JPS6153510A - 位置検知装置 - Google Patents

位置検知装置

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JPS6153510A
JPS6153510A JP17577584A JP17577584A JPS6153510A JP S6153510 A JPS6153510 A JP S6153510A JP 17577584 A JP17577584 A JP 17577584A JP 17577584 A JP17577584 A JP 17577584A JP S6153510 A JPS6153510 A JP S6153510A
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JP
Japan
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eccentricity
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Application number
JP17577584A
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English (en)
Inventor
Yoshibumi Nishimoto
義文 西本
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Measurement Of Optical Distance (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基鵡に対する被検知面の位置関係、特に基準に
対する被検知面の傾きを検知するための光学的装置に関
し、更には基準と被検知面との間隔が規定の値を満たす
か否かを検知することも可能な位置検知装置に関する。
従来より検知基準と被検知面との間隔を測長し、被検知
面にピントが合っているかどうかを検知する装置は数多
く提案され、また広〈実施されている。しかしながら、
カメラの自動合焦装置の様に光学系を合焦すべき範囲が
広い代わりに、光学系の深い被写界深度のために測距の
許容範囲が大きい場合と、ビデオディスク、光メモリ、
光磁気メモリの光学的情報記録再生装置の様に焦点検知
すべき範囲が狭い代わりに精密な検知を要求される場合
とではそれぞれに適した検知方法が在り得る。
一方、半導体集植回路装置を製造する工程の中に、集り
一回路パターンの像をウェハ上に投影焼付けする工程が
含まれている。この工程では投影しンズ又はマスクの下
方、規定距離だけ隔った位1品にウェハの表面をセツト
シた後、焼付けが行われるが、この種の焦点検出は極め
て高精度が要求される。
加えて投影レンズの被写界深度が浅いため、ウェハ全体
が傾いてセットされた場合あるいはウェハ表面に傾斜が
ある場合は適正な転写が行われない不都合がある。従っ
て傾きを検知してウェハを調整するのが良い、従来の技
術水準としては3mのJllllll透光学系し、3つ
の測定値から面の傾きを算出していた。しかしながらそ
の装置では3組の光学系を要するため構造が複雑で、全
体が大型化する難点を持つとともに、特に被検知領域が
分散してしまうため小さな1箇所の領域では検知するこ
とができないと云う問題がある。
(目  的) 本発明の第1の目的は非接触状態で被検知面の傾きを検
知することにあり、また第2の目的は同一の装置で焦点
の検知も行える様にしたことである。
本出願人は先に特開昭58−208945号を提案して
精密な焦点検知を実現する装置を述べたが、本発明はこ
の既出願の発明を発展させて被検知面の傾きを簡略に検
知できる様にし、半導体製造装置のみならず光学的情報
記録再生装置等に適用して性能の向上に助力するもので
ある。
上記目的を達成するため後述の実施例では、断面が環状
になる様に整形した平行光束を被検知面に収束状態で投
影する投影系と、被検知面からの反射光を受光する収斂
光学系と、収斂光学系を通った反Q4ビームによる被照
明域の偏心を検知する収斂光学系と、収斂光学系を設け
、投影系の光軸に垂直な面に対する被検知面の傾斜を被
照明域の偏心に基づいて検知する。
(実施例) 以下、図面に従って本発明の一実施例を説明する。
第1図中、■はレーザ光源で、例えばレーザ光が直線偏
光したものを使用する。2はコリメータレンズで、レー
ザ光源lを発した可視又は不可視のレーザ光をコリメー
トする。3は第1円錐形ミラー、4は第2円錐形ミラー
で、第1円錐形ミラー3は外面が鏡面化されたもの、第
2円錐形ミラーは内面が鏡面化されたものに相当する。
これらのミラーの組は平行光の径を拡大すると共に中空
状の形態にする機能を持ち、円錐ミラーの組の代わりに
プリズム等を使用しても良い。
5は偏光ビームスプリッタで、直交する直線偏光々を透
過と反射で分離する作用を持ち、投影ビームスプリッタ
を通過する。6はl/4波長板で、直線偏光しているレ
ーザ光を円偏光に変換する。
7は収斂レンズで、1/4波長板6を通過した平行光束
を集光させる。8aは被検知面で、結像レンズ7の焦点
面にセットされているものとする。
ウニへの表面は鏡面として(動く。
9は光電変換器で、入射光に応じた電気信号を出力する
ものとし、偏光ビームスプリッタ5の反射側光路に配す
るものとする。第2図は光電変換器9を正面から見た図
で、同心円状の2つの受光912を4木の半径で分割し
た形態をしており、外側の受光域をD口〜D I4 、
内側の受光域を021〜D2.+とする。各受光域から
は夫々独立に電気信号を取出せるものとし、外側の受光
帯と内側の受光帯を分ける分割円の直径は次の通り定め
る。即ち、被検知面8aが焦点位置に在り、また収斂レ
ンズ7の光軸に爪直な場合、結像レンズ7を射出した平
行光束は被検知面8a上に集光する。続いてそこで反射
した光束は逆方向から同じ収斂レンズ7に入力して再び
平行光束に変換される。つまり収戯レンズ7はコリメー
タとして作用する。逆行した平行光束は1/4波長板6
へ入射して、先程の直線偏光面とは90’偏光面が回転
した直線偏光々となり、偏光ビームスプリッタ5の光分
