JPS6144689A - 光情報記憶媒体用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光情報記憶媒体用基板に関する。

〔従来技術〕

従来、基板の成形法としてはインジェクション法、コン
プレッション法およびフォトボリメリゼーション法が知
られている。インジェクション法およびコンプレッショ
ン法は重合度の低いプラスチックを高温高圧で型に流し
込む成形法であって重合度が低いため溶剤に対して侵蝕
されやすく溶剤コーティング法で記録層を形成した場合
プレグルーブまたはプレフォーマットなどのパターンが
（ずれまた金属反射を示す色素層の形成が困難になると
いう欠点がある。また、フォトボリメリゼーション法は
装置が小型ですみ成形品も架橋されて耐溶剤性も高いが
生産性が低くまた１０年以上の保存性を要求される記録
材料への影響も大きいという欠点がある。

〔目　的〕

本発明は上記従来技術に鑑みてなされたものであって、
その目的は従来技術の欠点を解消し耐溶剤性が高（且つ
安価な光情報記憶媒体用基板を提供することにある。

〔構　成〕

本発明の光情報記憶媒体用基板はアクリル酸エステル重
合体またはメタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エ
ステルモノマーまたはメタクリル酸エステルモノマーお
よび光重合開始剤を含む高粘度物質または固形物を成形
し次いで輻射光線を照射して作製される。

次に、本発明の基板を作製する方法を・さらに詳しく説
明する。

まず、アクリル酸エステル重合体またはメタクリル酸エ
ステル重合体にアクリル酸エステルモノマーまたはメタ
クリル酸エステルモノマーを加えてよ（混合する。この
際必要に応じて加熱してもよい。前記モノマーの添加量
は前記重合体１００重量部に対して１〜１００重量部が
適当である。

アクリル酸エステル重合体およびメタクリル酸エステル
重合体として、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸イ酸イソブチル、メタクリル酸
２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリ
ル酸ステアリル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタ
クリル酸ヒト四キシプはピル、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ブ
チル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸２−エチルヘ
キシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリルな
どの重合体または共重合体が用いられる。また、これら
重合体または共重合体中にフマール酸ジメチル、フマー
ルＷｉｔ　０　ブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン
酸ジプチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル
などのジカルボン酸ジエステル類や、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルなどのビニルエステル類、ビニルメチル
エーテル、ビニルエチルエーテル、ヒニルイソフチルｘ
　−テ／ｌ／などのビニルエーテル類、スチレン、０−
メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチ
レン、α−メチルスチレンなどの芳香族単量体、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデンなどの塩素含有単量体、アクリロ
ニトリル、メタクリレートリルなどの含窒素単量体の霊
合物または共重合物を混合してもよいしあるいは、さら
に共重合物として加えてもよい。

またアクリル酸エステルモノマーおよびメタクリル酸エ
ステルモノマーとして例えばモノアクリレート、モノメ
タクリレート、ジアクリレート、ジメタクリレート、ト
リアクリレートおよびトリメタクリレートのモノマーま
たはオリゴマーが用いられる。モノアクリレートおよび
モノメタクリレートの例としてはアルキルアクリレート
、フェニルアクリレート、アルコキシアルキルアクリレ
ート、フェノキシアルキルアクリレートなどやそれに対
応するモノメタクリレートをあげることかできるがその
うちの代表的な例にはエチルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、１−ブチルアクリレート、ヘキシルアク
リレート、ヘプチルアクリレート、オクチルアクリレー
ト、２−エチルへキシルアクリレート、デシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアクリレー
ト、エトキシエチルアクリレートおよびフェノキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
エチルアクリロイル、にスフエート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート、インボルニルアクリレート、ステ
アリルアクリレート、ラウリルアクリレート、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、
ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
ジシクロはンテニールアクリレートおよびそれらに対応
するモノメタクリレートがある。ジアクリレートおよび
ジメタクリレートの代表的な例としては１，３−プロパ
ンジオールジアクリレート、１．３−ブタンジオールジ
アクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、１，１０−デカンジオールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、トリエチレングリコー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコ−；ルジアク
リレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオはメチル
グリコールジアクリレート、ヒドロキシピパリン酸エス
テルネオはメチルグリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパンジアクリレート、ビスオキシエチレン化
ビスフェノールＡジアクリレート、ビスジ（オキシエチ
レン化）ヒスフェノールＡジアクリレート、ビスオキシ
プロピレン化ビスフェノールＡジアクリレート、ヒスシ
（オキシプロピレン化）ビスフェノールＡジアクリレー
ト、３−メチルはンタンジオールジアクリレートおよび
それらに対応するジメタクリレートをあげることができ
る。トリアクリレートおよびトリメタクリレートの代表
的な例としてはトリス（２−ヒドロキシエチル）インシ
アネートおよびそれらに対応するトリメタクリレートを
あげることができる。また、４個以上の官能基をもつも
のとしては例えばジはンタエリスリトールへキサアクリ
レート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、
Ｒンタエリスリトールテトラアクリレートなどをあげる
ことができる。

