JPS6121932A - 改質ハロゲン化物ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
改質ハロゲン化物ガラスおよびその製造方法Info
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- JPS6121932A JPS6121932A JP59152206A JP15220684A JPS6121932A JP S6121932 A JPS6121932 A JP S6121932A JP 59152206 A JP59152206 A JP 59152206A JP 15220684 A JP15220684 A JP 15220684A JP S6121932 A JPS6121932 A JP S6121932A
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- JP
- Japan
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- glass
- halide
- carbon disulfide
- metal
- temperature
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- Pending
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/32—Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
- C03C3/325—Fluoride glasses
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/90—Drying, dehydration, minimizing oh groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
、不発Ｅｌｌｌは二硫化炭素によシ改質されたハロゲン
化物ガラス（ｖｅｒｒｅｓ ｈａｌｏｇｅｎｅａ ）な
らびにその製造方法に関する。
化物ガラス（ｖｅｒｒｅｓ ｈａｌｏｇｅｎｅａ ）な
らびにその製造方法に関する。
特に赤外線に関連する分野にまでおよぶ極めて広い光学
的分野で使用される新しい種類のガラスの研究において
は多くの研究者によシ主として金属ハロゲン化物からな
る、ハロゲン化物ガラスと呼ばれている新しい種類のガ
ラスを構成するガラスが製造されていることは公知であ
る。
的分野で使用される新しい種類のガラスの研究において
は多くの研究者によシ主として金属ハロゲン化物からな
る、ハロゲン化物ガラスと呼ばれている新しい種類のガ
ラスを構成するガラスが製造されていることは公知であ
る。
ハロゲン化ガラスはその製造中にとくにＯＨ−又は０２
−イオンによって汚染される。ハロゲン化物ガラス中に
これら不純分が存在する場合、ヒドロキシルイオンＯＨ
−によシ波長２．９ミクロン付近に、また、金属−酸素
結合によ９７〜９ミクロン付近に厄介な寄生的吸収帯（
ｐａｒａｓｉｔｉｃ ｂａｎｄ ）の出現が惹起される
。（たとえばＭ、 Ｒｏｂｉｎｓｏｎ等、” Ｍａ ｔ
。
−イオンによって汚染される。ハロゲン化物ガラス中に
これら不純分が存在する場合、ヒドロキシルイオンＯＨ
−によシ波長２．９ミクロン付近に、また、金属−酸素
結合によ９７〜９ミクロン付近に厄介な寄生的吸収帯（
ｐａｒａｓｉｔｉｃ ｂａｎｄ ）の出現が惹起される
。（たとえばＭ、 Ｒｏｂｉｎｓｏｎ等、” Ｍａ ｔ
。
Ｒｅｒ、 Ｂｕｌｌ、 ”第１５巻第６号第７３５−７
４２頁（１９８０）参照〕。これらの寄生的吸収によジ
ハロゲン化物ガラスの品質が変化する：本発明は上記の
欠点を除去することを目的とするものである。
４２頁（１９８０）参照〕。これらの寄生的吸収によジ
ハロゲン化物ガラスの品質が変化する：本発明は上記の
欠点を除去することを目的とするものである。
実際に、ハロゲン化物ガラスの二硫化炭素による処理け
０「イオン及び０２−イオンの消滅に顕著な効果があり
この効果は前記の赤外線の寄生的吸収帯の消滅によって
示されることが見出だされた。
０「イオン及び０２−イオンの消滅に顕著な効果があり
この効果は前記の赤外線の寄生的吸収帯の消滅によって
示されることが見出だされた。
赤外伝播スはクトルの分析においては実際に、数ｐｐｍ
