JPS6147235A - ポリエステルフイルムの製造方法 - Google Patents
ポリエステルフイルムの製造方法Info
- Publication number
- JPS6147235A JPS6147235A JP16928984A JP16928984A JPS6147235A JP S6147235 A JPS6147235 A JP S6147235A JP 16928984 A JP16928984 A JP 16928984A JP 16928984 A JP16928984 A JP 16928984A JP S6147235 A JPS6147235 A JP S6147235A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- stretched
- stretching
- polyester
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ 上の
本発明はポリエステルフィルムに関し、特に走行性、電
磁変換特性、耐久性及びドロップアウトの少ない磁気記
録体用基体として用いられるポリエステルフィルム、と
りわけ金属メタル塗布型の8m/mビデオ用等高密度磁
気記録用基体に好適なポリエステルフィルムに関するも
のである。
磁変換特性、耐久性及びドロップアウトの少ない磁気記
録体用基体として用いられるポリエステルフィルム、と
りわけ金属メタル塗布型の8m/mビデオ用等高密度磁
気記録用基体に好適なポリエステルフィルムに関するも
のである。
Dす」L艮へ1夏
近年、磁気記録体の記録密度の向上は目覚ましく、磁気
ia録媒体に記録する情報量も年々増加の一途をたどり
、磁気テープにあ一コでは、今後さらに高密度化、薄膜
化等をはかることが望まれている。
ia録媒体に記録する情報量も年々増加の一途をたどり
、磁気テープにあ一コでは、今後さらに高密度化、薄膜
化等をはかることが望まれている。
特に磁気記録媒体の基体フィルムに従来の酸化全屈の代
りに金属メタルとバインダーを塗布し薄膜層を形成させ
る、いわゆるメタルパウダー型磁低記録媒体においては
、前記特性を満たす基材フルムの存在が強く要望されて
いるが、該基体フィルムとしてポリエステルフィルムが
用いられていた。
りに金属メタルとバインダーを塗布し薄膜層を形成させ
る、いわゆるメタルパウダー型磁低記録媒体においては
、前記特性を満たす基材フルムの存在が強く要望されて
いるが、該基体フィルムとしてポリエステルフィルムが
用いられていた。
八 ロが しようと る。
磁気記録媒体(磁気テープ)の薄膜化、高密度化等の特
性を満たすためには、その基体フィルムが平担性及び易
滑性を有することが必要であるが。
性を満たすためには、その基体フィルムが平担性及び易
滑性を有することが必要であるが。
従来までのポリエステルフィルムではこれら平担易滑性
を満たすには充分でなく、シたがって前記磁気テープの
薄膜化、高密度化等の要望に応えることは困難なもので
あり問題であった。
を満たすには充分でなく、シたがって前記磁気テープの
薄膜化、高密度化等の要望に応えることは困難なもので
あり問題であった。
二 を る二めの
本発明者等は前記の磁気テープの薄膜化、高密度化に伴
う平担易滑性の要求を満たすフィルムを製造すべく鋭意
検討の結果、新規な延伸処方でポリエステルフィルムを
製造することにより前記の問題点が解決できることを見
出し1本発明に到達したものである。
う平担易滑性の要求を満たすフィルムを製造すべく鋭意
検討の結果、新規な延伸処方でポリエステルフィルムを
製造することにより前記の問題点が解決できることを見
出し1本発明に到達したものである。
すなわち1本発明は(1)触媒残渣に基づく微細粒子及
び/又は不活性無機粒子をポリエステル中不溶成分とし
て0.001〜1重量%含有するポリエステル樹脂から
なる未延伸フィルムを縦方向にTg(ガラス転移点)〜
Tm(融点)−100℃の延伸温度で、縦延伸後の平均
の複屈折率Δnが0.035〜0.048であって、縦
延伸フィルムのΔnの最大値がo、oss以下、最小値
が0.030以上、かつ平均屈折率nが1.5770以
上1.5850以下となるよう1段階又は多段階延伸し
たのち、Tm−80℃以下の延伸温度で横延伸倍率3.