次に、上述のようにして調製した上記エステル重合体と
上記エステルモノマーとの混合物に光重合開始剤を加え
る。光重合開始剤の添加量は前記エステルモノマー１０
０重量部に対して０．０５〜１０重量部が適当である。

光重合開始剤は上記エステルモノマーと上記エステル重
合体とを混合する前に予めモノマー中に溶かし込んでお
いてもよい。また、光重合開始剤の他に必要に応じてさ
らに増感剤、貯蔵安定剤などの他の添加剤を加えること
もできる。これらの添加剤は予め重合体またはモノマー
中に添加されていてもよい。

光重合開始剤としては従来既知のものを好適に用いるこ
とができるがその代表例をあげれば次のとおりである。

アセトフェノン、２，２−ジェトキシアセトフェノン、
ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミ
ンプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベン
ゾフェノン、ｐ＋１）’−ジクロロベンゾフェノン、ｐ
、ｐ’−ヒスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラー
ケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインインプロ
ピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエー
テル、ベンジルメチルケタール、テトラメチルチワラム
モノサルファイド、チオキサントン、２−クロロチオキ
サントン、２−メチルチオキサントン、アゾビスイソブ
チロニトリル、ベンゾインパーオキサイド、ジーｔｅｒ
ｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−イソプロピル−α−ヒ
ドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシ−イソブ
チルフェノン、ジベンゾスベロン、ジエチルチオキサン
トン。

また、増感剤としてはアミン化合物、尿素化金物、イオ
ウ化合物、ニトリル化合物、リン化合物および窒素化合
物などを用いることができる。これらの増感剤は上記モ
ノマー１００重量部に対して０．０１〜５重量部の範囲
で含有させるのが好ましい。貯蔵安定剤としては第４級
アンモニウムクロライド、ジエチルヒドロキシアミン、
環状アミド、ニトリル化合物、置換尿素、ベンゾチアゾ
ール、４−アミノ−２，２，６，６−チトラメチルビは
リジン、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）セパケート、有機酸、たとえば乳酸
、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、安息香酸、ハイド筒キ
ノンなどを用いることができ、上記モノマー１００重量
部に対して０．０００１〜２重量部の範囲で含有させる
のが好ましい。

次いで、上述のようＫして調製し九アクリル酸エステル
重合体またはメタクリル酸エステル重合体、アクリル酸
エステルモノマーまたはメタクリル酸エステルモノマー
および光重合開始前必要に応じて他の添加剤を含む高粘
度物質または固形物を必要によシ加熱して流動状態にし
て成型した後輻射光線例えば紫外光または可視光を照射
して本発明の光情報記憶媒体用基板を作製する。本発明
における成形法としてコンプレッション法を採用する場
合は流動物の上から型を押しつレナ冷却した後型から取
り除き輻射光を照射する。インジェクション法を採用す
る場合は流動物を高圧で型に流し込み製から取シ出した
後輻射光線を照射する。また、注型法を採用する場合は
流動物を型に流し込んだまま露光する。輻射光線の光源
としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キ
ャノンランプ、メタルハライドランプ、カーボンアーク
、紫外用叶い光灯などが用いられる。

