JPS6139560A - リ−ド取付け方法 - Google Patents
リ−ド取付け方法Info
- Publication number
- JPS6139560A JPS6139560A JP16015284A JP16015284A JPS6139560A JP S6139560 A JPS6139560 A JP S6139560A JP 16015284 A JP16015284 A JP 16015284A JP 16015284 A JP16015284 A JP 16015284A JP S6139560 A JPS6139560 A JP S6139560A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- nickel
- coated film
- silver solder
- leads
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H10W90/701—
-
- H10W70/457—
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体用セラミックパッケージのリード取付
は方法に関する。
は方法に関する。
第2図は、従来の半導体用セラミックパッケージのリー
ド取付は方法を説明するための断面図である。、二の図
において、■はセラミック基板であり、2はニッケルメ
ッキ3を施されたメタライズ面である。6はFe(鉄)
−Niにニッケル)合金またはFc−N1−Go(コバ
ルト)合金のリードである。
ド取付は方法を説明するための断面図である。、二の図
において、■はセラミック基板であり、2はニッケルメ
ッキ3を施されたメタライズ面である。6はFe(鉄)
−Niにニッケル)合金またはFc−N1−Go(コバ
ルト)合金のリードである。
従来は一般に、銀ロウ材4.即ちCu(Ii4) −A
g(銀)共晶合金を用いて、セラミック基板lのメタラ
イズ面2にリード6をロウ付けすることにより、リード
6をセラミック基板1に取り付けている。
g(銀)共晶合金を用いて、セラミック基板lのメタラ
イズ面2にリード6をロウ付けすることにより、リード
6をセラミック基板1に取り付けている。
さて、上記リード6の材質は、その粒界に銀ロウが拡散
しやすい。そのため、リード6をロウ付けする際に、銀
ロウ材4がリード6中に拡散し。
しやすい。そのため、リード6をロウ付けする際に、銀
ロウ材4がリード6中に拡散し。
リード6の強度劣化を招くことが知°られている。
この強度劣化は、リード6が微細化するに従い無視でき
な(なりつNある。特に、リード6の厚さが薄くなると
、拡散面積が大きくなり、拡散深さは一定であるから、
リード6の強度劣化は顕著になる。
な(なりつNある。特に、リード6の厚さが薄くなると
、拡散面積が大きくなり、拡散深さは一定であるから、
リード6の強度劣化は顕著になる。
この問題に対処するために、リードやロウ材の材質を工
夫することが考えられるが、そのような目的に合致し、
かつその他の条件が満たす実用的な材質は未だ得られて
いない。
夫することが考えられるが、そのような目的に合致し、
かつその他の条件が満たす実用的な材質は未だ得られて
いない。
なお1文献「エレクトロニクス実装技術便覧」(日本マ
イクロエレクトロニクス協会編)の284ページで、コ
バールのリードをロウ付けする際に、リードに銀ロウの
粒界浸透による亀裂が生じることを言及している。しか
し、その対策には触れていない。
イクロエレクトロニクス協会編)の284ページで、コ
バールのリードをロウ付けする際に、リードに銀ロウの
粒界浸透による亀裂が生じることを言及している。しか
し、その対策には触れていない。
本発明の目的は、上述の銀ロウ材の拡散によるリードの
強度劣化を防止できるリード取付は方法を提供すること
にある。
強度劣化を防止できるリード取付は方法を提供すること
にある。
本発明は、ロウ付けに先立って、リードの少なくとも銀
ロウ材で濡れる部分にニッケルを主体とした被膜を形成
し、この被膜により、ロウ付は時のリードへの銀ロウ材
の拡散を防止することを特徴とするものである。
ロウ材で濡れる部分にニッケルを主体とした被膜を形成
し、この被膜により、ロウ付は時のリードへの銀ロウ材
の拡散を防止することを特徴とするものである。
第1図の断面図を参照して1本発明の一実施例につき説
明する。
明する。
第1図において、11はセラミック基板であり。
12はニッケルメッキ13を施されたメタライズ面であ
る。16はFe−Ni合金またはFe−Ni−Co合金
のリードであり、その厚さは0.15μmである。
る。16はFe−Ni合金またはFe−Ni−Co合金
のリードであり、その厚さは0.15μmである。
リード16は、銀ロウ材14により、セラミック基板1
1のメタライズ面12にロウ付けされるが、その日つ付
けに先立って、リード16の少なくとも銀ロウ材16で
濡れる部分に、メッキ法によりニッケルの被膜15が形
成されている。この被膜15の厚さは0.5μmである
。
1のメタライズ面12にロウ付けされるが、その日つ付
けに先立って、リード16の少なくとも銀ロウ材16で
濡れる部分に、メッキ法によりニッケルの被膜15が形
成されている。この被膜15の厚さは0.5μmである
。
本実、施例によれば、850℃でリード16をロウ付け
しても、リード16の破断は生じなかった。
しても、リード16の破断は生じなかった。
一方、被膜15を形成しないで同様条件でロウ付けした
場合、リード16の破断が発生した。このこ−とは、被
膜15によりロウ材14のリード−16−への拡散を十
分防止できることを示している。
場合、リード16の破断が発生した。このこ−とは、被
膜15によりロウ材14のリード−16−への拡散を十
分防止できることを示している。
なお、被膜15はメッキ法以外の蒸着法、クラッド法、
ディップ法等で形成してもよい、また。
ディップ法等で形成してもよい、また。
被膜15の材質は、ニッケルの他に燐または硼素等を1
5%程度まで含んでいても一般に差し仕えない。十分な
銀ロウ材拡散防止効果を得るには。
5%程度まで含んでいても一般に差し仕えない。十分な
銀ロウ材拡散防止効果を得るには。
一般に被膜15の厚さを0.5μm以上とするとよい。
以上の説明から明らかなように1本発明によれば、銀ロ
ウ材のリードへの拡散と、それによるリードの強度劣化
を防止でき、しかも在来のリードにニッケル被膜を形成
するだけであるから、リード取付はコストは格別上昇し
ない等の効果を得られる。
ウ材のリードへの拡散と、それによるリードの強度劣化
