JPS6147862B2 - - Google Patents

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JPS6147862B2
JPS6147862B2 JP53127818A JP12781878A JPS6147862B2 JP S6147862 B2 JPS6147862 B2 JP S6147862B2 JP 53127818 A JP53127818 A JP 53127818A JP 12781878 A JP12781878 A JP 12781878A JP S6147862 B2 JPS6147862 B2 JP S6147862B2
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JP
Japan
Prior art keywords
bis
crosslinking
mold
tertiary
rotational molding
Prior art date
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Expired
Application number
JP53127818A
Other languages
English (en)
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JPS5556142A (en
Inventor
Takayuki Yokoyama
Yoshiaki Nakayama
Yasuo Yasuda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP12781878A priority Critical patent/JPS5556142A/ja
Publication of JPS5556142A publication Critical patent/JPS5556142A/ja
Publication of JPS6147862B2 publication Critical patent/JPS6147862B2/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は光沢と離型性の優れた回転成形用組成
物に関する。 回転成形は金型に合成樹脂パウダーを入れて単
軸又は二軸に回転させながら外部から金型を加熱
して、そのパウダーを溶融し、次いで冷却して製
品を取出す成形方法である。回転成形は、中空成
形等で不可能な複雑で大型の中空容器ができ、成
形品の肉厚が均一で、且つ材料ロスが少ないとい
う特徴がある。しかし、回転成形は、 合成樹脂パウダーを金型を介して加熱して溶
融させるために、成形に時間がかゝる結果、必
然的に高温で加熱しなければならない。 成形過程では、単に溶融した樹脂が金型の回
転によつて流動して金型表面上に溶融樹脂層を
形成するだけなので、流れの良い樹脂を使わな
いと溶融樹脂層の形成が妨げられ、良い成形品
が得られない。 流れの良い樹脂を使うと、ポリマーの分子量
が低いため、必然的に衝撃強度やESCRが低下
し、耐久性を要求される用途には使用できな
い。 成形時に圧力が加わらないために、冷却時の
どの時点で金型から成形品が離れるかによつ
て、成形品の寸法が大きく異なり、更に金型か
ら早く離れすぎると成形品の収縮が大きくなつ
て変形する。 自動化がむずかしく、金型の開閉および成形
品の取出しは手作業でやらなければならない。 というような欠点があり用途が限定されていた。
回転成形用材料としては、高流動性で、離型性が
良く、衝撃強度が高く、かつ低収縮率であること
が理想的である。しかし、一般には高流動性にす
れば衝撃強度は低下し、高流動性と高衝撃強度を
兼ね備えているポリエチレンはなかつた。そこ
で、高流動性のポリエチレンに有機過酸化物を添
加してポリエチレンが完全に溶融してから架橋さ
せれば、成形性も良好で衝撃強度も優れていると
いうことから、回転成形用架橋グレードが開発さ
れた。 ところがポリエチレンを金型中で架橋させると
架橋の進行につれて金型との粘着性が増し、金型
離型剤なしでは成形できなくなる。架橋ポリエチ
レン用の金型離型剤としてはシリコーンあるいは
フロロカーボン系の離型剤が知られている。しか
し、離型剤を用いる方法には、以下に述べる大き
な欠点がある。即ち、離型剤を金型にスプレーし
た場合は、スプレー量の多少およびスプレー後の
成形シヨツト数によつて著しく離型性が異なるだ
けでなく、成形品の光沢が出ないので、成形品の
寸法および外観を重んずる用途には使うことがで
きなかつた。また、離型剤を金型に焼き付けた場
合は、最初離型性や光沢は良好であるが、10シヨ
ツトも成形すると離型剤が部分的に剥離し、離型
性や光沢が変化する。しかも部分的に剥離した離
型剤を補修するには、金型を完全に磨いて再焼き
付けしなければならないという大きな欠点があ