本発明の基板はこの基板上に記録層を設けて光情報記憶
媒体となすことができる。記録層は光情報記憶媒体の記
録材料として一般的に用いられているもので構成される
が、メタリックリフレクションを示す色素層が最も望ま
しくこのような色素としてはトリフェニルメタン系色素
、トリフェニルアミン系色素、ポリメチン系色素、ナフ
トキノンアントラキノン系色素、インダンスレン系色素
、クロコメチン染料、スクオレニウム系色素、キサンチ
ン系色素、ジオキサジン系色素、ピリリウム系色素、フ
タロシアニン系色素、フェノチアジン系色素、インジゴ
系色素、フェナンスレン系色素、シアニン系色素、メロ
シアニン系色素などが挙げられるが、特に半導体レーザ
の発光波長域で吸収、反射を示し、反射率が高いものと
してシアニン系色素またはメロシアニン系色素をあげる
ことができる。

本発明で用いられる色素記録層は、有１機色素例えばシ
アニン系色素を有機溶媒に溶解した溶液を基板上に塗布
することによって形成することができる。有機溶媒とし
ては例えばメタノール、メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、１，２−ジクロロエタンなどを使用で
きる。

塗布はスプレー、ローラーコーティング、ディッピング
およびスピンニングなどの慣用のコーティング法によっ
て行なわれる。

〔実施例〕

以下に比較例とともに実施例を掲げて本発明をさらに説
明するが、本発明はこの実施例によって限定されるもの
ではない。

実施例　１ ポリメチルメタクリレート　　　　　　１００部１．６
−ヘキサンジオールジアクリレート　　　１０部２．２
−ジメトキシフェニルアセトフェノン　０．５部上記成
分を混合した後７０℃に加熱して溶融し流動物を調製し
た。次にこの流動物をラセン状の微細な溝（巾約０．８
μｍ、深さ６００人、ピッチ２μｍ）のスターパーを閉
じて２００℃で射出成型を行なって、厚さ１．２顛、直
径１２０１１１１のディスクを得た。次に、これに高圧
水銀灯（８０Ｗ々）を用いて１ｍの距離で１分間照射し
て基板を作製した。この基板に下記構造式を有する色素
の２．２−ジクロルエタンの０．７％溶溶液ススピンコ
ート法塗布したところ、基板側から平坦部で７９０　ｎ
ｍにおいて２５％の正反射率を得た。

また光学顕微鏡で観察したところ、溝の形状は保存され
ていた。

実施例　２ 実施例Ｉにおいて１，６−ヘキサンジオールジアクリレ
ートの代シＶこトリエチレングリコールジアクリレート
を用いセして２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノ
ンの代シにジエチルチオキサントンを用いた以外には実
施例１と同様にして基板を作製し同様の結果を得た。

実施例　３ 実施例１において１．６−ヘキサンジオールジアクリレ
ートの代シにジペンタエリスリトールトリアクリレート
を用いた以外には実施例１と同様にして基板を作製し同
様の結果を得た。

比較例　１ ポリメチルメタクリレートを２００℃で射出成型を行い
厚さ１．２關、直径１２０１１１１のディスクを得た。

これに上記の色素溶液を同様に塗布したところ、反射率
は４ｍ程度であった。また、微細な溝は全く認められな
かった。

〔効　果〕

本発明によれば、溶剤塗布によっても溝形状を消失する
ことのない、色素のメタリックな反射特性を失うことの
ない、安価なそして光学特性のすぐれた光情報記憶媒体
用基板を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. アクリル酸エステル重合体またはメタクリル酸エステル
   重合体、アクリル酸エステルモノマーまたはメタクリル
   酸エステルモノマーおよび光重合開始剤を含む高粘度物
   質または固形物を成形し次いで輻射光線を照射して作製
   されたことを特徴とする、光情報記憶媒体用基板。