という僅かな含有量のＯＨ−イオンにより極めて鋭敏に
生ずる２、９ミクロンの領域での吸収が完全に存在して
いないことが示されている。
という僅かな含有量のＯＨ−イオンにより極めて鋭敏に
生ずる２、９ミクロンの領域での吸収が完全に存在して
いないことが示されている。
８ミクロンに近い領域では同様に処理前に存在していた
寄生的吸収が消滅していることが確認されている。
寄生的吸収が消滅していることが確認されている。
二硫化炭素の作用機構は明らかではないが、ＯＨ−イオ
ン及び０２−イオンが赤外線を吸収しないＳ２−イオン
によって置換されるためと推測される・従って本発明に
よれば金属ハロゲン化物を基材とするハロゲン化物ガラ
スにおいて、上記ハロゲン化物ガラスを二硫化炭素で、
改質処理することによって、上記ハロゲン化物ガラスが
ヒドロキシルイオンと金族−酸累結合に起因する赤外線
の寄生的吸収バンドを実質的に示すことがないようにす
るのに十分な程度に上記ヒドロキシルイオンと金属−酸
素結合の含有量を減少させたことを特徴とする、改質ハ
ロゲン化物ガラスが提供される。
ン及び０２−イオンが赤外線を吸収しないＳ２−イオン
によって置換されるためと推測される・従って本発明に
よれば金属ハロゲン化物を基材とするハロゲン化物ガラ
スにおいて、上記ハロゲン化物ガラスを二硫化炭素で、
改質処理することによって、上記ハロゲン化物ガラスが
ヒドロキシルイオンと金族−酸累結合に起因する赤外線
の寄生的吸収バンドを実質的に示すことがないようにす
るのに十分な程度に上記ヒドロキシルイオンと金属−酸
素結合の含有量を減少させたことを特徴とする、改質ハ
ロゲン化物ガラスが提供される。
本発明による二硫化炭素による処理は一般的には全組ハ
ロゲン化物を基材とするガラスのすべてに適用可能であ
る。
ロゲン化物を基材とするガラスのすべてに適用可能であ
る。
これらのハロゲン化物ガラスはとくに金踊ハロゲン化物
（弗化物・塩化物・臭化物・沃化物）の混合物を基材と
するガラスであり、またとくに原 □子量が２６を超え
る金属のノーロゲン化物の少なくとも１種（一般的には
少なくとも２種）を含むハロゲン化物ガラスである。
（弗化物・塩化物・臭化物・沃化物）の混合物を基材と
するガラスであり、またとくに原 □子量が２６を超え
る金属のノーロゲン化物の少なくとも１種（一般的には
少なくとも２種）を含むハロゲン化物ガラスである。
とくにハロゲン化物ガラスはマグネシウム、アルミニウ
ム、３ｄ遷移金属（Ｓｃ、 Ｔｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、 Ｍ
ｎ。
ム、３ｄ遷移金属（Ｓｃ、 Ｔｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、 Ｍ
ｎ。
Ｆｅｎ Ｃｏｏ Ｎｉ＋ Ｃｕ＋ Ｚｎ ） 、金属Ｇ
ａ、Ｙ、ｚｒ、Ｎｂｌ八ｇへ−Ｃｄ、 Ｉｎ、またとく
に原子量が１６８を超える金属、Ｌａ （及びランタニ
ドすなわちＣｅ＋ Ｐｖ＋ Ｎｄ＊Ｐｍ＋ ８ｍ、 Ｅ
ｕ、 Ｇｄ＋ Ｔｂ＋ Ｄｙｅ Ｈｏ、 Ｅｒ、 Ｔｍ
、 Ｙｂ、及びＬｕ ）、Ｈｆ、 Ｈｇ、 Ｔｔ、 Ｐ
ｂ、 Ｂｉ、 Ｔｈ及びＵのうちから選ばれた金踊のハ
ロゲン化物の少なくとも１種、多くの場合、少なくとも
２棟を含んでいる公知のハロゲン化物ガラスである。
ａ、Ｙ、ｚｒ、Ｎｂｌ八ｇへ−Ｃｄ、 Ｉｎ、またとく
に原子量が１６８を超える金属、Ｌａ （及びランタニ
ドすなわちＣｅ＋ Ｐｖ＋ Ｎｄ＊Ｐｍ＋ ８ｍ、 Ｅ
ｕ、 Ｇｄ＋ Ｔｂ＋ Ｄｙｅ Ｈｏ、 Ｅｒ、 Ｔｍ
、 Ｙｂ、及びＬｕ ）、Ｈｆ、 Ｈｇ、 Ｔｔ、 Ｐ
ｂ、 Ｂｉ、 Ｔｈ及びＵのうちから選ばれた金踊のハ
ロゲン化物の少なくとも１種、多くの場合、少なくとも
２棟を含んでいる公知のハロゲン化物ガラスである。
上記金属ハロゲン化物のほかにこれらノ〜ロゲン化物ガ
ラスはたとえばアルカリ金属又はアルカリ土類金属のハ
ロゲン化物も含むことができる。
ラスはたとえばアルカリ金属又はアルカリ土類金属のハ
ロゲン化物も含むことができる。
本発明により二硫化炭素で改質できるハロゲン化物ガラ
スとしてはとくに仏国特許及び特許出願第９１９００６
号、第２３５４９７７号、第２３８４７２４号。
スとしてはとくに仏国特許及び特許出願第９１９００６
号、第２３５４９７７号、第２３８４７２４号。
第８０．１８１３９号及び第８０ 、０２６９８号明細
書、欧州特許出願公開第００１７５６６号及び第１１０
３６３７３号明細書に記載のものをあげることができる