5倍以上横方向に延伸したフィルムを再度縦方向にTg
+10℃〜Tm−80℃の延伸温度で再延伸し、必要に
応じて熱固定することを特徴とする平担易滑性の極めて
すぐれたポリエステルフィルムの製造方法、及び(2)
二軸延伸フィルムのRa(中心平均表面粗さ)が0゜0
10、−m以下であることを特徴とする上記(1)記載
のポリエステルフィルムの製造方法に関するものである
。
び/又は不活性無機粒子をポリエステル中不溶成分とし
て0.001〜1重量%含有するポリエステル樹脂から
なる未延伸フィルムを縦方向にTg(ガラス転移点)〜
Tm(融点)−100℃の延伸温度で、縦延伸後の平均
の複屈折率Δnが0.035〜0.048であって、縦
延伸フィルムのΔnの最大値がo、oss以下、最小値
が0.030以上、かつ平均屈折率nが1.5770以
上1.5850以下となるよう1段階又は多段階延伸し
たのち、Tm−80℃以下の延伸温度で横延伸倍率3.
5倍以上横方向に延伸したフィルムを再度縦方向にTg
+10℃〜Tm−80℃の延伸温度で再延伸し、必要に
応じて熱固定することを特徴とする平担易滑性の極めて
すぐれたポリエステルフィルムの製造方法、及び(2)
二軸延伸フィルムのRa(中心平均表面粗さ)が0゜0
10、−m以下であることを特徴とする上記(1)記載
のポリエステルフィルムの製造方法に関するものである
。
本発明における。ポリエステルとは、テレフタル酸、ナ
フタレン−2,6−ジカルボン酸等のごとき芳香族ジカ
ルボン酸と、エチレングリコール。
フタレン−2,6−ジカルボン酸等のごとき芳香族ジカ
ルボン酸と、エチレングリコール。
ジエチレングリコール、テトラメチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール等のごとき脂肪族グリコールとを
重縮合させて得ることのできるポリマーである。該ポリ
マーの代表的なものとしては。
オペンチルグリコール等のごとき脂肪族グリコールとを
重縮合させて得ることのできるポリマーである。該ポリ
マーの代表的なものとしては。
ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−2゜6−
ナフタレンジカルボキシレート等が例示される。また該
ポリマーはホモポリマー以外に結晶性を低下させない程
度、すなわち10モル%以下の他の芳香族及び脂肪族の
シカ゛ルボン酸、ジオール等を共重合しても良い、又、
他の重合体、例えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリ
カーボネート等を10重量%以下ブレンドすることも可
能である。但し、結晶性を極端に低下させたり、ブレン
ドにより表面粗度が極端に凹凸化するものは除かれる。
ナフタレンジカルボキシレート等が例示される。また該
ポリマーはホモポリマー以外に結晶性を低下させない程
度、すなわち10モル%以下の他の芳香族及び脂肪族の
シカ゛ルボン酸、ジオール等を共重合しても良い、又、
他の重合体、例えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリ
カーボネート等を10重量%以下ブレンドすることも可
能である。但し、結晶性を極端に低下させたり、ブレン
ドにより表面粗度が極端に凹凸化するものは除かれる。
又、前記ポリエステル中にはエステル交換触媒、重合触
媒以外に、リン酸、亜リン酸及びそれらのエステル等安
定剤、紫外線吸収剤、二酸化チタン。
媒以外に、リン酸、亜リン酸及びそれらのエステル等安
定剤、紫外線吸収剤、二酸化チタン。
微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウム等の!1!
