JPS61503030A - 光学部品用材料から不純物を除去するための方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 光学部品用材料から不純物を除去するための方法発明の背景 この発明は、一般に、光学部品を製造するために利用される結晶性および非晶′ 碇材料の構造に置換によって若しくは浸入によって取込まれた水および水由来の 不純物例えば水酸基イオンを除去する方法に関する。

更に詳細には、そのような不純物ｆｊｃ除去するための、改良された反応性雰囲 気法に関する。

光学部品を作るために、第■、■および■族元素の酸化物例えばマグネシア、ア ルミナおよびシリカ、並びにへ〇ｒン化゛アルカリ例えば塩化カリウム、へロダ ン化アルカリ土類例えばフッ化カルシウムのよった金属ハロゲン化物等独々の材 料を旨品質光学部品に加工することができる。これらの材料は、その低い光学的 吸光係数、並びに機械的および熱的特性のために、繊維光学のような光学的応用 、特にレーザーへの応用について使用することがしばしば考えられている。

これら光学材料の使用に影響を与える限定要因の１つは、物質自体の純度にある ことが長い間認められてきた。このように、光学材料の構造に置換により若しく は侵入により取込まれている水または水酸基イオン（ＯＨ−）の存在はたとえ微 量例えば１０　ｐｐｍ以下であっても、これらの材料を用いて作られたレーデ− 窓のイオン化放射に対する相安定性、損傷限界および／または焼損抵抗に有害と なり得る。

例、ｔば、高出力ＣＯ２レーデ−のための窓を作る試み、にかなりの努力が払わ れてきた。そのような窓には、適切な機械的、熱的および光学的特性の組合せが 必要とされる。多くの金属ノ・ログン化物および金属酸化物は、これらの必要な 特性の１つ以上を欠いて℃・るので、この応用には用いられていない。例えば、 少なくとも化学的および物理的に好ましい特性の組合せを有するように思われる 少数の物質の中に、ＮａＣｔおよびＫＣｔのようなノ・ロダン化金属がある。と ころが、ノ＼ロｒン化金霧単結晶から製造された窓は、水酸基イオンの夾雑の度 合に応じて好ましく　ｔｘ、い影響金堂ける。そしてその夾雑の結果、レーデ− ビームの吸光度において好ましくない窓となる。そして、その吸光度のために窓 が加熱され、ゆがむ。

水酸基イオン夾雑による同じような問題は、石英ガラスから作られた光学窓にも 見られる。すぐれた紫外線透過並びに物理的および化学的安定性のために、石英 ガラスは理想的な屈折光学材料である。ところが、石英プラスから作られた光学 プラスは、なかんずくその材料の中にたとえ低いレベルであってもＯＨ−および 水不純物が存在することによシ放射黒化（ｒａｄ、ｆａｔｉｏｎｄａｒｋｅｎｉ ｎｇ　）を受けやすい。

水酸基イオンおよび水の夾雑は、典型的な熱分解法によるアルファアルミナ（α −α２０５　）の合成において制限要因ともなる。酸化アルミニウムは、いくつ かの異なった多形または結晶形態で存在する。アルファアルミナは、アルミニウ ム酸化物塩たとえば、酢酸塩、硝酸塩および硫酸塩を、例えば１１００〜１６０ ０℃の高温で熱分解することにより得られる。光学的透明性がよく、機械的強度 が高く、化学的に不活性であるため、放射線用の硬質ロイコ−サファイア結晶レ ーデ−窓のａ造において、高純度のα−Ａｔ２０．は重要な成分である。

しかし、α−Ａｔ２０．が合成される熱分解反応において、アルミニウム酸化物 塩をこの多形態に１００％転換させることは非常に難かしい。この難点は準安定 なアルミニウム酸化物相の構造中に不純物であるＨ２ＯおよびＯＨ−が存在する ためと信じられている。これらの不純物は熱分解反応中に生じるものであるが、 それがこれらのアルミニウム酸化物のα−Ａｔ２ｏ３状態への多形転換を阻害す る。準安定なＡｔ２０３相が微量の、しばしば２チはどのＨ２Ｏｉ含むことは、 以下に挙げる文献から周知のことである。例えば、スタンプら、Ｉｎｄ、　Ｅｎ ｇ。