り、この方法はほとんど実用化されていない。 また、ポリエチレンに有機過酸化物を添加して
回転成形を行う方法には有機過酸化物が分解して
発生した低分子ラジカルがポリエチレンの水素を
引き抜いて、低沸点の物質を生成させ、発泡の原
因になり、更に不快臭を発生させるという大きな
欠点を有する。発泡成形等の押出成形ではポリエ
チレンを有機過酸化物で架橋する際に発生する低
分子ラジカルを補足し、気泡を除去するために多
くの架橋助剤が知られている。例えば特開昭50―
32239号、特開昭51―12875号、特開昭53―2555号
等があり、架橋助剤としては反応性二重結合又は
三重結合を2個以上有するものが開示されてい
る。 例として、 トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレート等のシアヌール酸又はイソシアヌー
ル酸のジ又はトリアリルエステル。 トリメリツト酸トリアリルエステル、アジピ
ン酸ジアリル等のポリカルボン酸のポリアリル
エステル。 エチレングリコールジメタアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタアクリレート等
のアクリロイル基又はメタクリロイルオキシ基
を2個以上有する化合物。 1,2ポリブタジエン等多くの二重結合を有
するポリマー。 フタル酸ジプロパルギル、マレイン酸ジプロ
パルギル等の2個以上の三重結合を有する化合
物。 ジビニルベンゼン等のポリビニルモノマー。 がある。押出成形の場合、架橋は金型、ダイスあ
るいはシリンダー内で行なわれるため、揮発性物
質による気泡の発生は、外圧によつて抑えること
ができるために気泡はわずかしか発生しない。従
つて、架橋助剤として若干の効果があれば気泡が
抑制される。 ところが、回転成形では架橋反応中に何ら外圧
が加わらないために、揮発性物質の発生を抑制す
る力は全くなく、架橋助剤を使わないと全面に発
泡してしまう。回転成形で気泡の抑制効果のある
ものとして特開昭49―10947号のジオレフイン重
合体が知られているだけであり、これはアセチレ
ンタイプの有機過酸化物とジオレフイン重合体の
組み合せであるが離型剤なしでは成形できない。
またアセチレンタイプの有機過酸化物を使用して
回転成形を行うと架橋反応による分解臭が非常に
強く、更に目を刺激するので、回転成形のように
手作業の多いものでは、よほど環境の整備された
場所でないと実用化はむずかしい。 即ち、回転成形分野では、耐熱性が大きく、し
かもポリエチレンのパウダーに影響を与えないも
ので、かつ架橋しても金属との密着性が架橋する
前と変らず、更に架橋剤の分解臭が少ない架橋剤
と架橋助剤の組合せは知られていなかつた。 従つて、従来の架橋技術による回転成形では、
金型離型剤を使わずに成形でき、かつ寸法が一定
し、光沢の優れた成形品を得ることは不可能であ
つた。 本発明者達はかかる欠点を改良すべく鋭意研究
を重ねた結果本発明を得るに至つた。 即ち、ポリエチレンにビス(ターシヤリアルキ
ルパーオキシ)アルカンおよび又はビス(ターシ
ヤリアルキルパーオキシ)ベンゼンからなる架橋
剤および1,2ポリブタジエン、トリアリルシア
ヌレート、トリアリルイソシアヌレートからなる
架橋助剤の1種又は2種以上を配合し、かつ架橋
助剤の量は前記架橋剤に対して重量で0.5〜5倍
量配合した材料を用いることによつて、金型離型
剤を使用せずに離型性、光沢が良好で寸法安定性
の良い架橋成形品が得られるようになつた。 本発明でいうポリエチレンとは例えば高密度ポ
リエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエ
チレン等のポリエチレンおよびエチレンを主体と
した共重合体で、これらは単独もしくは二種以上
を組み合せて使用することができるが、回転成形
用に使用するので、高流動のものを使用する必要
があり、MIは5g/10分以上、好ましくは10〜
30g/10分のものを使用する。 本発明で使用する架橋剤は後記の一般式(1)で示
されるビス(ターシヤリアルキルパーオキシ)ア
ルカン又は一般式(2)で示されるビス(ターシヤリ
アルキルパーオキシ)ベンゼンで ここにnは1又は2、Rは第3アルキル残基、
R′およびR″はそれ自体が炭化水素残基であるか
又はシクロアルキレン残基を形成すべく連結され
たアルキレン残基で、ビス(ターシヤリアルキル
パーオキシ)アルカンとしては、2,5ビス(タ
ーシヤリアミルパーオキシ)2,5ジメチルヘキ
サン、2,5ビス(ターシヤリブチルパーオキ
シ)2,5ジメチルヘキサン、2,5ビス(タシ
ヤリブチルパーオキシ)2,5ジフエニルヘキサ
ン、3,6ビス(ターシヤリブチルパーオキシ)
3,6ジメチルオクタン、2,7ビス(ターシヤ
リブチルパーオキシ)2,7ジメチルオクタン、
2,5ビス(ターシヤリブチルパーオキシ)2,
5ジシクロヘキシルヘキサン、2,5ビス(ター
シヤリブチルパーオキシ)2,5ジベンジルヘキ
サン、8,11ビス(ターシヤリブチルパーオキ
