JPS6143768B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は磁気ヘツドに関するものである。 従来の磁気ヘツドは、第１図に示すように、ス
ペーサ１を介してコア材２，３より構成され、そ
れらの磁気記録媒体摺接面４が凸面状に形成され
ている。しかし、このような従来の磁気ヘツド
は、磁気記録媒体の摺接による磁気記録媒体摺接
面４の摩耗が速く、スペーサ１が構成する磁気ギ
ヤツプ部が消減し、その寿命を短くしていた。 したがつて、この発明の目的は、耐摩耗性を向
上して長寿命化を図ることができる磁気ヘツドを
提供することである。 この発明の実施態様を第２図および第３図に示
す。すなわち、この磁気ヘツドは、磁気記録媒体
摺接面４の磁気ギヤツプ部を除く部分に接着剤層
５ａおよび耐摩耗性材料層５ｂを交互に複数積層
してなる耐摩耗性被膜５を形成したものである。
この場合、耐摩耗性被膜５の厚さは、磁気記録媒
体摺接面４の磁気ギヤツプ部から両側方向に向か
うにつれて漸増している。 このように、この磁気ヘツドは、磁気記録媒体
摺接部４の磁気ギヤツプ部を除く部分に耐摩耗性
被膜５を形成したため、耐摩耗性が向上して長寿
命化が達成できる。また、磁気記録媒体摺接面４
に接着剤層５ａを介して耐摩耗性材料層５ｂを積
層したため、耐摩耗性材料層５ｂの磁気記録媒体
摺接面４に対する接着力が実用上問題のない程度
にまで強くなり、厚い膜を形成しても剥離しにく
くなる。さらに、接着剤層５ａと耐摩耗性材料層
５ｂを交互に複数積層したので、各耐摩耗性材料
層５ｂを薄くでき、その結果、耐摩耗性材料層５
ｂ自身の内部応力による剥離も避けることがで
き、しかも耐摩耗性材料層５ｂの厚さを全体とし
て厚くできるので、より一層耐摩耗性を向上させ
ることができ、長寿命化を達成できる。さらに、
また、磁気記録媒体摺接面４に接着剤層５ａおよ
び耐摩耗性材料層５ｂを交互に積層しているた
め、コア材２，３の性質、たとえば熱膨張係数が
耐摩耗性材料層５ｂの熱膨張係数が大きく異つて
従来例では被膜形成の困難な場合でも接着剤層５
ａの材質を選択することに被膜形成が可能とな
り、耐摩耗性材料層５ｂの材質の選択の自由度が
大きくなる。また、耐摩耗性被膜５の厚さを磁気
記録媒体摺接面４の磁気ギヤツプ部から両側方向
へ向かうにつれて漸増させたため、磁気ギヤツプ
部の研摩処理を行うことなく実用上十分な磁気特
性を得ることができ、かつ、磁気記録媒体の走行
による目づまりも少く磁気記録媒体の損傷を少く
できる。 以上のように、この発明の磁気ヘツドは、コア
と、このコアの磁気記録媒体摺接面の磁気ギヤツ
プ部を除く部分に形成されて複数の接着剤層およ
び複数の耐摩耗性材料層を交互に積層してなる耐
摩耗性被膜とを備えているので、磁気特性を損う
ことなく耐摩耗性を向上させて長寿命化を達成す
ることができ、しかも耐摩耗性被膜の接着強度を
大きくできるという効果がある。 つぎに実施例について説明する。 実施例 １：ホツトプレートフエライトよりなる
コア材２，３の磁気記録媒体摺接面４に高周波ス
パツタリング法により、まず、アルゴンと酸素の
混合ガス（酸素10〜50％）の雰囲気中で厚さ100
〜1000Å程度の硼珪酸ガラスのターゲツト接着剤
層５ａを形成し、つづいてアルゴンガス雰囲気中
でスパツタリング法により厚さ20μｍ程度のシリ
コンカーバイドのターゲツト（耐摩耗性材料層５
ｂ）を形成し、これを繰返してそれぞれ２〜４層
に積層して磁気ヘツドを作成した。なお、コア材
２，３が異常高温（150〜200℃以上）に上昇した
場合にシリコンカーバイド層が剥離する場合があ
つたが、シリコンカーバイド層の厚さを５〜10μ
ｍにすると剥離は全く解消し、被膜形成における
歩留りが大きく向上した。 このようにして作成した磁気ヘツドと従来の磁