i消剤、滑剤等、必要に応じて含まれていてよい。
i消剤、滑剤等、必要に応じて含まれていてよい。
ここで本発明において用いる粒子はポリエステル中に0
.001重量%以上1重量%以下、好ましくは0.01
重量%〜0.5重量%の不溶成分として含まれているこ
とが必要である。この量が0.001重量%未満では後
述する新規延伸処方を用いても易滑性が、得られず、一
方、1重量%を超えるものでは平担性が得られない、当
然二二で用いる粒子は微細かつ均一でなければならない
。
.001重量%以上1重量%以下、好ましくは0.01
重量%〜0.5重量%の不溶成分として含まれているこ
とが必要である。この量が0.001重量%未満では後
述する新規延伸処方を用いても易滑性が、得られず、一
方、1重量%を超えるものでは平担性が得られない、当
然二二で用いる粒子は微細かつ均一でなければならない
。
不均一であると平担易滑性が得られなかったり、フィッ
シュアイが多く磁気記録媒体におけるドロップアウトの
原因となったりするため不適である。
シュアイが多く磁気記録媒体におけるドロップアウトの
原因となったりするため不適である。
このような微細で均一な粒子を有する原料レジンとして
は、触媒残渣に基づく析出粒子であっても良いし、不活
性無機粒子であっても良い、特に不活性無機粒子を添加
する場合には分級を行なうことが必須である。
は、触媒残渣に基づく析出粒子であっても良いし、不活
性無機粒子であっても良い、特に不活性無機粒子を添加
する場合には分級を行なうことが必須である。
不活性無機粒子としてはTi、St、Ca、Mg、Na
、A1.Zn、Baなどの酸化物、炭酸塩、燐酸塩、硫
酸塩単独および錯塩混合物、たとえばCaCO2,Si
O2、Al2O3,天然のクレー、カオリナイトおよび
カーボン等が挙げられる。シリカは無定形のものでも結
晶のものでもよい。
、A1.Zn、Baなどの酸化物、炭酸塩、燐酸塩、硫
酸塩単独および錯塩混合物、たとえばCaCO2,Si
O2、Al2O3,天然のクレー、カオリナイトおよび
カーボン等が挙げられる。シリカは無定形のものでも結
晶のものでもよい。
これらの不活性無機粒子は例えばシリカ又は炭酸カルシ
ウムは、水やエチレングリコールのスラリーとして分散
せしめて、この分散状態のまま分級手段(例えばスーパ
ーデカンタ−)を使用して分級すると得られる。
ウムは、水やエチレングリコールのスラリーとして分散
せしめて、この分散状態のまま分級手段(例えばスーパ
ーデカンタ−)を使用して分級すると得られる。
得られた不活性無機粒子は、例えばポリエステルに添加
する場合には、その添加時期はポリエステル重合前でも
よく9重合反応中でもよい、又重合終了後、ペレタイズ
する時に押出機中で混練させてもよく、更にシート状に
溶融押出しする時に押出機中で分散させてもよいが1重
合能添加が好ましい。
する場合には、その添加時期はポリエステル重合前でも
よく9重合反応中でもよい、又重合終了後、ペレタイズ
する時に押出機中で混練させてもよく、更にシート状に
溶融押出しする時に押出機中で分散させてもよいが1重
合能添加が好ましい。
本発明で用いる不活性無機粒子の平均粒径は0゜1〜5
.0pm (好ましくは0 、3〜3 、0 pm )
である。
.0pm (好ましくは0 、3〜3 、0 pm )
である。
特に磁気記録媒体のメタルパウダー用に用いる場合には
超微細シリカ、微細酸化チタンを用いることが好ましい
。特に好ましくは析出系と添加系の粒子を併用すること
である。
超微細シリカ、微細酸化チタンを用いることが好ましい
。特に好ましくは析出系と添加系の粒子を併用すること
である。
本発明はかかる原料に次に述べる新規な延伸処方を組み
合わせることにより、これまで到達し得なかった平担易
滑性に優れたフィルムを得ることが出来たものである。
合わせることにより、これまで到達し得なかった平担易
滑性に優れたフィルムを得ることが出来たものである。
本発明における新規な延伸処方とは以下の通りである。
すなわち上記のごとく微細で均一な粒子を有するポリエ
ステル樹脂を重合、製造し、チップ化した後、乾燥後実
質的に無定形状態の未延伸フィルムを得る。
ステル樹脂を重合、製造し、チップ化した後、乾燥後実
質的に無定形状態の未延伸フィルムを得る。
該未延伸フィルムを次に縦方向にTg(ガラス転移点)
〜Tm(融点)−100℃の延伸温度で、縦延伸後の複
屈折率Δnが0.035〜0.048となるよう1段階
又は多段階に縦延伸する。このときの縦延伸後の複屈折
率は、縦延伸フィルムの中央部の2mの長さに対し偏光
