ベース基板上に接着して部分的に2層化するとともに残
された金属ベース基板にパワー系の半導体部品等を電子
部品とともに実装したところの従来の部分2層化金属ベ
ース基板では、制御部とパワー部とが一体化されている
ので取り扱い及び高密度化には有効であるが、以下に示
す問題点があった。
【0007】例えば、金属ベース基板の導体厚さが増大
すると、張り付けるガラスエポキシ基板も凹凸の影響を
受けて接着がうまくいかないという問題点があった。
【0008】また、1枚の基板にも関わらず、導体高さ
の差異があるため半田ペーストを複数回で印刷しなけれ
ばならないという問題点があった。
【0009】通常は金属ベース基板部にパワー部を形成
し、他の部分に制御回路部を形成するが、金属ベース基
板の部分2層一枚基板における導体高さの差異がある
と、パワー部と制御回路部との接続作業が困難となる。
更に、金属ベース基板に接着した制御回路部を多層化し
層の厚さが厚くなると、パワー部との接続性が一層困難
となる問題点があった。
【0010】制御回路部をパワー部に近接することによ
り、パワー部の熱及びノイズの影響を受け易くなるとい
う問題点があった。
【0011】この発明は上述のような課題を解決するた
めになされたもので、実装品の作業性向上、熱的制御性
向上、耐ノイズ性向上を満足する配線構造を得ることを
目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明に係る配線構造
は、絶縁部のうち第1の導体部が敷設された部分以外に
第1の導体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体
部を敷設したものである。
【0013】また、第1の面及びこの第1の面と段差形
状をなす第2の面を有する絶縁部の第1の面に第1の導
体部を敷設し、第2の面に第1の導体部と大きさが異な
る電流が流れる第2の導体部を敷設したものである。
【0014】また、第1の絶縁部に第1の導体部を敷設
し、第1の絶縁部のうち第1の導体部が敷設された部分
以外に敷設された第2の絶縁部に敷設され、第1の導体
部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷設し
たものである。
【0015】さらに、第2の絶縁部を第1の絶縁部より
も熱抵抗比の大きいものとしたものである。
【0016】また、第2の絶縁部を第1の絶縁部よりも
比誘電率の小さいものとしたものである。
【0017】さらにまた、第1の導体部の表面と第2の
導体部の表面とが同一平面をなすようにしたものであ
る。
【0018】また、第1の面及びこの第1の面と段差形
状をなす第2の面を有する第1の絶縁部の第1の面に第
1の導体部を敷設し、第1の絶縁部の第2の面に第1の
導体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷
設し、第1の導体部と第2の導体部とは第2の絶縁部及
び空間部を介して対向するようにしたものである。
【0019】
【作用】この発明に係る配線構造は、絶縁部のうち第1
の導体部が敷設された部分以外に第1の導体部と大きさ
が異なる電流が流れる第2の導体部を敷設したので、第
1の導体部のパターンによる凹凸の影響を受けない。
【0020】また、第1の面及びこの第1の面と段差形
状をなす第2の面を有する絶縁部の第1の面に第1の導
体部を敷設し、第2の面に第1の導体部と大きさが異な
る電流が流れる第2の導体部を敷設したので、第1の導
体部のパターンによる凹凸の影響を受けない。