Ｃｈｅｍ、、４２．１３９８−１４０３（１９５０）、　プリンドレイら、Ｊ、 　Ｍｌｎ、　Ｓｏｃ、　Ａｍ、　、　４６．７７１−７８５（１９６１）、およ びデエイら、Ｊ、　Ｐｈｙｓ、　Ｃｈｅｍ、、旦７，９４５−９５０（１９５３ ）が挙げられる。α−Ａｔ２０．の調製に出発物質として用いられる多くのアル ミニウム塩は水和水を含んでいる。このような水の存在下では、ＯＨ−は次式に 従って付加によりネットワーク構造中に取込まれると信じられている。

Ｑ−＋　Ｈ２Ｏ−→　２０Ｈ− 遍在性であるために、水およびＯＨ−は光学材料から除去することが最も難かし い微量不純物である。材料構造から水由来の不純物を除去するために開発された １つの方法として、当該分野で反応性雰囲気法（ＲＡＰ　）と称されるものがあ る。これによれば、水由来の不純物を含む固体状物質を、ヨウ素のよりなノ・口 ｒンガスおよび酸素またはヘリウムのようなキャリヤーガスの雰囲気中で酸化物 のために一般に１００００を越える高温にて加熱する。それによって、材料中の 夾雑物であるＯＨ−はニーによフ置換され、侵入によって存在した水も同時に除 去される。ところで、米国特許第４．３１５，８３２号には、レーザー効率を改 善するために、ネオジミウムをドーグしたイツトリウムアルミニウムガーネット 結晶中に存在する水および水由来の不純物を除去する方法が開示されている。そ れによれば、結晶から０Ｉ（−および水を除去するために工２１０２蒸気雰囲気 中にて１５００℃以上で結晶を加熱する。

Ｉ２／１０２ＲＡＰ精製は、ガーネット結晶からＯＨ−および水を除去する上で 効果的であると見られてきたが、この処理は思ったほど効果的でないことが分か った。

というのは、Ｉ、１０２ＲＡＰによっては、Ｈ２Ｏおよび水由来の不純物がある 結晶の濃縮相（固体）１−貫通する前に反応装置のガス抜きにより生成するＨ２ Ｏの直接除去が充分におこなえず、その結果前記の式で表わされた反応により結 晶格子の中へＯＨ−が取込まれるからである。

発明の概要 この発明によれば、結晶および非晶質光学材料中に置換により若しくは侵入にょ シ取込まれた水および水由来の不純物を除去する方法が提供される。この方法は 、目的の材料を高温でハロゲンと一酸化炭素のガス状混合物に晒す工程を含み、 これによって処理結晶中の水およびＯＨ−イオン濃度を極めて低レベルＫまで減 少させることができる。

この発明を実施すれば、反応装置から出てくるＨ２ＯおよびＨ２０由来の不純物 を除去するに適したよシ効果的な除去作用が提供されるため、従来のＲＡＰ精製 法の欠点を克服することができる。従来のＲＡＰ法ではＯＨ−を除去するために ハロゲンを使用し、０１（−（Ｄ　結晶格子中への取込みを防ぐ。一方この発明 では、ハロゲンによる同じような除去を、ハロゲンと一酸化炭素の反応生成物で あるハロゲン化カルビニル（ｃｏＸ２）にょるＨ２０分子の除去と組合わせであ る。

以後詳述することではあるが、ガス相中の水および濃縮相中のＯＨ−の除去は、 ハロダンおよび一酸化炭素の混合物による方が、ハロダン／酸素混合物に基づく 精製法又は−酸化炭素もしくはハロダン単独に基づく精製法によυ実施されるよ りもより完全に行なわれる。