環の生ずる部分を全て測定し、その平均値で示したもの
である。
〜Tm(融点)−100℃の延伸温度で、縦延伸後の複
屈折率Δnが0.035〜0.048となるよう1段階
又は多段階に縦延伸する。このときの縦延伸後の複屈折
率は、縦延伸フィルムの中央部の2mの長さに対し偏光
環の生ずる部分を全て測定し、その平均値で示したもの
である。
この複屈折率が0.035より低いと横延伸時、横方向
の厚さ斑が極めて悪化し不適である。一方。
の厚さ斑が極めて悪化し不適である。一方。
Δnが0.048より高いと、二軸延伸後の平担易滑性
に劣るため不適である。但しΔnの平均値が0.035
〜0.048を満足する縦延伸フィルムであっても、部
分的にΔnが低い部分が存在すると本発明の目的は達し
得ない、すなわち縦延伸フィルムのΔnはすべての点に
おいて0.030以上を満足することが必須である0部
分的であるにせよΔnが0.030未満の部分が存在す
ると、その部分で横延伸時白化したり破断したりして横
方向の厚み振れの均一性が極めて悪化する。
に劣るため不適である。但しΔnの平均値が0.035
〜0.048を満足する縦延伸フィルムであっても、部
分的にΔnが低い部分が存在すると本発明の目的は達し
得ない、すなわち縦延伸フィルムのΔnはすべての点に
おいて0.030以上を満足することが必須である0部
分的であるにせよΔnが0.030未満の部分が存在す
ると、その部分で横延伸時白化したり破断したりして横
方向の厚み振れの均一性が極めて悪化する。
この為、平均のΔnは好ましくは0.040〜0゜04
8である。
8である。
延伸温度はT g = T m −100℃で延伸すれ
ばよいが、縦延伸後の平均屈折重石を1.5770以上
1.5850以下とすることが必須である。
ばよいが、縦延伸後の平均屈折重石を1.5770以上
1.5850以下とすることが必須である。
この平均屈折率nが1.5770未満、及び1゜585
0を超える場合、テンター法で横延伸する際、縦方向の
厚み斑が急激に悪化し再延伸によっても矯正されないた
め不適である。
0を超える場合、テンター法で横延伸する際、縦方向の
厚み斑が急激に悪化し再延伸によっても矯正されないた
め不適である。
縦延伸の段数は1段階であっても多段階であってもよい
が、1段階で延伸してΔn=0.035〜0.048の
範囲でπを1.5770以上にするのは困難であり、多
段延伸するのが好ましい。
が、1段階で延伸してΔn=0.035〜0.048の
範囲でπを1.5770以上にするのは困難であり、多
段延伸するのが好ましい。
その際、最終段延伸前のΔnを0.015〜0゜035
にするのが縦延伸後の厚さ斑を良くするためには好適で
ある。当然、多段階延伸の中に高温ロールに接触させて
配向緩和処理することも好ましい。
にするのが縦延伸後の厚さ斑を良くするためには好適で
ある。当然、多段階延伸の中に高温ロールに接触させて
配向緩和処理することも好ましい。
このようにして得られた縦延伸フィルムは、次に横延伸
工程に供せられる。横延伸はTm−80℃以下、好まし
くは110℃を超えTm−80℃以下の延伸温度で実質
倍率3.5倍以上で行なわれる。横延伸温度がTm−8
0℃より高いと結晶化が進みすぎ、破断が多発し不適で
ある。横延伸温度が110℃以下となると、二軸延伸後
のフィルムの平担易滑性に問題があり、又、突起を核と
してその周辺に陥没部を有する凹凸が生じないためドロ
ップアウトの原因となる突起を減少させる効果が少なく
、その点で好ましくない。それ故。
工程に供せられる。横延伸はTm−80℃以下、好まし
くは110℃を超えTm−80℃以下の延伸温度で実質
倍率3.5倍以上で行なわれる。横延伸温度がTm−8
0℃より高いと結晶化が進みすぎ、破断が多発し不適で
ある。横延伸温度が110℃以下となると、二軸延伸後
のフィルムの平担易滑性に問題があり、又、突起を核と
してその周辺に陥没部を有する凹凸が生じないためドロ
ップアウトの原因となる突起を減少させる効果が少なく
、その点で好ましくない。それ故。
H2(2次の干渉縞の個数)は10個/ m m 2以
下が好ましい。
下が好ましい。
このようにして得られた横延伸フィルムはTg+10℃
〜Tm−80℃の延伸温度で再度縦方向に延伸する。そ
の際、該再延伸時にロール上で収縮するのを防ぐため再
延伸前に再延伸温度と同等もしくは高めの温度で熱固定
することが好ましい。
〜Tm−80℃の延伸温度で再度縦方向に延伸する。そ
の際、該再延伸時にロール上で収縮するのを防ぐため再
延伸前に再延伸温度と同等もしくは高めの温度で熱固定