【0021】また、第1の絶縁部に第1の導体部を敷設
し、第1の絶縁部のうち第1の導体部が敷設された部分
以外に敷設された第2の絶縁部に敷設され、第1の導体
部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷設し
たので、第1の導体部のパターンによる凹凸の影響を受
けず、また多層化も容易になる。
【0022】さらに、第2の絶縁部を第1の絶縁部より
も熱抵抗比の大きいものとしたので、第1の導体部の発
熱からの断熱が容易となる。
【0023】また、第2の絶縁部を第1の絶縁部よりも
比誘電率の小さいものとしたので、第1の導体部からの
耐ノイズ性が良くなる。
【0024】さらにまた、第1の導体部の表面と第2の
導体部の表面とが同一平面をなすようにしたので、第1
の導体部と第2の導体部における接続にワイヤボンディ
ング、半田などの使用が可能となる。
【0025】また、第1の面及びこの第1の面と段差形
状をなす第2の面を有する第1の絶縁部の第1の面に第
1の導体部を敷設し、第1の絶縁部の第2の面に第1の
導体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷
設し、第1の導体部と第2の導体部とは第2の絶縁部及
び空間部を介して対向するようにしたので、第1の導体
部のパターンによる凸凹の影響を受けず、また第2の導
体部の面積を広く使用できる。
【0026】
【実施例】
実施例1.以下、この発明による一実施例を図に基づい
て説明する。図1はこの発明の一実施例である配線構造
としての金属ベース基板の模式図である。図において、
1はアルミ板からなる金属ベース、2aはアルミナ充填
剤いりエポキシ樹脂よりなる絶縁層、3は第1の導体部
としての第1の銅導体、5aは第2の導体部としての第
2の銅導体である。
【0027】この実施例では、第1の導体部3と大きさ
が異なる電流が流れる第2の銅導体5aを絶縁層2aの
うち第1の導体部3が敷設された部分以外に敷設するよ
うにしたものである。また、第1の銅導体3の表面と第
2の銅導体5aの表面または第2の銅導体5cの表面と
が同一平面をなすようにしたので、第1の銅導体3と第
2の銅導体5aにおける接続にワイヤボンディング、半
田などの使用が可能となる。
【0028】実施例2.図2はこの発明の実施例2に係
る配線構造としての金属ベース基板の模式図である。図
において、1はアルミ板からなる金属ベース、2bは第
1の面及びこの第1の面と段差形状をなす第2の面を有
する絶縁部としてのアルミナ充填剤いりエポキシ樹脂よ
りなる絶縁層、3は第1の面に敷設される第1の導体部
としての第1の銅導体、5aは第2の面に敷設される第
2の導体部としての第2の銅導体である。
【0029】この実施例では、第1の面及びこの第1の
面と段差形状をなす第2の面を有する絶縁層2bの第1
の面に第1の銅導体3を敷設し、第2の面に第1の銅導
体3と大きさが異なる電流が流れる第2の銅導体5aを
敷設するようにしたものである。また、上述の実施例1
と同様に実施例2においても、第1の銅導体3の表面と
第2の銅導体5aの表面または第2の銅導体5cの表面
とが同一平面をなすようにしたので、第1の銅導体3と
第2の銅導体5aにおける接続にワイヤボンディング、
半田などの使用が可能となる。
【0030】実施例3.図3はこの発明の実施例3に係
る配線構造としての金属ベース基板の模式図である。図
において、1は厚さ2mmのアルミ板からなる金属ベー
ス、2aは第1の絶縁部としてのアルミナ充填剤いりエ
ポキシ樹脂(熱抵抗0.8゜C/W)よりなる厚さ0.