約１２００°Ｋ　（９２７℃）以上の温度で、ハロダン／一酸化炭素ＲＡＰ処理 による光学材料からの水の除去は次の式で示されると考えられる。

Ｘ２＋Ｈ２０←２ＨＸ　＋ＨＯ２（１）ここでＩ２はＣ１０，Ｂｒ２または工２ ゜ＣＯＯＨ２Ｏ−→ＣＯ２＋Ｈ２（２） Ｉ２とＣＯ２の組合せ反応は次のようになる。

Ｘ２＋ＣＯ＋Ｈ２Ｏ−→２Ｈｘ＋Ｃ０２（３）ＣＯおよびＩ２反応体は、中間反 応体としてハロゲン化カルビニル（ＣＯＸ２）を形成するが、Ｃ０Ｘ２は水に対 して非常に反応性に富むダッターである。

この発明の方法を実施するに際し、光学材料を高温耐性のるつぼまたは？−トに 仕込む。そしてそのるつぼまたはケートを反応管に入れ、それを炉中に納める。

−例として、容積的５００ないし約２．０００立方センチメートルの反応管に対 して、流速の遅い例えば毎秒１立方センチメートル（１ｃｅ　／ｓａｃ、　）の −酸化炭素ガスをパージし始め、反応管および反応管に付属の装置のガス交換を する。装置を充分にパージした後、ハロ２７分圧が約４　Ｑ　ａｉＨｇとなるよ うに一酸化炭素ガスをハロゲン源で追い出す。続いて、装置を徐々に加熱し、材 料を・・ログン／−酸化炭素雰囲気中で約１０〜１００時間均熱する。七の後、 材料をガス相の・・口ｒ／／ＣＯ反応性雰囲気の存在下でゆっくりと冷却し、精 製材料を得る。

石英ガラスの精製にこの発明で用いられるようなＩ２／Ｃｏ　ＲＡＰ処理を適用 すると、水由来の不純物の除去にとって非常に効果的であることが分った。Ｉ、 ／Ｃ０ＲＡＰ処理により水が攻零され、濃縮相中のＯＨ−が除かれる。非晶質シ リカ粉または石英ガラス粉を、約１５００℃に加熱した工２／／ｃＯガス混合気 体で約１０時間処理すると、シリカ粉は結晶粉すなわちβ−クリストバル石に転 化する。Ｉ２／ＣＯ精製に供された石英ガラスは、不純物ａ度が低いため、市販 の石英ガラスと著しく異なっている。例えば、β−クリストバル石の融点は１． ７０５℃と報告されているが、ガス相１２７００反応性雰囲気で処理したβ−ク リストバル石は約１，８００℃を越える温度で融解する。更に、ＲＡＰ処理した シリカの屈接率はより高く、このことは水分含量が低いことと一致する。この点 に関しては、Ｇ、ヘデーリングトンおよびに、　Ｈ，ジャック、Ｐｈｙｓ、　＆ 　Ｃｈｅｍ、　Ｇｌａｓｓｅｓ、　３　、１２９（１９６２）参照。この著者ら は、ガラス中に水分が少ないほど屈折率が高くなることを例証した。更に、重量 パーセントで表わされたＯＨ″″含有量は、波長２．７３μｍで１鵡当りの光学 密度の１０分の１であることが示された。この発明の方法により処理した石英ガ ラスのΔＲＩ値は、他の方法で処理して得られる市販の石英ガラスに比べて低く 、ヌーグ硬さは前者の方が後者より大きい。

光学的特性への影響に関すると、Ｉ２／Ｃｏ　ＲＡＰで精製した融解クリストバ ル石は同時に放射線に対する抵抗性が大きく、１０　ＭｒａｄまでのＣｏ−６０ ガンマ線によって損傷を受けない。また市販品の石英ガラスと比べてＩＲ透明度 が非常に大きい。