することが好ましい。
該再縦延伸フィルムは必要に応じて再横、再々縦延伸す
ることも好ましい、その後必要に応じて熱固定をし、要
求に応じて再延伸倍率を変えることによりバランスから
テンサフィルムまで種々製膜することが出来る。
ることも好ましい、その後必要に応じて熱固定をし、要
求に応じて再延伸倍率を変えることによりバランスから
テンサフィルムまで種々製膜することが出来る。
以上のごとく製造されたフィルムは、従来より電気特性
に優れたハイグレード化された磁気記録体や、純鉄を主
成分として含む磁性層をその表面に塗布したいわゆるメ
タル塗布型の磁気記録体に好適に用いられるが、要求に
応じて磁性金属薄膜を設けたいわゆる蒸着型磁気記録媒
体等の基体フィルムにも好適に用いられる。
に優れたハイグレード化された磁気記録体や、純鉄を主
成分として含む磁性層をその表面に塗布したいわゆるメ
タル塗布型の磁気記録体に好適に用いられるが、要求に
応じて磁性金属薄膜を設けたいわゆる蒸着型磁気記録媒
体等の基体フィルムにも好適に用いられる。
特にメタル塗布型、蒸着型等高密度記録用に用いる場合
には、Ra(中心線平均表面粗さ)は0゜010以下で
あることが必要である。
には、Ra(中心線平均表面粗さ)は0゜010以下で
あることが必要である。
口盆夫庭匠
以下、実施例にてこの発明を具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
なお、本発明で用いる各物性値の測定法は次のとおりで
ある。
ある。
1、屈折率
アツベの屈折計を用いて23℃にてナトリウムD線に対
する測定値である。
する測定値である。
縦延伸フィルムの屈折率はフィルム中央部においてそれ
ぞれ3方向の屈折率を測定した。
ぞれ3方向の屈折率を測定した。
n7:フィルムの長手方向の屈折率
nρ:フィルムの巾方向の屈折率
nベニフィルムの厚み方向の屈折率
ここでE=1/3 (n、A+np +ny )An=
ny −nρ である。
ny −nρ である。
2、中心線平均表面粗さくRa ニアam)小板研究所
社製表面粗さ測定器(SE−3FK)によって次のよう
に求めた。触針の先端半径は2、mm、荷重は30mg
である。フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準
長さL (2,5mm)の部分を抜き取り、この抜き取
り部分の中心線をY軸、縦倍率の方向をY軸として、粗
さ曲線y=f (x)で表わした時1次の式で与えられ
た値をPmで表わす、但し、カットオフ値は80 Pm
−Raは縦方向に5点、横方向に5点の計10点の平
均値を求めた。
社製表面粗さ測定器(SE−3FK)によって次のよう
に求めた。触針の先端半径は2、mm、荷重は30mg
である。フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準
長さL (2,5mm)の部分を抜き取り、この抜き取
り部分の中心線をY軸、縦倍率の方向をY軸として、粗
さ曲線y=f (x)で表わした時1次の式で与えられ
た値をPmで表わす、但し、カットオフ値は80 Pm
−Raは縦方向に5点、横方向に5点の計10点の平
均値を求めた。
3、摩擦係数
固定した硬質クロムメッキ金属ロール(直径6mm、2
S)にフィルムを巻き付き角135°(θ)で接触させ
、53g(Tz)の荷重を一端にかけて1m7’+mの
速度でこれを走行させて他端の抵抗力(T+)を測定し
1次式により第1回走行時の摩擦係数(Pl)を求めた
。
S)にフィルムを巻き付き角135°(θ)で接触させ
、53g(Tz)の荷重を一端にかけて1m7’+mの
速度でこれを走行させて他端の抵抗力(T+)を測定し
1次式により第1回走行時の摩擦係数(Pl)を求めた
。
、 =I10 In (TI/T2)−0,4241
n (T+ 153)繰り返し走行時の評価として
50回同一ビンで走行させ、各回数でのとを求め、その
内最大のとを、1−ユ献とした。
n (T+ 153)繰り返し走行時の評価として
50回同一ビンで走行させ、各回数でのとを求め、その
内最大のとを、1−ユ献とした。
4、ポリエステル中の不溶性粒子量
ポリエステルloogにO−クロルフェノール1、Ol
を加え、120℃で3時間加熱する0次いでベックマン
社製の超遠心機L3−50を用い、30、OOOrpm
で40分間遠心分離を行い、得られた粒子を100℃で
真空乾燥する。該粒子を走査型差動熱量計にて測定した
時、ポリマーに相当する融解ピークが認められる場合に
は、該粒子にO−クロルフェノールを加え加熱冷却後再