シ)8,11ジメチルオクタデカン、2,5ビス
(2,5ジメチル―2ヘキシルパーオキシ)2,
5ジメチルヘキサン等であり、ビス(ターシヤリ
アルキルパーオキシ)ベンゼンとしてはα,α′
―ビス(ターシヤリブチルパーオキシイソプロピ
ル)ベンゼン、α,α′―ビス(ターシヤリアミ
ルパーオキシイソプロピル)ベンゼン等であり、
これら架橋剤の併用は勿論のこと、他の架橋剤を
本発明の目的を損なわない範囲で併用することが
できる。ポリエチレンと配合される架橋剤の量
は、所望の架橋度、個々の架橋剤の活性、使用す
る架橋助剤、架橋条件等によつて異なるが、普通
用いられる架橋剤の量はポリエチレン100部に対
して0.1〜5部、好ましくは0.5〜3部が用いられ
る。 本発明で使用する架橋助剤のうち1,2ポリブ
タジエンの中には末端を−OH,−COOH等で置
換変性したものも含まれる。 架橋助剤は前記架橋剤に対して重量で0.5〜5
倍量、好ましくは1〜3倍量添加される。0.5倍
以下では架橋反応による低分子ラジカルを捕捉で
きず発泡し、5倍以上では耐熱性が低下し、回転
成形のように高温で加熱する場合は、黄色に着色
し好ましくない。 また、本発明の組成物はプラスチツク組成物に
普通用いられる他の添加物、例えば安定剤、耐候
剤、着色剤、滑剤等を含んでもよい。 このように従来、架橋グレードで金型離型剤な
しに回転成形することは不可能と考えられてお
り、従つて、光沢が良く、寸法安定性のよい成形
品を得ることは不可能であつた。本発明では特殊
な架橋剤と架橋助剤を組み合わせることによつ
て、金型離型剤を全く必要とせず、光沢と寸法安
定性の優れた架橋成形品が得られるようになつ
た。 以下に本発明の詳細について、実施例で説明す
る。 〔実施例 1〕 高密度ポリエチレン、サンテツクJ―310P
(旭化成製MI=20g/10分)100部に架橋剤とし
てパーヘキサ2,5B(日本油脂製:2,5ビス
(ターシヤリブチルパーオキシ)2,5ジメチル
ヘキサン)1.2部、架橋助剤としてニツソ―PBB
―1000(日本曹達製1,2ポリブタジエン)およ
びトリアリルシアヌレートの添加量を種々かえて
ヘンシエルミキサーで混合し、200×200×100mm
の箱型金型に配合パウダー450gを入れて、マク
ニール型回転成形機に取付け、200℃で20分間加
熱し、その後風冷15分、水冷3分、風冷2分の冷
却を行い、製品を取り出したところ表1のように
なつた。
〔実施例 2〕
高密度ポリエチレン、サンテツクJ―310P100
部に対して、架橋剤の濃度と種類を種々変え、架
橋助剤はB―1000 1.5部を添加し、実施例1と同
一の方法で配合し、同一の方法で回転成形した結
果を表2に示した。
【表】
〔実施例 3〕
高密度ポリエチレン、サンテツクJ―310P100
部に対して、パーヘキサ2,5B 1.2部、架橋助剤
の種類、添加量を種々かえて、実施例1と同一の
方法で配合し、回転成形した結果を表3に示し
た。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリエチレンに下記の一般式(1)で示されるビ
    ス(ターシヤリアルキルパーオキシ)アルカンお
    よび又は一般式(2)で示されるビス(ターシヤリア
    ルキルパーオキシ)ベンゼンからなる架橋剤およ
    び1,2ポリブタジエン、トリアリルシアヌレー
    ト、トリアリルイソシアヌレートからなる架橋助
    剤の1種又は2種以上を配合し、かつ架橋助剤の
    量は前記架橋剤に対して重量で0.5〜5倍量配合
    したことを特徴とする光沢と離型性の優れた回転
    成形用組成物。 (ここにnは1又は2、Rは第3アルキル残
    基、R′およびR″はそれ自体が炭化水素残基であ
    るか、又はシクロアルキレン残基を形成すべく連
    結されたアルキレン残基である。) 2 ビス(ターシヤリアルキルパーオキシ)アル
    カンが2,5ビス(ターシヤリブチルパーオキ
    シ)2,5ジメチルヘキサンである特許請求の範
    囲第1項記載の回転成形用組成物。 3 ビス(ターシヤリアルキルパーオキシ)ベン
    ゼンがα,α′―ビス(ターシヤリブチルパーオ
    キシイソプロピル)ベンゼンである特許請求の範
    囲第1項記載の回転成形用組成物。
JP12781878A 1978-10-19 1978-10-19 Composition for rotational molding with high gloss and releasability Granted JPS5556142A (en)

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JPH0517988Y2 (ja) * 1986-04-23 1993-05-13

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