ミョウバンおよび硫酸アルミニウムのようなアルミニウム酸化物塩をＩ、／ＣＯ ＲＡＰ環境中で熱分解すると、同じ温度で成分工、およびＣＯを別々にＲＡＰ処 理に用いた場合よう、実質的なα−Ａｔ２０３への転換がより効率的図はこの発 明を実施するための装置の一例を模式％式％ 発明の詳細な説明 図において、高純度（９９，９チ）の−酸化炭素が容器１０に収容されており、 −酸化炭素はテフロン、パイレックスまたはポリエチレン製の導入管１２を介し て流量計１４に導入される。この流量計で一酸化炭素の流量を所望の値まで調節 する。例えば谷積約５００ないし２，０ＯＯｃｃの反応管の場合には前記のごと く１σｃ／ｓｅｅとする。−酸化炭素は、流量計１４から、テフｏ７、・パイレ ックスまたはポリエチレン製の管１６、パルプ１８およびテフロン、パイレック スまたはＩＩノエチレン製の管Ｉ０全通ジ・セイレックス製の容器２２へ入る。

その容器内には、液体臭素、四塩化炭素または固体ヨウ素のような濃縮・・ロダ ン源２４が収容されている。容器２２をハロフッ分圧約４０鴎Ｈｇとなるまで加 熱するが、この操作は加熱部材２６を用いて行なう。抵抗型加熱部材はニクロム でできていてもよく、そこに制御された電圧をかけて駆動させる。容器２２の温 度を測定するために容器２２の外壁と加熱部材２６０開Ｖこ熱電対（図示せず） が挿入されている。容器２２の中でハロゲン蒸気は一酸化炭素と混シ、そしてハ ロｒン／ＣＯＱ合ガスはパルｆ２１３を介してテフロン管３０へ入る。ハロゲン ／　Ｃｏがスは加熱部材体３２により高温に維持される。加熱部材３２は、ハロ ダンの凝縮または結晶化、例えばＩ２が反応性ハロ’ｒ’７Ｎスである場合上の Ｉ２の結晶化を防ぐために管３０の周夛を囲んでいる。パルプ１８″ｆ：、−酸 化炭素が容器２２を迂回し、ライン３４を介して管３σへ直接導入されるように ガスハイ・！スパルブとして構成してもよい。それにより。

容器２２中におけるハロゲンとの混合を選択的に防止できる。パルプ２８がｖ３ θに取付けられ、必要に応じて管３０へのハロゲンガスの流入を遮断する。同様 にパル２１８金容器２２または管３０への一酸化炭素ガスの通過を防ぐために閉 位置に設置することもできる。容器２２の中で一酸化炭素と混合されたハロゲン ガスは、管３０を経、高純度（９９，９チ）アルミナ製連結Ｉｆ＃３４へ入る。

管３４は融解石英設キャ、プ３６を貫通して高純度アルミナ製反応管３８の中に 入っている。反応管３８の中には１つ以上の白金でライニングしたアルミナ製＆ −ト４０があフ、このビートは処理されるべき材料金収存している。

上記材料は、ＲＡＰに対して反応接触表面を広げるため、粉末の形態で処理され る。反応管３８には熱電対（図示せず）が取付けられており、それは＆−）４０ 中の粉状材料に近接したところに据え付けられ、反応管３８中で材料が加熱され たときの温度を測定するために用いられる。反応管３８は、加熱部材４２を備え たＰ２Ｏの中に収容される。加熱部材４２は、ハロゲン／　Ｃｏ　、ガス混合物 によシ材料から水および他の不純物が取除かれる所定の温度に反応管を熱するた めに用いられる。

反応管３８には、アルミナまたは融解石英製の管４４も取付けられておシ、そこ を通して反応管３８からのガス反応体が排出される。そして最後例この反応体は 排気室（図示せず）に入り、そこで過剰のハロゲンが凝縮されまたは凝結されそ してそこに捕集される。

この排気室からガス混合物をスクラバー（図示せず）に通じ、排気ガスが大気に 放出される前に、いかなる未凝縮ハロゲンまたは他の環境に害を与えるガス生成 物全除去する。

操作に当ル、ガス状の高純度−酸化炭素を流量計１４ＶＣより流速約１　ｃｃ／ ｓｅｅ、に調節しながら容器１ｏから導き出し、管１６を介して容器２２へ導入 する。容器２２中のハロゲン源２４は加熱器２６で加熱し気化させる。−例とし て、ハロゲンとしてヨウ素を用いる場合、容器２２を約８６℃から９０℃までに 加熱し、固体のヨウ素結晶を気化させる。ガス状−酸化炭素を気化したヨウ素と 混合し、−酸化炭素中に約５チのヨウ素を含む工２／ＣＯ混合気体をつくる。モ ル比では約１：１８である。

