JPS5868252A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　技術分野 この出願の発明は、光記録媒体に関する。

更に詳しくは、記録した情報の消去書替が可能なヒート
モード光記録媒体に関する。

■　従来技術 光記録媒体は、媒体と書込みないし読取ヘッドが非接触
であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特徴をも
ち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行われて
いる。

このような光記録媒体のうち、暗室による画倫処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、レーザー光で媒体の一部を融
解、除去等して、ビットと称される小穴を形成し、この
ビットにより情報を記録するものである。

しかし、従来のヒートモード光記録媒体では、ビットと
して記録された情報の消去ができず、書込み情報を訂正
したり、書替えたりすることができない、あるいは困難
であるという欠点がある。

このような情報を、より具体的に説明するならば、従来
知られているヒートモード光記録媒体の一つとしては、
ニトロセルロースと光吸収剤とからなる記録層をもつも
のがある。

このような媒体に、記録光として、レーザー光を、例え
ば１μ襲φ程度の微少スポットとして照射すると、照射
部分は、短時間のうちに高熱となり、ニトロセルロース
が発火消失し、微少な小穴として、１ビツトの情報が一
記録される。　しかし、このような媒体では記録情報の
消去はできない。

これに対し、テルル、あるいはテルルーセレンーヒ索か
らなる層を記録層とするヒートモード光記録媒体も知ら
れている。　しかし、この場合にも、高融点の半金属類
を融解してビットを形成するた峠、記録されたビットを
復元するのは、きわめて困難である。

さらに、特開昭５５−１６１６９０号公報には、反射基
体上Ｋ、光吸収色素と熱可塑性樹脂とからなる記録層を
有するヒートモード光記録媒体が記載されている。　こ
の媒体は記録層をきわめて薄くし、レーザー光の照射に
より、照射部１分の樹脂を融解して流動移動させるか、
あるいは照射部分の光吸収色素を横方向に移動させるか
して、反射基体を露出させ、ビットを形成するものであ
る。　しかし、この場合にも、一旦移動した光吸収色素
を元に戻し、あるいは−互層底にまで到達した小穴を埋
め戻し、平坦にすることは困難である。　このため、同
公報には、この媒体が、記録情報の消去と書替ができる
旨の開示ないし示唆はな℃ゝＯ これに対し、導電体上にサーモプラスチックを塗布した
媒体を用い、サーモプラスチック層上に電荷を一様に与
え、レーザー光照射により、サーモグラスチックの一部
を融解し、その体積変化によって、電気的吸引力の変化
を生じさせ、これによりレーザー光の照射に対応した表
面の凹凸によるビットを得る記録方式が知られている。

　この方式では、媒体を再加熱することにより、表面の
凹凸は平坦に戻り、記録情報を消去することができるが
、コロナ放電器等を必要とし、書込み装置の機構が複雑
となり、又装置の消費電力も大きくなる等の不都合があ
る。

■　発明の目的 この出願の発明は、このような実状に鑑みなされたもの
である。

この出願の発明の第１の目的は、消去書替が可能なヒー
トモード光記録媒体を提供することにある。

第２の目的は、このような消去可能な光記録媒体におい
て、記録層のビット形成に要する光エネルギーないし温
度に明瞭なＳａＷが現われ、所定入力エネルギー以上で
再現性よく常にビットが形成され、所定値以下のエネル
ギーではビットが形成されず、ピット形成の再現性にバ
ラツキのある入力光エネルギーないし温度の領域が狭く
なるようにし、これと同時に、耐熱性が高（、高温での
保存下でビットに書込まれた情報信号のＳ／Ｎ比の劣化
が少なく、また読み出し光によって、ビットないし、そ
の周辺部の表面が変形せず、書込み情報信号のＳ／Ｎ比
が劣化せず、さらには書込み感度が高く、加えて読み出
しのＳ／Ｎ比がきわめて高い媒体を提供することＫある
。

この出願の発明のその他の目的は、以下の記載から自ず
と明らかになるであろう。

本発明者らは、このような目的につき櫨々検討を行った
ところ、熱可塑性樹脂と光吸収染料ないし顔料を含有さ
せて記録層を形成したとき、熱可塑性樹脂の分子量分布
を所定のものとすると、消去書替が可能な媒体が実現し
、しかも上記第２の目的がより一層有効に達成されるこ
とを見出し、この出願の発明をなすに至ったものである
。