；なお雑誌” Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｅｒａ＋ｎｉｃ
５ｏｃｉｅｔｙ ’ １９８１年９月７１０月記５＋７
−５３８頁及び’ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆＮｏｎ−ｃｒ
ｙｓｔａｌｌｉｎｅ ５ｏｌｉｄｅ ’ （１９８１年
〕第３０９頁のパハロゲン化物カラス”と題するＢａｌ
ｄｗｉｎ及びＭａｃｋｅｎｚｉｅの概説を参照されたい
。
書、欧州特許出願公開第００１７５６６号及び第１１０
３６３７３号明細書に記載のものをあげることができる
；なお雑誌” Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｅｒａ＋ｎｉｃ
５ｏｃｉｅｔｙ ’ １９８１年９月７１０月記５＋７
−５３８頁及び’ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆＮｏｎ−ｃｒ
ｙｓｔａｌｌｉｎｅ ５ｏｌｉｄｅ ’ （１９８１年
〕第３０９頁のパハロゲン化物カラス”と題するＢａｌ
ｄｗｉｎ及びＭａｃｋｅｎｚｉｅの概説を参照されたい
。
本発明はまた二硫化炭素で改質したハロゲン化物ガラス
の製法も目的とする。
の製法も目的とする。
この方法は主として所望のガラスの種々の成分の混合物
にその溶融温度より高く保持しなから二硫化炭素を作用
させることを特徴とする。
にその溶融温度より高く保持しなから二硫化炭素を作用
させることを特徴とする。
もちろん操作は処理される混合物中にＯＨ−又は０２−
イオンが導入されないように制御された雰囲気中で行わ
れる。
イオンが導入されないように制御された雰囲気中で行わ
れる。
Ｃ８２蒸気を作用させるのに有利になるように処理すべ
き混合物を十分流動性とするために、溶融温度よシ十分
晶い温度において操作を行う。たとえば溶融温度より２
００″Ｃ品い温度まで、とくに溶融温度より５０〜２０
０℃＾い温度で操作を行う。
き混合物を十分流動性とするために、溶融温度よシ十分
晶い温度において操作を行う。たとえば溶融温度より２
００″Ｃ品い温度まで、とくに溶融温度より５０〜２０
０℃＾い温度で操作を行う。
引続いて、かくして処理した組成物を所望ならは試料に
所望の形状を施こして冷却させ、Ｃ８２改質ガラスが得
られるようにする。
所望の形状を施こして冷却させ、Ｃ８２改質ガラスが得
られるようにする。
原料組成物に二硫化炭素含有ガス流を作用させて本発明
の方法を実施することが望ましいう二硫化炭素はたとえ
ば窒素又は稀ガスのごとき不活性担体ガスで希釈するこ
とが好ましい。
の方法を実施することが望ましいう二硫化炭素はたとえ
ば窒素又は稀ガスのごとき不活性担体ガスで希釈するこ
とが好ましい。
得られたガラスがもはや前記スペクトル領域に寄生的吸
着を示さないようにするのに十分な時間、二硫化炭素を
作用させる。その時間けとくに処理すべき組成物の竜に
応じて数分間から数時間まで変動させることができる。
着を示さないようにするのに十分な時間、二硫化炭素を
作用させる。その時間けとくに処理すべき組成物の竜に
応じて数分間から数時間まで変動させることができる。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例 １
ガラス状カーボン坩堝内に下記の成分からなるガラス試
料を装入した： ＢａＦ２ １ ５ ％ 、 ＴｈＦ４２８．３３ ％
、 ＹｂＦｓ ２８．３３ ％。
料を装入した： ＢａＦ２ １ ５ ％ 、 ＴｈＦ４２８．３３ ％
、 ＹｂＦｓ ２８．３３ ％。
ＺＨＦ２ ２８．３３ ％
この集合体を上端にガス送入管及びガス出口を備えてい
る石英管内へ導入した。窒素で５分間掃気した後、集合
体を８４０℃の炉内へ装入し窒素又はヘリウムでゆつく
如掃気した。
る石英管内へ導入した。窒素で５分間掃気した後、集合
体を８４０℃の炉内へ装入し窒素又はヘリウムでゆつく
如掃気した。
反応性雰囲気は液体二硫化炭素中にヘリウムの気泡を通
送しセしてＣ８２蒸気含有ガス流を石英管に６０分間通
送して得た。
送しセしてＣ８２蒸気含有ガス流を石英管に６０分間通
送して得た。
実施例２−４
下記の組成を有するガラスを本発明に従って処理して上
記と同様の結果を得た。
記と同様の結果を得た。
実施例 ２
ＢａＦ２１３％、 ’Ｉ’ｈＦ４３２％、ＹＦｓ２４％
。
。
ＺｎＦ２３１％
実施例３
ＢａＦ２１５％、 ＴｈＦ４２４％、ＹＦｓ２４％。