Ｉ２／ＣＯ混合気体によシ精製される材料４６を粉状にして白金Ｉ−ト４ｔｔＫ 入れ、そのホードを反応管３８中に入れ、これを電気炉４ｏ中に収容する。炉の 温度は、ボートの温度を約１０００〜１５００１：またはそれ以上に上昇させる ようにコイル４２によって調節する。

その温度でＩ２／ＣＯガス混合物にょジ、材料中に存在する不純物である水を攻 撃し、凝縮相中のＯＨ−を追い出し、その材質中の格子構造中のＯＨ−全ハロダ ／イオンで置換する。目的の粉をＲＡＰ　ＰｆＩ製するために、゛反応性Ｉ２／ ＣＯガス混合物をその粉の上に約１６ないし６４時間、好ましくはわずか約１６ 時間通過させる。

石英ガラス（α−クリストバル石）の場合のように必要とあれば、水を含まない 粉４６を室温にまで冷却した後、その粉４６ｆ、収答しているｙｈ’−）４８を 、交互に排気し、ヘリウムで・ザーゾしであるも５１つの炉（図示せず）に移す 。続いてこの粉をヘリウム雰囲気下１９００℃にて約１時間融解する。そして冷 却に際し、この石英ガラスは融点が１８０ｏ′Ｃｔ越える融解クリストバル石に 多形転移する。

次の実施例は、この発明を説明するために記述されたものであフ、この発明の範 囲を限定するものと解すべきではない。

実施例■ 図に模式的に示した装置を用いて、粉状の脱水アンモニウムミ、ウパン（ＮＨ４ Ａｔ（ＳＯ４）２）を１つの白金でライニングしたｌりのアルミナ＆−ト４ｇ中 に仕込んだ。水和塩ＮＨ４Ａｊ（ＳＯ２）２−１２Ｈ２０を真空炉中Ｋ　テ１０ ０℃で７０時間加熱して水和水をアンモニウムミ、クバンから前もって除去して おいた。脱水アンモニウムミ、ウパンを仕込んだ＆−）４０を反応管３８に収容 し、この反応管をシリカ製キャッ７″３６で密封し、炉４゜に入れた。炭化ケイ 素棒である加熱部材４２に制御された′４圧を印加してこれを駆動し、温度を１ ０７０℃に上げた。高純度のＣｏを流Ｊ計で測定して約１　ｃｃ７ｓｅｃ、の流 速で容器１０からヨウ素蒸気を含む容器２２の中に導入した。ヨウ素蒸気：は、 ＝−クロト線でできた加熱部材２６に制御された１と土１印加１１．て駆動させ ることによって容器２２中の温度を約１３６−・−９０’Ｃｉ’ｉ’：士ゼトさ せて工、全・気化さ達ることに二つし発生する。Ｉ２とＣＯの混合気体（づ１、 −亙ル比１：ｊ８すなわちＣＯｆス中にＩ。

ガスが約５９１であつた１、バルブ°２８を１岸きＸ、／Ｃｏ−１ｆメ混合物金 Ｗ３０に導き、続いて温度１０７０℃まで加熱した反応管３８に導入した。そこ で脱水アンモニウムミ、ウパ゛／１１０７０℃にて１６時時間２／／１″、Ｏｆ ス１昆合物にさらした。＋′の後、反応管３８を室温に′止で冷却し、出金＋ｔ ”　）　４０と七の内容換金取出した。ヒート中の内容物ｆ、Ｘ線粉末回折てか け分析した。この試験結果を以下の衣Ｉに記載する。

更に、実施例Ｉの方法を繰り返し、た。ただし、Ａｔ２（Ｓ０４）・１８Ｈ２０ 金１００℃で７０時間かけ脱水したもの全脱水アルミニウムミ、つ・ぐンの代り に用いた。Ｘ線粉末回折で測定した脱水硫酸アルミニウムのｘ２７ｃ。