すなわち、この出願の発明は、基体上に、熱可塑性樹脂
と光吸収染料ないし顔料とを含む記録層を形成してなり
、記録光の照射によリ、上記記録層が融解軟化して記録
ビットが形成され、上記記録層に形成された記録ビット
底には、熱可塑性樹脂と光吸収染料ないし顔料とをとも
に含む層が残存し、上記記録ビットが形成された上記記
録層に加熱を行うことにより、上記記録層表面が平坦と
なるように構成してなる光記録媒体において、上記熱可
塑性樹脂の総数の５０％以上が、数平均分子量の±３０
％以内の分子量をもつことを特徴とする光記録媒体であ
る。

■　発明の具体的構成 以下、この出願の発明の具体的構成について詳細に説明
する。

この出願における光記録媒体は、基体上に記録層を設層
してなる。

記録層は、所定の熱可塑性樹脂を含む。

この樹脂は、熱可塑性樹脂として、記録光照射部分の温
度上昇により、軟化ないしＭ％して、変形し、表面に記
録ビットを形成するものである。

この出願の発明において用いる熱可塑性樹脂は、その総
数の５０％以上が、その数平均分子量の±３０％以内の
分子量をもつものである。　これ以上ブロードな分子量
分布をもつときには、後記実験例から明らかになるであ
ろうように、本発明所定の効果は実現しない。　これに
対し、上記所定の分子量分布となるときには、記録層の
ピット形成に要する光エネルギーないし温度の閾値のブ
ロードニングがきわめて少なくなり、また書込み感度や
読み出しのＳ／Ｎ比が向上し、耐熱性が上がり、読み出
し光によるノイズの発生も少なくなる。

なお、本発明において、用いる熱可塑性樹脂が２種以上
あるときには、そのうちの主成分となる樹脂の分子量分
布が上記の分布をもちさえすればよいが、特に、そのす
べてが上記の分布をもつことが好ましい。

一方、用いる熱可塑性樹脂としては、棟々のものであっ
てよいが、このうち、特に好適に用いることができるも
のには、以下のようなものがある。

Ｉ）ポリオレフィン ポリエチレン ボリグロビレン 炭素原子数４〜６のポリオレフィン 例えば、ポリブテン、ポリイソブチン、ポリ４−メチル
ペンテン−１など。

これらの数平均分子量は、３万以下であることが好まし
い。

１１）ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、
エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン−１
共ム合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレ
ンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。　この場合
、コモノマーの重合比は任意のものとすることができる
。　また、数平均分子量は３万以下であることが好まし
い。

ｉ）ポリオレフィンハロゲン化物 例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、ＣＦ２＝ＣＦ２、ＣＦ
２＝・ＣＦＣｔ　、　ＣＨＱ＝ＣＨＦ　、　ＣＨＱ＝　
ＣＦ、、ＣＦ２＝　ＣＦ’ＣＦ５等のホモポリマーない
しコポリマーであるフッ素樹脂、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン、フロピレンとハロゲン化オレフ
ィンとの共重合体など。　この場合、数平均分子量は、
６万以下であることが好ましい。

ｉｖ　）塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エスチルと塩化ビニルとの共重合体、アクリルニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルニーデル共
ｔｆ体、：ｒ−ｙ−レンナいしグロビレンー塩化ビニル
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニル
をグラフト重合したものなど。　この場合、共重合比は
任意のものとすることができるが、数平均分子量は６万
以下であることが好ましい。

■）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共電合体、ｆｆｌ化ビニリ
デン−塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体、塩化ビ
ニリデンーブタジＺ　７−　ハロゲン化ビニル共重合体
ナト。

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
が、数平均分子量は６万以下であることが好ましい。

ｖｉ）ポリスチレン 数平均分子量は、１万以下、竹に３５０〜１０．０００
であることが好ましい。

ｖｉ）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリルニトリル共重合体（Ａｓ樹
脂）、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡＩｔＷ）、スチレン−アクリルエステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体（
ＳＢＲ）、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレ
ン−メチルメタアクリレート共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができるが
、数平均分子量は５万以下であることが好ましい。