気ヘツドの摩耗試験を温度30℃、湿度80％の環境
において実際に磁気記録媒体を80時間走行させて
行つた。なお、この実験においては従来例および
実施例をそれぞれ５個について調べ、平均をとつ
た。実施例の摩耗量はそれぞれ1.0，1.0，1.0，
1.0，1.0として平均値が1.0としたときに従来例の
摩耗量がそれぞれ1.9，2.0，1.5，1.6，1.8となつ
て平均値が1.76となつた。例えば摩耗量の比が実
施例と従来例とで1.0対2.0である場合、実施例が
厚さ２μｍ摩耗する間に従来例が厚さ４μｍ摩耗
したことになる。このように、実施例のものが従
来例に比較して耐摩耗性が向上し、平均1.76倍寿
命が延びることがわかつた。また、最低寿命が２
倍以上にも向上させることができた。この最低寿
命が２倍以上延びたとは、例えば厚さ10μｍ摩耗
した時間を寿命と仮定し、従来例が厚さ10μｍ摩
耗するのに例えば50時間要したとすると、実施例
では100時間以上必要とするということを意味す
る。さらに、摩耗量のばらつきも実施例の方が従
来例と比較して減少していることがわかつた。さ
らにまた、コア材２，３の磁気記録媒体摺接面４
に耐摩耗性被膜５を形成したことによる磁気特性
の劣化を生じず、しかも実験中の経時変化も実用
上問題がない程度であつた。 以下の実施例は、次表に示すとおりで、接着剤
層５ａおよび耐摩耗性材料層５ｂの材質が実施例
１と異なり、耐摩耗性被膜５の厚さが約20μｍ程
度となつている。

【表】

【表】 ただし、実施例におけるガラスとは、硼珪酸ガ
ラス、鉛ガラス、ソーダガラスおよび石英ガラス
などを含む総称である。 なお、上述の実施例ではコア材２，３として比
較的耐摩耗性の優れた多結晶フエライトを用いた
ものについて説明しているが、耐摩耗性が劣るセ
ンダストおよびパーマロイをコア材として用いた
磁気ヘツドにこの発明を適用しても耐摩耗性が十
分向上することは明白である。さらに、磁気抵抗
効果素子を用いた磁気ヘツドに適用しても十分な
効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の磁気ヘツドの平面図、第２図は
この発明の実施態様の平面図、第３図はその要部
断面図である。 ２，３……コア材、４……磁気記録媒体摺接
部、５……耐摩耗性被膜、５ａ……接着剤層、５
ｂ……耐摩耗性材料層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ コアと、このコアの磁気記録媒体摺接面の磁
   気ギヤツプ部を除く部分に形成されて複数の接着
   剤層および複数の耐摩耗性材料層を交互に積層し
   てなる耐摩耗性被膜とを備えた磁気ヘツド。 ２ 前記耐摩耗性材料層がボロンカーバイド、シ
   リコンカーバイド、チタンカーバイド、タングス
   テンカーバイド、タンタルターバイド、ニオブカ
   ーバイド、ジルコンカーバイドなどの炭化物、ア
   ルミナ、チタニア、ジルコニア、コランダムなど
   の酸化物および窒化チタン、窒化ボロン、窒化タ
   ンタル、窒化ジルコンなどの窒化物の少なくとも
   一種の材料からなる特許請求の範囲第１項記載の
   磁気ヘツド。 ３ 前記接着剤層がアルミナ、チタニア、ジルコ
   ニア、シリコンオキサイド、ボロンオキサイドな
   どの金属酸化物の少なくとも一種の材料からなる
   特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘツド。 ４ 前記接着剤層がガラス材からなる特許請求の
   範囲第１項記載の磁気ヘツド。 ５ 前記耐摩耗性被膜の厚さが前記磁気記録媒体
   摺接面の磁気ギヤツプ部から両側方向へ向かうに
   つれて漸増している特許請求の範囲第１項記載の
   磁気ヘツド。