ＲＡＰ精襄精米結果夏に併記する。

対照を取る目的で、実施例Ｉの方法金繰り返した。

ただし、パルプ１８を閉じ気化したヨウ素のみをＲＡＰ処理のために用い、担体 気体として別の供給源（図示セス）からのヘリウムガスを用いた。あるいは、バ ルブＩ８と２８を調節して、ＣＯガスの容器２２への通過と気化した工、のライ ン３０への通過を遮断し、その結果結晶粉のＲＡＰ処理のためにＣＯガスのみで の実験をも行った。別々に行なった一連の比較試験では、ガス状１拮Ｐ処皿剤ン 」二、水蒸気と酸素の混合気体であった。これら比較のために行なっブこア／モ ーウムミ、ウパンおよびｔａｆ酸７／ｌ・ミニウ４の工、また廻、ＣＯ単独処理 訃よびＨ２０／Ｃｏ列、埋の結果金ら以下の表１０で示す。こ几らのデ・−りは ｄＩ２号Ｃ″Ｃ′示す。

弄　■ 硫酸ア、トミ；ウムのＲＡＰ処狸よμ）得られた無水アルミナ（１６時間、１０ ７０℃） 操作ＲＡＰ　硫酸アルはニウム　Ａｔ２０　、の多形１、　Ｉ　２／Ｃｏ　ＮＨ ａ　Ａ−４（５ｏ４）　２　α−２、Ｉ、／／ＣＯｙ２ｃｓｏ４）、　α−Ｃ， Ｈ２Ｏ１０２ＮＨ４Ａ／（Ｓｏ４）２　α−およびいくらかのに−Ｃ２Ｈ２０／ ｌ）２　Ａｔ２（Ｓｏ４）、　α−およびいくらかのＣＣｓ　ＣＯＮＨ４ｊ’− １−（Ｓ　０４　）２　α−およびδ−ｃ４　ｃｏ　ｈｔ２ｃＳｏ４）５　α− およびいくらかのδ−ｃ、　Ｉ２／Ｈｅ　ＮＨ４ｋ１．（３０４）２　α−およ び少量のδ−ｃ　６　Ｉ　２／Ｈ＠　ノｕ２　（Ｓｏ　４　）　５　δ−および いくらかのα−表Ｉに記載したＸ線粉末回折結果から、アルミニウム酸化物の多 形転移における不純物除去効果が分かる。このよりに、脱水アンモニウムミョウ バンおよび硫酸アルミニウム１１０７０℃で１６時間Ｉ２／ＣｏでＲρ処理する ことは、Ｈ２０１０Ｈ−の除去および１００％α−Ａｔ２０３の産生（操作番号 １〜２）において効果があった０Ｈ２０／１０２でＲＡＰ処理することはα−Ａ ｔ２０．への転化に実質上効果がなかった（操作番号Ｃ１〜Ｃ２）。ＣＯ単独で のＲＡＰ処理は不純物除去にいくらか効果がｈりたが、α−Ａｔ２０．への１０ ０％転化には不十分であった（操作番号Ｃ５〜Ｃ４）。Ｉ２単独では不純物除去 にはわずかな効果しかなかった（操作番号Ｃ５〜Ｃ６）。

表■のデータは、α−Ａｔ２０　、状態への転移を阻止する、アルミニウム酸化 物の準安定な多形中の残留不純物を除去する上で工２／／ｃ′０反応性雰囲気が 必要であることを証明している。不純物除去のためにＩ２／Ｃｏ　ＲＡＰ処理を 実施することによシ、α−Ａ７．．Ｏ、状態への１００％転化を達成するために 、よフ低い温度および／またはより短かい処理時間が必要である。従って５表Ｉ のデータは、１０７０℃テＩ、／Ｃｏ　ＲＡＰ環境を用いることにより、ＮＨ４ Ａｊ（Ｓｏ４）４およびＡｔ２（Ｓｏ４）、のようなアルミニウム塩からα−Ａ ｔ０．が得られることを示している。この１０７０℃といり温度は、当該分野で 報告されている〜３２４９（１９６４）　に報告されているような１６００℃以 上よ勺もかなフ低く、かつ出発物質としてベーマイト（α−ＡＬＯＯＨ）を用い ているウィルソンら、　Ｊ、　Ｓｏｌ。