ｖｉ）スチロール型重合体 例えば、ｐ−メチルスチロール、α−メチルスチロール
、２．５−ジクロルスチロール、α、β−ビニルナフタ
リン、αビニルピリジン、アセナフテン、ビニルアント
ラセンなど、あるいはこれらの共重合体。　この場合、
数平均分子量は３万以下であることが好ましい。

■）クロマン−インデン樹脂 クロマン−インデンの単独または共重合体。　数平均分
子量は２，０００以下であることが好ましい。

Ｘ）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネ／の重合体であ
るテルペン樹脂やβ−ピネンから得られるピコライト。

　分子量は１、２００以下であることが好ましい。

）ａ）アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。

弐　　　　　　　　Ｒ１ −Ｃ）ｌ−Ｃ− Ｃ−ＯａＱ １ 上記式において、Ｒ□は、水素原子またはアルキル基を
表わし、Ｒ２は、置換または非置換のアルキル基を表わ
す。　この場合、上記式において、Ｒ□は、水素原子ま
たは炭素原子ａ１〜４の低級アルキル基、特に水素原子
またはメチル基であることが好ましい。　また、ＲＱは
、置換、非置換いずれのアルキル基であってもよいが、
アルキル基の炭素原子数は１〜４であることが好ましぐ
、またＲｌＩが置換アルキル基であるときには、アルキ
ル基を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原子または
アミノ基（％にジアルキルアミノ基）であることが好ま
しい。

このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各樵アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の１種または２種以上をくりかえし本位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。

このようなアクリル樹脂の数平均分子量は、１００，０
００以下であることが好ましい。

ｘｉｉ）ポリアクリルニトリル 数平均分子量は７万以下であること′ｂｔ好ましい。

ｘｉｉ）アクリルニトリル共重合体 例えば、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リルニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリルニトリル
−スチレン共重合体、アクリルニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリルニトリル−ビニルピリジン共電合
体、アクリルニトリル、−メタクリル酸メチル共重合体
、アクリルニド１ツルーブタジエン共重合体、アクリル
ニトリル−アクリル酸ブチル共重合体など。　この場合
、共重合比は任意のものとすることができるか、数平均
分子量は６万以下であることが好ましい。

ｘｉｖ）ポリアクリルアミドな（・しターイアセトンア
クリルアミドポリマー ポリアクリルアミドないしアクリルニトリルにアセトン
を作用させたダイア七トンアクリルアミドポリマー。　
この場合、数平均分子量は８万以下であることが好まし
い。

ｘ′ｖ）ポリ酢酸ビニル この場合、数平均分子量は、１０万以下であることが好
ましい。

ｍｌ）酢酸ビニル共重合体 例、ｔ　ハ、アクリル酸エステル、ビニルニーデル、エ
チレン、塩化ビニル等との共重合体など。　共重合比は
任意のものであってよく、数平均分子量は、１０万以下
であることが好ましい。

新）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。　数平均分
子量は５万以ン６．ナイロン６６、ナイロン６１０、ナ
イロン６１２、ナイロン９、ナイロン１１、ナイロン１
２、ナイロン１３等の通常のホモナイロンの他、ナイロ
ン６／６６／６１０、ナイロン５．／６６／１２、ナイ
ロン６／６６／１１等の共重合体や、場合によっては変
性ナイロンであってもよい。

また、このようなポリアミドの数平均分子値は、固体と
して得られるかぎりにおいて、３０，０００以下である
ことが好ましい。

ｘｉｘ）ポリエステル 例工ば、シュウ酸、コノ・り＆、マ、レイン酸、アジピ
ン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイン
フタル酸、テレフタル酸等の芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸ト、エチレングリコール、テトラメチレンゲル
コール、ヘキサスチレングルコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。　そして、これら
のうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリコール類との縮
合物や、グリコール類と８′Ｆｉ肪族二塩基酸と芳香族
二塩基酸との共総合物は、特に好適である。　さらに、
例えば無水フタル酸とグリセリンとの縮合物であるグリ
プタル樹脂を、脂肪酸、天然４！ｇ脂等でエステル化変
性した変性グリグタル樹脂なども好適に使用される。