ＺｎＦ２２４％、 ＩｎＦ３１３％
実施例 ４
ＢａＦ２３３．７５％、 ＴｈＦ４８．７７ ％ 、
ＺｒＦ４” ５７．５％図面は処理の前と後のガラ
ス試料についての赤外線伝］１ｈの経過を示す。寄生的
吸収帯（曲線Ｂ：未処」、・ｌカラス）が曲線Ａ’ （
Ｃ８２処理ガラス）では消失していることが認められる
。
ＺｒＦ４” ５７．５％図面は処理の前と後のガラ
ス試料についての赤外線伝］１ｈの経過を示す。寄生的
吸収帯（曲線Ｂ：未処」、・ｌカラス）が曲線Ａ’ （
Ｃ８２処理ガラス）では消失していることが認められる
。
４、図＋ｎｉの前年な説明
図聞は本発明による処理を行う前と後のガラスの赤外線
吸収の変化を示す。
吸収の変化を示す。
手続補正書（方式）
昭和５９年 ９月２５日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、金属ハロゲン化物を基材とするハロゲン化物ガラス
において、上記ハロゲン化物ガラスを二硫化炭素で、改
質処理することによつて、上記ハロゲン化物ガラスがヒ
ドロキシルイオンと金属−酸素結合に起因する赤外線の
寄生的吸収バンドを実質的に示すことがないようにする
のに十分な程度に上記ヒドロキシルイオンと金属−酸素
結合の含有量を減少させたことを特徴とする、改質ハロ
ゲン化物ガラス。 ２、原子量が２３を超える金属のハロゲン化物の少なく
とも１種を含む、特許請求の範囲第１項記載のガラス。 ３、原子量が１３８を超える金属のハロゲン化物の少な
くとも１種を含む、特許請求の範囲第２項記載のガラス
。 ４、弗化物を基材とするガラスである、特許請求の範囲
第１項乃至第３項の何れかに記載のガラス。 ５、ハロゲン化物ガラスの種々の成分の混合物をその溶
融温度より高い温度に保持しながら制御された雰囲気中
において二硫化炭素により処理することを特徴とする改
質ハロゲン化物ガラスの製造方法。 ６、溶融温度より２００℃まで高い温度において操作す
る、特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、溶融温度より５０〜２００℃高い温度において操作
する、特許請求の範囲第６項記載の方法。 ８、原料組成物に二硫化炭素含有ガス流を作用させる、
特許請求の範囲第５項乃至第７項の何れかに記載の方法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8312258A FR2549818B1 (fr) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | Verres halogenes modifies au sulfure de carbone et procede de preparation |
| FR8312258 | 1983-07-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6121932A true JPS6121932A (ja) | 1986-01-30 |
Family
ID=9291085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59152206A Pending JPS6121932A (ja) | 1983-07-25 | 1984-07-24 | 改質ハロゲン化物ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4560667A (ja) |
| JP (1) | JPS6121932A (ja) |
| FR (1) | FR2549818B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6163538A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-01 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | フッ化物ガラスの精製法 |
| US4610708A (en) * | 1985-06-24 | 1986-09-09 | Corning Glass Works | Method for making metal halide optical fiber |
| FR2592372B1 (fr) * | 1985-12-27 | 1992-01-24 | Centre Nat Rech Scient | Nouveaux verres fluores a base d'indium et leur preparation |