５ｔａｔｅ　Ｃｈｅｍ、、　３４．３１４〜３２２　（１９８０）に報告されて いるより３０℃低い温度である。　。

実施例■ Ｉ２／Ｃｏ　ＲＡＰ　ｉ合ガスを約１５００℃で１０時間石英ガラス粉末上を通 過させた以外は実施例■の方法を繰返した。それによって石英ガラスがβ−クリ ストバル石に転化し、それは冷却によすα−多形へと転化した。

Ｉ２／Ｃｏで処理した結晶シリカ粉末を、交互に排気し、ヘリウムで・ヤーゾし た他の炉に移した。この結晶粉末を約１９００℃にてヘリウム下で融解して融解 クリストバル石を得た。Ｉ２／Ｃｏ　ＲＡＰで処理したシリカ粉末の特性を以下 の表Ｈに示す。

比較のために、■２／ＣＯ混合ガスの代わりに工２／１０２混合ガスを用いた以 外は実施例■を繰シ返した。

ＲＡＰ処理の石英ガラスと市販の石英ガラスであるインフラシル（Ｉｎｆｒａｓ ｌｌ　）の吸光係数を表■に示す。

工２１０２およびＩ２／Ｃｏで処理した材料の吸光は市販のインフラシルよフ著 しく減少した。

表　■ ＊　２回の平均 林　３回の平均 この発明の系の具体的構成を上に述べたが、この発明の系を効率的にするため、 若しくは改讐するために、付加的な改変を用いてもよい。それら改変もこの発明 に属するものである。

いくつかの変形例がこの明細書に示されているが、この開示内容を読んだ当該分 野に精通し゛た者には様々な応用が可能であろう。これらの応用もこの発明に含 まれる。

国際調査報告 ＡＮＮＥＸ　Ｔｏ　ＴＨＥ　ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡｒ、５ＥＡＲＣＨＲＥＰ ＯＲＴ　０ＮＩＮＴＥＲ）ＩＡＴＩＯＮＡＬＡＰＰＬＩＣＡＴＺＯＮＮｏ、ＰＣ Ｔ／ＩＪＳ８４０１８４９（ＳＡ８４１３）’ＥＲ−Ａ−２５０４５１４２９／ １０／１３２　Ｎｏｎｓ

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. １．結晶性もしくは非晶質光学材料の構造中に置換によりまたは侵入により取り 込まれた水および水由来の不純物を除去するための方法であって、高められた温 度において前記光学材料を、ハロゲンと一酸化炭素との混合物を含むガス相反応 性雰囲気に、該混合物を前記光学材料の周囲および内部に存在する前記水および 水由来の不純物と反応させて前記不純物を極めて低いレベルにまで減少させるに 十分な時間さらすことからなる方法。
2. ２．前記光学材料が周期率表第ＩＩ族、第ＩＩＩ族および第ＩＶ族元素の酸化物 からなる群の中からより選ばれる請求の範囲第１項記載の方法。
3. ３．前記材料が石英ガラスである請求の範囲第２項記載の方法。
4. ４．前記材料が酸化アルミニウムである請求の範囲第２項記載の方法。
5. ５．前記光学材料が金属のハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物 よりなる群の中から選ばれる請求の範囲第１項記載の方法。
6. ６．前記材料を約１０００゜Ｃ以上の温度まで加熱する請求の範囲第１項記載の 方法。
7. ７．ハロゲン／一酸化炭素の比が約１：１８である請求の範囲第１項記載の方法 。
8. ８．前記ハロゲンがヨウ素元素である請求の範囲第１項記載の方法。
9. ９．前記光学材料をハロゲンと一酸化炭素の混合物に約１０００゜Ｃないし約１ ５００゜Ｃの温度で約１０ないし約１００時間さらす請求の範囲第１項記載の方 法。