このようなポリエステルの数平均分子量は、固体として
得られるかぎりにおいて、２０．０００以下であること
が好ましい。

ＸＸ）ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセクー
ル系樹脂 ポリビニルアルコールの他、これをアセタール化して得
られるポリビニルホルマール、ポリビニルアセトアセメ
ール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセクール
系樹脂はいずれも好適に使用される。　この場合、ポリ
ビニルアセクール系樹脂のアセタール化度は任意のもの
とすることができる。

用いるポリビニルアルコールまたはポリビニルアセター
ル系樹脂の数平均分子量は、固体として得られるかぎり
において、ｉｏｏ、ｏｏ。

以下であることが好ましい。

）ｉＸｌ）ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂 特に、グリコール類と、ジイソシアネート類との縮合に
よって得られるポリウレタン樹脂、就中アルキレングリ
コールとアルキレンジイソシアネートとの縮合によって
一層られるポリウレタン樹脂が好適である。

このようなポリウレタン樹脂の数平均分子量は、固体と
して得られるかぎりにおいて、３０，０００以下である
ことが好ましい。

ｘｘｉｉ）含窒累ビニル重合体 例えば、より好ましくは数平均分子量 ６．０００以下のポリビニルカルバゾール、ビニルカル
バソールとエチレン、スチレン等とのポリビニルカルバ
ゾール共重合体、より好ましくは数平均分子量１万以下
のポリビニルピリジン、ポリビニルピロリトント酢酸ビ
ニル等とのポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニル
ピリジンなど。

この場合、数平均分子量は、１万以下であることが好ま
しい。

ｘｘｉ）ジエン系重合体 例えば、ポリ・ブタジェン、ブタジェン−スチレン共重
合体（５ＢＲ）、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、クロログレ
ン系ゴム、イソプレン糸ゴム、イソグレン−イソブチレ
ン共重合体など。　この場合、数平均分子量は５万以下
であることが好ましい。

ｘｘｉｖ）ポリエーテル 例えば、より好ましくは数平均分子蓋１万以下のポリオ
キシメチレン、スチレンポルマリン樹脂、環状アセメー
ルの開環重金物、より好ましくは数平均分子量７万以下
のポリエチレンオササイドおよびグリコール、より好ま
しくは数平均分子量１万以下のポリプロピレンオキサイ
ドおよびグリコール、フロピレンオキサイド−エチレン
オキサイド共重合体、より好ましくは数平均分子［５万
以下のポリフェニレンオキサイド、より好ましくは数平
均分子１１万以下のヒドリンゴム、テトラメチレンオキ
サイド、ポリスチレンオキサイド、より好ましくは数平
均分子ｆ１０万以下の塩基化ポリエーテル樹脂、より好
ましくは数平均分子１１万以下のニドラドドロフラン開
環体、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの縮合
等によって得られる熱可塑性ビスフェノール系エポキシ
ドなど。　これらは、数平均分子量が１０万以下である
ことが好ましい。

蓑）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルエタンカーボネート、ジオキシ
ジフェニルフロバンカーボネート等の各種ポリカーボネ
ート。　この場合、数平均分子量は２万以下であること
が好ましい。

ｘｍ）ポリエチレンイミン類 この場合、数平均分子量は１０万以下であることが好ま
しい。

−）上記ｉ）〜ＷＯの２株以上のブレンド体、またはそ
の他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。　この場合、数平
均分子量は、概ね約１０万以下であることが好ましい。

このような各種樹脂の数平均分子量が、それぞれ上に記
した値以下となると、上記の閾値のブロードニングがよ
り一層少なくなり、また書込み感度および読み出しのＳ
／Ｎ比ともより一層高くなる。