び遠心分離操作を行う、融解ピークが認められなくなっ
た時該粒子をポリエステル中の不溶性粒子量とする0通
常、遠心分離操作は2回で足りる。
を加え、120℃で3時間加熱する0次いでベックマン
社製の超遠心機L3−50を用い、30、OOOrpm
で40分間遠心分離を行い、得られた粒子を100℃で
真空乾燥する。該粒子を走査型差動熱量計にて測定した
時、ポリマーに相当する融解ピークが認められる場合に
は、該粒子にO−クロルフェノールを加え加熱冷却後再
び遠心分離操作を行う、融解ピークが認められなくなっ
た時該粒子をポリエステル中の不溶性粒子量とする0通
常、遠心分離操作は2回で足りる。
5、極限粘度((7))
試料200mgをフェノール/テトラクロルエタン=5
0150の混合溶液20m1に加え、約110℃で1時
間加熱溶M後、30℃で測定した26、F、値 1/2インチ幅、チャック間50n+n+長の試料フィ
ルムを東洋ボールドウィン社製テンシロン(UTM −
m)により、20℃、65%RHにて50mm / m
i nで引張り、5%伸張時の荷重を初期の断面積で
割り、lcg/mm2で表わした。
0150の混合溶液20m1に加え、約110℃で1時
間加熱溶M後、30℃で測定した26、F、値 1/2インチ幅、チャック間50n+n+長の試料フィ
ルムを東洋ボールドウィン社製テンシロン(UTM −
m)により、20℃、65%RHにて50mm / m
i nで引張り、5%伸張時の荷重を初期の断面積で
割り、lcg/mm2で表わした。
7、表面粗度
日本光学社XIサーフェイス・フィニツシユ・マイクロ
スコープにより多重干渉法(測定波長0゜54戸)でア
ルミニウム蒸着したフィルム表面の突起を、1次と2次
の干渉縞の数として定量し、1mm2当りの個数で示し
た。
スコープにより多重干渉法(測定波長0゜54戸)でア
ルミニウム蒸着したフィルム表面の突起を、1次と2次
の干渉縞の数として定量し、1mm2当りの個数で示し
た。
H2:2次の干渉縞として観察される突起数8、厚さ斑
安置電気社製連続フィルム厚さ測定器により二軸延伸フ
ィルムの横方向中央部を縦方向に沿って測定し、次式に
より算出した。
ィルムの横方向中央部を縦方向に沿って測定し、次式に
より算出した。
フィルム平均厚さ
X 1. O0%
9、Tg (ガラス転移点)、Tm(融点)パーキンエ
ルマー社WDSCにより測定した。
ルマー社WDSCにより測定した。
・ 1 び比 例1.2.3
(ポリエステルの製造法)
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール
70部及び酢酸リチウム無水塩0.11部と酢酸カルシ
ウムの二本塩0.09部とを反応器にとり加熱昇温する
と共にメタノールを留去させエステル交換反応を行い、
反応開始後約4時間を要して230℃に達せしめ、実質
的にエステル交換反応を終了した。
70部及び酢酸リチウム無水塩0.11部と酢酸カルシ
ウムの二本塩0.09部とを反応器にとり加熱昇温する
と共にメタノールを留去させエステル交換反応を行い、
反応開始後約4時間を要して230℃に達せしめ、実質
的にエステル交換反応を終了した。
次にこのエステル交換反応終了物に予め調製したトリエ
チルホスフェート0.15部、正リン酸0.03部を添
加した0次に重縮合触媒として二酸化アンチモン0.0
4部を添加したのち常法に従って重合した。即ち二酸化
アンチモン添加後100分で温度を280℃、圧力を1
5mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ最終的
に0゜3mmHgとした。4時間後系内を常圧に戻しポ
リマーを吐出せしめチップ化した。このポリマーについ
ての極限粘度は0.65であった。これを原料Aとした
。
チルホスフェート0.15部、正リン酸0.03部を添
加した0次に重縮合触媒として二酸化アンチモン0.0
4部を添加したのち常法に従って重合した。即ち二酸化
アンチモン添加後100分で温度を280℃、圧力を1
5mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ最終的
に0゜3mmHgとした。4時間後系内を常圧に戻しポ
リマーを吐出せしめチップ化した。このポリマーについ
ての極限粘度は0.65であった。これを原料Aとした
。
次に別途このような内部析出粒子をほとんど含まないが
不活性粒子として微細シリカ(MOX80:日本エアロ
ジル社製)を0.3重量%添加して重合チップ化したも
のを原料Bとした。この(’+1)も0.65であった