を防止でき、しかも在来のリードにニッケル被膜を形成
するだけであるから、リード取付はコストは格別上昇し
ない等の効果を得られる。
第1図は本発明の一実施例を説明するための断面図、第
2図は従来のリード取付は方法を説明するための断面図
である。 11・・・セラミック基板、 12・・・メタライ
ズ面。 14・・・銀ロウ材、 15・・・被膜、 1G・
・す・−ド。 第1図
2図は従来のリード取付は方法を説明するための断面図
である。 11・・・セラミック基板、 12・・・メタライ
ズ面。 14・・・銀ロウ材、 15・・・被膜、 1G・
・す・−ド。 第1図
Claims (1)
- (1)銀ロウ材を用いて、リードをセラミック基板にロ
ウ付けするリード取付け方法において、ロウ付けに先立
ってリードの少なくとも銀ロウ材で濡れる部分にニッケ
ルを主体とした被膜を形成しておくことを特徴とするリ
ード取付け方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16015284A JPS6139560A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | リ−ド取付け方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16015284A JPS6139560A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | リ−ド取付け方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139560A true JPS6139560A (ja) | 1986-02-25 |
| JPH038114B2 JPH038114B2 (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=15708997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16015284A Granted JPS6139560A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | リ−ド取付け方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139560A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0698604A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Tokai Gokin Kogyo Kk | 芝生管理機のエアレーション用タイン |
| CN107481989A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-12-15 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种高弯曲疲劳强度陶瓷封装外引线及制备方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4727760U (ja) * | 1971-04-17 | 1972-11-29 | ||
| JPS4923578A (ja) * | 1972-06-22 | 1974-03-02 | ||
| JPS5066573U (ja) * | 1973-10-19 | 1975-06-14 | ||
| JPS52117066A (en) * | 1976-03-27 | 1977-10-01 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
| JPS5611807A (en) * | 1979-07-10 | 1981-02-05 | Nippon Mining Co | Ironnbase alloy for lead wire material |
| JPS58123744A (ja) * | 1982-01-18 | 1983-07-23 | Fujitsu Ltd | リ−ドフレ−ム及び半導体装置の製造方法 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP16015284A patent/JPS6139560A/ja active Granted
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4727760U (ja) * | 1971-04-17 | 1972-11-29 | ||
| JPS4923578A (ja) * | 1972-06-22 | 1974-03-02 | ||
| JPS5066573U (ja) * | 1973-10-19 | 1975-06-14 | ||
| JPS52117066A (en) * | 1976-03-27 | 1977-10-01 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
| JPS5611807A (en) * | 1979-07-10 | 1981-02-05 | Nippon Mining Co | Ironnbase alloy for lead wire material |
| JPS58123744A (ja) * | 1982-01-18 | 1983-07-23 | Fujitsu Ltd | リ−ドフレ−ム及び半導体装置の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0698604A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Tokai Gokin Kogyo Kk | 芝生管理機のエアレーション用タイン |
| CN107481989A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-12-15 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种高弯曲疲劳强度陶瓷封装外引线及制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH038114B2 (ja) | 1991-02-05 |
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