このような各種樹脂は、通常の公知の方法で製造され、
これを分子量分別して用いる。

あるいは市販のものを分別して用いてもよい。

一方、記録層には、このような熱可塑性樹脂とともに、
光吸収染料ないし顔料が含有される。

この光吸収染料ないし顔料は、記録光に対して、大きな
光吸収率を示し、照射部における温度上昇な０工能にす
るためのものである。

従って、記録光の波長に応じ、４００〜８００　ｎｍの
波長光を吸収する、種々の公知の染料や、カーポンプフ
ックや、レーキ顔料等の櫨々の公知の無機ないし有機顔
料等を用いることができる。

他方、記録層中に含有される熱可塑性樹脂と、光吸収染
料ないし顔料との含有量比は、樹脂１重量部に対し、一
般に、０．００２〜１０重一部程度の範囲内で広範囲に
選択する。ことができる。

このような記録層は、スピンナー、コーター等の公知の
種々の方法で基体上に塗布設層される。　そして、一般
に、０．０５μ常〜１■の厚さとされる。

なお、このような記録層中には、上記の熱可塑性樹脂と
光吸収染料ないし顔料以外に、他の添加物が富有されて
いてもよい。

このような添加物の１例としては、各棟オリゴマーない
しポリマーがある。　この場合、ポリマーないしオリゴ
マーは、熱可塑性樹脂に対し、概ね３０重量％以下の範
囲で含有させ、支持体との接着性を向上させたり、塗布
性を向上させたり、軟化温度を変化させたりすることが
できる。

この他、各糧可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、
難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、安定剤、分散剤等
を含有させることができる。

これに対し、このような記録層を設層支持する基体につ
いては特に限定されるものではなく、その材質としては
種々のものを用いることができる。　ただ、熱伝導度の
点では、通常、各種ガラス、各穐セラミクス、あるいは
ポリメタクリル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフ
タレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹
脂等の各種樹脂等を用いることが好ましい。　又、形状
や寸法は、用いる用途に応じ、ディスク、テープ、ベル
ト、ドラム等積々のものとすることができる。

この場合、この出願の媒体は、このような基体の一面上
に上記の記録層を有するものであってもよ（、その両面
に記録層を有するものであってもよい。　又、基体の一
面上に記録層を塗設したものを２つ用い、それらを記録
層が向かいあうようにして、所定の間隙をもって対向さ
せ、それを密閉したりして、ホコリやキズがつかないよ
うにすること、もできる。

なお、上記した媒体には、必要に応じ金属製の反射層や
各糧樹脂層等の下引層を設け、この下引層上に記録層を
設層することもできる。

このように構成される、この出願の光記録媒体を用いて
、情報の書込みおよび消去を行うには以下のようにして
行えばよい。

まず、記録光照射を行う。　記録光は、各＜ＭＡ　Ｖ−
ザー、例えばＨｅ　−Ｎｅ　、　Ｈｅ　−Ｃｄ　、　Ａ
ｒ。

半導体等の４００〜ｆ３５　Ｑ　ｎｍ程度の波長の各種
レーザーを集光して行い、その出力も撞々のものを用い
ることができる。　又レーザー光の走査条件、パルス巾
、集光条件等も種々広範に変更可能である。

そして、このようなレーザーによる記録光照射により、
記録層中の熱可塑性樹脂が融解軟化して、照射部分には
、記録層表面に照射光に対応する微少記録ビットが形成
される。

この場合、通常の記鍮光照射条件にて、記録ビットは記
録層の層底にまでは到達せず、ビット底には、熱可塑性
樹脂と光吸収染料ないし顔料を含む層が残存することに
なる。

このようにして、ビットが形成される結果、後述の消去
が可能となるものである。　そして、この出願の媒体で
は、き′わめて感度よく、しかも良好な形状のビットが
得られる。　またビット形成に要する記録光エネルギー
の１値のブロードニングもきわめて少ない。　さらに１
高温下にて保存しても、ビットからのｄみ出し光のＳ／
Ｎ比の劣化はきわめて少ない。

一方、このように形成されるビットから、媒体上に彎込
まれた情報を読み出すには、記録光より低パワーの読み
出しレーザー光を用い、これを集光し、走査して、透過
光または反射光のいずれかの出力を検出する。