15mmの第1の絶縁層、3は第1の導体部としての厚
さ0.3mmの第1の銅導体、4は第1の絶縁層のうち
第1の銅導体が敷設された部分以外に敷設された第2の
絶縁部としてのガラスエポキシ板(熱抵抗16゜C/
W)による厚さ0.235mmの第2の絶縁層、5aは
第2の導体部としての厚さ0.035mmの第2の銅導
体、6は厚さ0.03mmのエポキシ接着シート剤であ
る。
【0031】この実施例では、第1の絶縁層2aのうち
第1の銅導体3が敷設された部分以外にエポキシ接着シ
ート剤6を介して第2の絶縁層4を接着し、第2の絶縁
層4に第1の銅導体3と大きさが異なる電流が流れる第
2の銅導体5aを敷設するようにしたものである。
【0032】図4はこの発明の実施例3に係るその他の
配線構造としての金属ベース基板の模式図である。図4
は、図3の第2の絶縁層4および第2の銅導体5aを多
層化した例を示したものである。図において、1は厚さ
2mmのアルミ板からなる金属ベース、2aは第1の絶
縁部としてのアルミナ充填剤いりエポキシ樹脂よりなる
厚さ0.15mmの第1の絶縁層、3は第1の導体部と
しての厚さ0.3mmの第1の銅導体、4bおよび4c
は第1の絶縁層のうち第1の銅導体3が敷設された部分
以外に敷設された第2の絶縁部としてのガラスエポキシ
板による厚さ0.1mmの第2の絶縁層、5bおよび4
cは第2の導体部としての厚さ0.035mmの第2の
銅導体、6は厚さ0.03mmのエポキシ接着シート剤
である。
【0033】また、第2の絶縁層4を第1の絶縁層2a
よりも熱抵抗比の大きいものとすることにより第1の銅
導体3の発熱からの断熱が容易となる。
【0034】また、第2の絶縁層4を第1の絶縁層2a
よりも比誘電率の小さいものとすることにより第1の銅
導体3からの耐ノイズ性を良くすることができる。
【0035】さらにまた、上述の実施例1、2と同様に
実施例3においても、第1の銅導体3の表面と第2の銅
導体5aの表面または第2の銅導体5cの表面とが同一
平面をなすようにしたので、第1の銅導体3と第2の銅
導体5aまたは第2の銅導体5cにおける接続にワイヤ
ボンディング、半田などの使用が可能となる。また、第
1の銅導体3と第2の銅導体5aまたは第2の銅導体5
cとのボンディングワイヤによる接続部分に、ポッティ
ング樹脂(例えば、エポキシポッティング樹脂YZ37
27、YZ3724:菱電化成製)で封止することがで
き、接続部の固定が容易となる。なお、図3および図4
において厚さを記入したが、必ずしも上述の寸法に限定
されるものではなく、第1の銅導体3の表面と第2の銅
導体5aの表面とが同一平面をなす値であれば同様の効
果が得られる。
【0036】実施例4.図5はこの発明の実施例4に係
る配線構造としての金属ベース基板の模式図である。図
において、1はアルミ板からなる金属ベース、2bは段
差形状をなす第1の面と第2の面を有する第1の絶縁部
としてのアルミナ充填剤いりエポキシ樹脂よりなる第1
の絶縁層、3は第1の絶縁部の第1の面に敷設される第
1の導体部としての第1の銅導体、5dは第1の絶縁部
の第2の面に敷設される第2の導体部としての第2の銅
導体、4dは第2の絶縁部としてのガラスエポキシ板に
よる第2の絶縁層、7は空間部である。
【0037】この実施例では、第1の銅導体3と第2の
銅導体5dとが第2の絶縁層4dおよび空間部7を介し
て対向するようにしたものである。
【0038】なお、図では第2の絶縁層4と第2の銅導
体5bとを接着し、第2の絶縁層4と第1の銅導体3と
の間に空間部7を設けた例を示したが、第2の絶縁層4
と第1の銅導体3とを接着し、第2の絶縁層4と第2の
銅導体5bとの間に空間部7を設けても、同様の効果を
得ることができる。
【0039】
【発明の効果】この発明に係る配線構造は、絶縁部のう
ち第1の導体部が敷設された部分以外に第1の導体部と
大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷設したの
で、第1の導体部のパターンによる凹凸の影響を受けず
に良好な接着強度が得られる。
【0040】また、第1の面及びこの第1の面と段差形
状をなす第2の面を有する絶縁部の第1の面に第1の導
体部を敷設し、第2の面に第1の導体部と大きさが異な
る電流が流れる第2の導体部を敷設したので、第1の導
体部のパターンによる凹凸の影響を受けずに良好な接着
強度が得られる。
【0041】また、第1の絶縁部に第1の導体部を敷設
し、第1の絶縁部のうち第1の導体部が敷設された部分
以外に敷設された第2の絶縁部に敷設され、第1の導体
部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷設し
たので、第1の導体部のパターンによる凹凸の影響を受
けずに良好な接着強度が得られ、また多層化する場合に
も容易に平面性が得られる。