割面で反射し、右行する0反射した平行光束は光電変換
器の受光域を照明するが、この時、内側の受光域の出力
と外側の受光域の出力が均衡する様に内側と外側を分か
つ分割円の径を決定する。
今、破線8bで示す様に被検知面に傾きが在ったとする
と、収斂レンズ7で集光された光束は傾斜した被検知面
8bで斜方向に反射し、中心光線を破線で示した通りに
収斂レンズ7.1/4波長板6を通過して偏光ビームス
プリッタ5の光分割面で反射し、光電変換器9へ入射す
る。即ち光電変換器9上の円環状の被照明域は偏心する
例えば被照明域が第2図の受光域の中心から左下方向へ
移動したとすると、受光域D +3とD2+の受光量が
増大する一方、受光域D23とD 11の受光量は減少
し、他の受光域の内、D、とD +4の組、D22.と
DZ4の組は同一傾向の出力変化を示す。
又被照明域が右方向へ偏心したとすると受光域DIl 
、D、、D2.、D舛の受光量は増大し、別の受光域D
21 、D29 + D +3 、 D I4の受光量
は減少する。
以上の通り被照明域の偏心に応じて受光域の出力のパタ
ーンが相違するので、出カバターンから偏心の方向即ち
被検知面8aの傾斜方向を知ることができ、また光量の
偏差から傾斜の程度を知ることかできる。なお、本例で
は4木の半径で円形受光イ1シを分に1シているが、要
求精度に応じて分割のだめの半径を増減させるのが良い
次に収斂レンズ7と被検知面8aとの間隔が既定イ11
′1からずれた場合、例えば集光点より被検知面8aが
下方に在ったときには、被検知面8aで反射した光束の
中心光線は収束状態で光電変換器9へ入用するから、受
光域Dz+ 、 D2Z 、 Dz3 、 Dz<の出
力に比較して受光域D II + 012 、DI3 
、D 14光点より一漆に在ったときには反射した円環
状光束の中心光線は発散状態で光電変換器9へ入射する
。従って、受光域Do 、D12 、DI3 、 D1
4(7)出力は受光域D2..D2□、D23.p、の
出力に比へて大きな値となる。
この様に外側受光帯の出力が増加するパターンと内側受
光帯の出力が増加するパターンと両者が均、i 衡するパターンになるから、焦点検知を行うことができ
る。第3図は被検知面の焦点位置がらの位置ずれと合焦
信号との関係を実験的に求めた結果であるが、相当長い
リニヤ−な部分が存在することから、この種の装置には
十分使用できる。
また傾斜による出カバターンと焦点ずれによる出カバタ
ーンは全く異った形態となるから、両パターンが重畳し
て発生しても傾斜による成分と焦点すれによる成分は分
離でき、被検面が焦点ずれを起すと共に傾斜していても
両者を検知することができる。また第1図には示してい
ないが、被検知面を有する物件を保持するチャックを軸
方向並びに水平方向が調整可能である様に構成しておき
、検知した信号を入力することで自動合焦並びに被検知
面の水平化を達成することができる。
なお、上述した実施例において偏光ビームスプリッタ5
の替りに振幅分割のビームスプリッタを使用しても良く
、その場合には1/4波長板は設けなくて良い、また光
電変換器として、フォトセンサーアレイを放射状に並べ
たものを配置し、被照明域の円環の拡大・収縮及び偏心
を検知しても良い、更に2次元の固体撮像素子を使用し
、撮像した被照明域の直径と偏心を検知することもでき
るなど、第1図の構成は種々変形が可能である。
以上述べた本発明によれば、小型の構造であり。
特に被検知面の傾きを検知することができると共に被検
知領域が極めて小さくなる点で主装置に取利け、又組込
むのに都合が良く、また実際に検知したい部位そものを
検知することができるから、精度の向上に役立つもので
ある。
また本発明は簡単な構成でありながら傾きの検知ととも
に焦点の検知を実現することができる利点がある。
更に上で触れた様に被検知領域が小さいことから、被検
知面の多数個所で検知をくり返すことにより、例えば表
面のうねりの様な被検知面の傾きの分布を知ることもで
きる効果がある。
【図面の簡単な説明】
:51図は本発明の実施例を示す光?1tli而図。第
面図は構成要素の平面図、第3図は出力曲線図。 図中、1はレーザ光源、2はコリメータレンズ、3と4
は円ill形ミラー、5は偏光ビームスブリッタ、6は
l/4波長板、7は収斂レンズ、8aと8bは被検知面
、9は光電変換器、D11〜D I4とD21”’D−
14は受光域である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)断面が環状になる様に整形した光束を被検知面に
    収束状態で投影する投影系と、被検知面からの反射光を
    受光する収斂光学系と、収斂光学系を通った反射光によ
    る被照明域の偏心 を検知する光電変換手段とを具え、投影系の光軸に垂直
    な面に対する被検知面の傾斜を被照明域の偏心に基づい
    て検知することを特徴とする位置検知装置。
  2. (2)前記光電変換手段は同心円状の受光帯を半径で分
    割して形成した受光域を有し、各受光域からは独立した
    出力が得られる特許請求の範囲第1項記載の位置検知装
    置。
  3. (3)前記光電変換手段は基準円に対する被照明域の径
    の大小を検知し、投影系に対する被検知面の間隔変位を
    検知する様にした特許請求の範囲第1項記載の位置検知
    装置。
JP17577584A 1984-08-23 1984-08-23 位置検知装置 Pending JPS6153510A (ja)

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JP17577584A JPS6153510A (ja) 1984-08-23 1984-08-23 位置検知装置
DE19853530062 DE3530062A1 (de) 1984-08-23 1985-08-22 Vorrichtung zur erfassung der neigung einer flaeche eines gegenstandes

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