このとき、上記したように、この出願の媒体に形成され
たビットは、形状が良好であり。

読み出しに際し、高いＳ／Ｎ比が得ら熟る。

また、読み出し光によって、媒体に記録された情報のＳ
／Ｎ比が劣化したり、ビット部以外の領域に不必要情報
が記録されるようなこともない。

他方、このようにして記録された情報を消去するには、
媒体を再加熱すればよい。　このとき一旦記録されて凹
凸状ビットとなっていた表面は、再融解して平坦に戻る
。　消去のための加熱としては、レーザー光照射、各櫨
ヒーター加熱、赤外線ランプ照射等いずれを用いてもよ
い。

そして、このような消去と舎゛込みを繰返したとき、書
込み感度は常圧良好で、ビットは常に良好な形状を示し
、Ｓ／Ｎ比の高い読み取りが行われ、さらに読み取りに
よって、Ｓ／Ｎ比は劣化せず、又消去により、表面は常
に平坦に戻るので、消去の繰返し回数が多くなっても、
消去と書込みとを、常に確実かつ良好に行うことができ
る。

Ｖ　発明の具体的効果 この出願の光記碌媒体によれば、一旦膚込まれた情報を
容易かつ確実に消去することができる。

また、記録層のビット形成に費する光エネルギーない′
し温度の間僅のブロードニングはきわめて少なく、ビッ
ト形成の再現性のバランく入力光エネルギーないし温度
の領域は、きわめて狭い範囲となる。この結果、閾値エ
ネルギーを照射する際、雰囲気温度が変化してもＳ／Ｎ
比の変化はきわめて少ない。

さらに、耐熱性が高く、５０〜６０℃程度以上の高温に
保存されても、ビットに記録された情報信号のＳ／Ｎ比
の劣化はきわめて少ないＯ また、読み出し光による、ビット形状変化や、ビット周
辺の形状変化はきわめて少な（、読み出し光によるＳ／
Ｎ比劣化はきわめて少ない。

加えて、書込み感度は良好であり、また、読み出しに透
過光を用いても反射光を用いても、縄いＳ／Ｎ比が得ら
れる。

さらに、消去は常に安定に行われるので、消去書替を繰
返し多数回行っても、十分安定な情報書込みができる。

本発明者らは、本発明の効果を確認するため櫨々実験を
行った。　以下にそのうちの１例を示す。

実験例１ 熱可塑性樹脂として、ε−カプロラクタムの一環重合を
行い、分子量分別して、数平均分子量１０，０００のナ
イロン６を得た。　この際、分子鴬分布を変え、総数の
５０％が数平均分子量の±２５％以内にあるものと、ｌ
Ｗ数の５０％が数平均分子量の±５０％以内にあるもの
との２種のナイロン６を得た。

この２種のナイロン６と、レーキ顔料（Ｃ０Ｉ　、Ｐｉ
ｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１　、　力５−インデックス番
号４２５９５−１．１ｋｅ；　ＢＡＳＦ社製Ｆａｎａｌ
　Ｂｌｕｅ　Ｂ　５ｕｐｒａ；以下ＯＰと略称）とを、
重量比３：ＩＫて混合し、サンドグラインドミルにて分
散した後、フィルターで０．５μ愼以上の粒子を除去し
、バーコードにより、１５０ｍφ、１．２ｍ厚のノ（イ
レツクスガラス板上に３０μ暢厚および１μ鵠厚にて塗
布設層して、この出願の発明および比較用の媒体を得た
。

これら２種の媒体のうち、３０μ琳應の記録層をもつも
のにつき、記録層表面の変形と温度との関係を測定した
。すなわち、媒体を恒温槽に入れ、記録層表面に０．６
４＋ａφ、５０２の針棒を載置し、温度を５℃／分にて
昇温させながら、封体の層内への侵入度との関係を測定
した。　そして、封体が層内に侵入しはじめてから、一
定侵入深さにまで到達するまでの温度中を測定し、ピッ
ト形成闇値のブロードユングを評価した。　結果を下記
表１に示す。