【0042】さらに、第2の絶縁部を第1の絶縁部より
も熱抵抗比の大きいものとしたので、第1の導体部の発
熱からの断熱が容易となり、第2の導体部の信頼性を向
上できる。
【0043】また、第2の絶縁部を第1の絶縁部よりも
比誘電率の小さいものとしたので、第1の導体部からの
耐ノイズ性が良くなり、第2の導体部の信頼性を向上で
きる。
【0044】さらにまた、第1の導体部の表面と第2の
導体部の表面とが同一平面をなすようにしたので、第1
の導体部と第2の導体部における接続にワイヤボンディ
ング、半田などの使用が可能となり、作業性の向上が図
れる。
【0045】また、第1の面及びこの第1の面と段差形
状をなす第2の面を有する第1の絶縁部の第1の面に第
1の導体部を敷設し、第1の絶縁部の第2の面に第1の
導体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部を敷
設し、第1の導体部と第2の導体部とは第2の絶縁部及
び空間部を介して対向するようにしたので、第1の導体
部のパターンによる凹凸の影響を受けずに良好な接着強
度が得られ、また多層化することなく第2の導体部の面
積を広く使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施例である配線構造としての
金属ベース基板の模式図である。
【図2】 この発明の実施例2に係る配線構造としての
金属ベース基板の模式図である。
【図3】 この発明の実施例3に係る配線構造としての
金属ベース基板の模式図である。
【図4】 この発明の実施例3に係るその他の配線構造
としての金属ベース基板の模式図である。
【図5】 この発明の実施例4に係る配線構造としての
金属ベース基板の模式図である。
【図6】 従来の部分2層化した金属ベース基板の模式
図である。
【符号の説明】
1 金属ベース、 2a 絶縁層、 2b 絶縁層、
2c 絶縁層、 3第1の銅導体、 4a 、 4b
、 4c 、 4d 、 5a 第2の銅導体、 5
b 第2の銅導体、 5c 第2の銅導体、 5d 第
2の銅導体、6 エポキシ接着シート剤、 7 空間
部。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁部と、この絶縁部に敷設された第1
    の導体部と、前記絶縁部のうち前記第1の導体部が敷設
    された部分以外に敷設され、前記第1の導体部と大きさ
    が異なる電流が流れる第2の導体部と、を備えた配線構
    造。
  2. 【請求項2】 第1の面及びこの第1の面と段差形状を
    なす第2の面を有する絶縁部と、前記第1の面に敷設さ
    れた第1の導体部と、前記第2の面に敷設され、前記第
    1の導体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部
    と、を備えた配線構造。
  3. 【請求項3】 第1の絶縁部と、この第1の絶縁部に敷
    設された第1の導体部と、前記第1の絶縁部のうち前記
    第1の導体部が敷設された部分以外に敷設された第2の
    絶縁部と、この第2の絶縁部に敷設され、前記第1の導
    体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体部と、を
    備えた配線構造。
  4. 【請求項4】 前記第2の絶縁部を前記第1の絶縁部よ
    りも熱抵抗比の大きいものとしたことを特徴とする請求
    項3記載の配線構造。
  5. 【請求項5】 前記第2の絶縁部を前記第1の絶縁部よ
    りも比誘電率の小さいものとしたことを特徴とする請求
    項3記載の配線構造。
  6. 【請求項6】 前記第1の導体部の表面と前記第2の導
    体部の表面とが同一平面をなすことを特徴とする請求項
    1ないし請求項5記載の配線構造。
  7. 【請求項7】 第1の面及びこの第1の面と段差形状を
    なす第2の面を有する第1の絶縁部と、第2の絶縁部
    と、前記第1の絶縁部の第1の面に敷設された第1の導
    体部と、前記第1の絶縁部の第2の面に敷設され、前記
    第1の導体部と大きさが異なる電流が流れる第2の導体
    部と、を備え、前記第1の導体部と前記第2の導体部と
    は前記第2の絶縁部及び空間部を介して対向するように
    したことを特徴とする配線構造。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002022987A (ja) * 2000-07-10 2002-01-23 Toppan Printing Co Ltd 光配線基板および製造方法
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