。
不活性粒子として微細シリカ(MOX80:日本エアロ
ジル社製)を0.3重量%添加して重合チップ化したも
のを原料Bとした。この(’+1)も0.65であった
。
この原料Aと原料Bを8:2の割合で混合し、製膜用原
料とした。
料とした。
(製膜法)
上記ブレンドチップを乾燥後、溶融押出し厚さ100〜
200p(D未延伸フィルム(〔u〕=0゜62)を得
た。このフィルムのTgは70°C,Tmは260℃で
あった。この時の粒子量は0.08重量%であった。こ
のシートを87℃の温度で縦方向に3.7倍延伸し、ひ
き続きテンターに導いて横方向に100℃、3.5倍延
伸したのち200℃で熱固定して10)−のフィルムを
得た(比較例1)。
200p(D未延伸フィルム(〔u〕=0゜62)を得
た。このフィルムのTgは70°C,Tmは260℃で
あった。この時の粒子量は0.08重量%であった。こ
のシートを87℃の温度で縦方向に3.7倍延伸し、ひ
き続きテンターに導いて横方向に100℃、3.5倍延
伸したのち200℃で熱固定して10)−のフィルムを
得た(比較例1)。
一方、未延伸フィルムをまず87℃で縦方向に2.4倍
延伸しΔnを0.045とし1次いで同じく縦方向に1
05℃で1.2倍延伸し縦延伸を終えた。この時のΔn
は0.060であった。この縦延伸フィルムを130℃
、3.9倍延伸し200℃で熱固定して10)、のフィ
ルムを得た(比較例2)。
延伸しΔnを0.045とし1次いで同じく縦方向に1
05℃で1.2倍延伸し縦延伸を終えた。この時のΔn
は0.060であった。この縦延伸フィルムを130℃
、3.9倍延伸し200℃で熱固定して10)、のフィ
ルムを得た(比較例2)。
次に該未延伸フィルムをまず96℃で2.2倍延伸しΔ
n=0.020のフィルムを得、このフィルムを120
℃で3.8倍横延伸し200℃で固定したところ、テン
タークリップ付近が白化し破断が続発した(比較例3)
。
n=0.020のフィルムを得、このフィルムを120
℃で3.8倍横延伸し200℃で固定したところ、テン
タークリップ付近が白化し破断が続発した(比較例3)
。
これに対し、該未延伸フィルムをまず1段目の縦延伸で
87℃で2.0倍延伸しΔnを0.030とし、2段目
で110℃、1.2倍延伸してΔnを0.040、Δn
の最大値と最小値はそれぞれ0.046.0.037で
あった。この縦延伸フィルムを次に130℃、3.9倍
横延伸を行ない、再度縦方向に150℃で1.2倍延伸
しバランスした10Pのフィルムを得た(実施例1)。
87℃で2.0倍延伸しΔnを0.030とし、2段目
で110℃、1.2倍延伸してΔnを0.040、Δn
の最大値と最小値はそれぞれ0.046.0.037で
あった。この縦延伸フィルムを次に130℃、3.9倍
横延伸を行ない、再度縦方向に150℃で1.2倍延伸
しバランスした10Pのフィルムを得た(実施例1)。
得られた二軸延伸フィルムの性質を第1表に示す6実施
例2及び比較例4.5 比較例1のフィルムにおいて200℃で熱固定する前に
縦方向に1.2倍延伸したのち200℃で熱固定して1
0Pのフィルムを得、比較例4とした。
例2及び比較例4.5 比較例1のフィルムにおいて200℃で熱固定する前に
縦方向に1.2倍延伸したのち200℃で熱固定して1
0Pのフィルムを得、比較例4とした。
一方、比較例2のフィルムにおいて比較例4と同様20
0℃で熱固定する前に1.5倍延伸したのち200℃で
熱固定して10とのフィルムを得、比較例5とした。
0℃で熱固定する前に1.5倍延伸したのち200℃で
熱固定して10とのフィルムを得、比較例5とした。
それに対し実施例1の再延伸比を1.2倍から1.7倍
に変える事により10とのフィルムを得、実施例2とし
た。
に変える事により10とのフィルムを得、実施例2とし
た。
得られた二軸延伸フィルムの性質を第2表に示す。
ΩΣとl咀1日1医
以上、記載のとおり、本発明にあっては前記特許請求の
範囲に記載のとおりの構成を採用することにより、厚さ
斑が少なく、平担易滑性に富み、又表面粗度の良好なポ
リエステルフィルムが得られ、磁気記録媒体用基体ポリ
エステルフィルムとしてすぐれたものと言うことができ
る。
範囲に記載のとおりの構成を採用することにより、厚さ
斑が少なく、平担易滑性に富み、又表面粗度の良好なポ
リエステルフィルムが得られ、磁気記録媒体用基体ポリ
エステルフィルムとしてすぐれたものと言うことができ
る。
Claims (2)
- (1)触媒残渣に基づく微細粒子及び/又は不活性無機