これとは別に、２種の媒体につき、１μ謁厚の記録層を
もつものにつき、以下の実験を行った。

まず、１０ｍＷノＨｅ−Ｎｅ　ｖ−サーを、ＡＮ（開口
数）０．５５．４０倍の対物レンズも１μ愼に集光し、
パルス照射した。パルス巾を変更し、記録層表面にピッ
トが形成されるパルス巾を測定し、書込み感度の逆数（
μｓｅｃ　）とした。　結果を表１に示す。

次に、上記レーザーのパルス巾を０．５μｓｅｃに固定
し、誓込みを行い、次いでｌ　ｍＷのＨｅ−Ｎｅレーザ
ーを、上記と同じ光学系にて１μ爲φに集光し、１μｓ
ｅｃ、＜つかえし周波数１０Ｈｚにて照射し、その反射
光を７オトダイオードで検出し、Ｓ／Ｎ比を算出した。

　この場合、アンプ系は、ｌ　Ｑ　ＭＨｚ帝域のものを
用い、また、ノイズはＲＭＳ値（実効値）を用いた。　
結果を表ＩＫ示す。

さらに雰囲気温度を室温から３０℃あげ・て、上記書込
み感度の逆数のパルス巾の照射光の照射を行い、その際
のＳ／Ｎ比の変化を観察し、４段階評可した。　結果を
表１に示す。

表中◎は全く変化なし、○はほとんど変化なし、△は変
化あり、またＸは大きく変化を表わす。

また、各媒体を６０℃にて１００時間保存し、その後の
Ｓ／Ｎ比の劣化（％）を測一定した。　結果を表１に示
す。

録層表面にピットが形成されるに至る周波数を測定した
。　結果を表１に示す。

表１に示される結果から、本発明によれば、きわめてす
ぐれた特性が示されることがわかる。

実験例２ 実験例１における媒体において、ナイロン６の数平均分
子量を５，０００．１０，０００．４０，０００Ｋかえ
、また、その分子量分布を表１に示されるようにかえ、
さらに、有機顔料（ＯＰ）を、銅−７タロシアニン系染
料のオレオゾールファーストブルーＥＬ（住友化学工業
株式会社製、Ｄと略称）、１３μ鶴カーボンブラツク（
ＣＢと略称）、Ｎｉ超微粉（ＩＱｎｍ、真空冶金株式会
社製、Ｎｉと略称）にかえ、各種媒体を作製し、実験例
１と同様の実験を行った。

結果を表２に示す。

表２の結果から、この出願の発明の媒体はいずれもすぐ
れた特性を示すことがわかる。

実験例３ 下記表３に示されるような各種媒体を作製して、同表に
示される結果を得た。

なお、ナイロン６６は、東し株式会社製、アミランＣＭ
３００１Ｎ、ナイロン１２はダイセル社製、ダイアミド
Ｌ１８０１、ナイロン６１０は、東し製、アミランＣＭ
２００１、ナイロン６／６６／１２は、ダイセル製Ｘ！
８７４を、それぞれ分子量分別して用いた。

表３に示される結果から、この出願の発明の媒体はいず
れもすぐれた特性を示すことがわかる。

実験例４ 樹脂として、表４に示されるような分子量および分布を
もつポリスチレンを用い、同表に示される結果を得た。

表４に示される結果から、この出願の媒体はいずれもす
ぐれた特性を示すことがわかる。

なお、このような効果は、染料ないし顔料として、半導
体レーザー用等のものを用いても同様に実現することが
確認゛されている。

また、このような本発明における樹脂の分子量分布範囲
によってもたらされるすぐれた効果は、他の樹脂でも同
様忙実現することが確認されている。

代理人　弁理士　　石　井　陽　− ２０９−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基体上に、熱可塑性樹脂と光吸収染料ないし顔料とを含
   む記録層を形成してなり、記録光の照射により、上記記
   録層が融解軟化して記録ビットが形成され、上記記録層
   に形成された上記記録ビット底には、熱可塑性、樹脂と
   光吸収染料ないし顔料とをともに含む層が残存し、上記
   記録ビットが形成された上記記録層に加熱を行うことに
   より、上記記録層表面が平坦となるように構成してなる
   光記録媒体において、　上記熱可塑性樹脂の総数の５０
   ％以上が、数平均分子量の±３０％以内の分子−量をも
   つことを特徴とする光記録媒体。