| US4842631A (en) * | 1988-06-20 | 1989-06-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method of making carbon dioxide and chlorine free fluoride-based glass |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE461839A (ja) * | 1944-12-15 | |||
| US2466507A (en) * | 1946-05-15 | 1949-04-05 | Eastman Kodak Co | Method of making fluoride glass |
| FR2384724A1 (fr) * | 1977-03-24 | 1978-10-20 | Anvar | Compositions de verres fluores et procede de fabrication |
| FR2354977A1 (fr) * | 1976-06-15 | 1978-01-13 | Anvar | Compositions de verres fluores |
| DE2726170C2 (de) * | 1976-06-15 | 1987-01-22 | Agence Nationale de Valorisation de la Recherche (ANVAR), Neuilly-sur-Seine, Hauts-de-Seine | Fluoridglas auf der Basis eines ternären Systems aus Zirkoniumfluorid, Bariumfluorid und einem Seltenerdfluorid sowie ggfs. einem weiteren Metallfluorid als zusätzlichen Bestandteil und ein Verfahren zu seiner Herstellung |
| FR2452469A1 (fr) * | 1979-03-28 | 1980-10-24 | Anvar | Nouveaux verres fluores, leur preparation et leur application |
| US4341873A (en) * | 1980-03-19 | 1982-07-27 | Hughes Aircraft Company | Fluorozirconate, glass and the process for making the same |
| FR2478619A1 (fr) * | 1980-03-19 | 1981-09-25 | Hughes Aircraft Co | Procede de production de verre transparent aux rayons infrarouges et ce verre |
| FR2488873A1 (fr) * | 1980-08-19 | 1982-02-26 | Anvar | Nouveaux verres fluores a base d'actinides et de lanthanides et leur preparation |
-
1983
- 1983-07-25 FR FR8312258A patent/FR2549818B1/fr not_active Expired
-
1984
- 1984-07-20 US US06/632,902 patent/US4560667A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-07-24 JP JP59152206A patent/JPS6121932A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2549818A1 (fr) | 1985-02-01 |
| FR2549818B1 (fr) | 1985-11-08 |
| US4560667A (en) | 1985-12-24 |
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