粒子をポリエステル中不溶成分として0.001〜1重
量%含有するポリエステル樹脂からなる未延伸フイルム
を縦方向にTg(ガラス転移点)〜Tm(融点)−10
0℃の延伸温度で、縦延伸後の平均の複屈折率Δnが0
.035〜0.048であつて、縦延伸フイルムのΔn
の最大値が0.055以下、最小値が0.030以上、
かつ平均屈折率@n@が1.5770以上1.5850
以下となるよう1段階又は多段階延伸したのち、Tm−
80℃以下の延伸温度で横延伸倍率3.5倍以上横方向
に延伸したフイルムを再度縦方向にTg+10℃〜Tm
−80℃の延伸温度で再延伸し、必要に応じて熱固定す
ることを特徴とする平担易滑性のすぐれたポリエステル
フイルムの製造方法。 - (2)二軸延伸フイルムのRa(中心平均表面粗さ)が
0.010μm以下であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載のポリエステルフイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16928984A JPS6147235A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | ポリエステルフイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16928984A JPS6147235A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | ポリエステルフイルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6147235A true JPS6147235A (ja) | 1986-03-07 |
JPH0371977B2 JPH0371977B2 (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=15883753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16928984A Granted JPS6147235A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | ポリエステルフイルムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6147235A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01241549A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-26 | Toray Ind Inc | 像形成用材料 |
JPH02165413A (ja) * | 1988-12-19 | 1990-06-26 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録テープ用ポリエステルフィルム |
JPH07285173A (ja) * | 1994-04-20 | 1995-10-31 | Toray Ind Inc | 電気絶縁用二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム |
-
1984
- 1984-08-15 JP JP16928984A patent/JPS6147235A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01241549A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-26 | Toray Ind Inc | 像形成用材料 |
JPH02165413A (ja) * | 1988-12-19 | 1990-06-26 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録テープ用ポリエステルフィルム |
JPH07285173A (ja) * | 1994-04-20 | 1995-10-31 | Toray Ind Inc | 電気絶縁用二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0371977B2 (ja) | 1991-11-15 |
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