JPS6136943A - 試料搬送装置 - Google Patents
試料搬送装置Info
- Publication number
- JPS6136943A JPS6136943A JP15752084A JP15752084A JPS6136943A JP S6136943 A JPS6136943 A JP S6136943A JP 15752084 A JP15752084 A JP 15752084A JP 15752084 A JP15752084 A JP 15752084A JP S6136943 A JPS6136943 A JP S6136943A
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- JP
- Japan
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- sample
- cassette
- turning
- vacuum chamber
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- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、試料搬送装置に係り、特に試料を減圧下で処
理する装置に好適な試料搬送装置に関するものである。
理する装置に好適な試料搬送装置に関するものである。
試料を減圧下で処理する装置、例えば、プラズマエツチ
ング装置、プラズマＣＶＤ装置等のプラズマ処理装置に
採用されている試料搬送装置としては、例えば、特開昭
５７−１５７５３６４＋公報に記載のような１回転する
２本のゴムベルトに試料を載１し搬送するものが知られ
ている。
ング装置、プラズマＣＶＤ装置等のプラズマ処理装置に
採用されている試料搬送装置としては、例えば、特開昭
５７−１５７５３６４＋公報に記載のような１回転する
２本のゴムベルトに試料を載１し搬送するものが知られ
ている。
このような試料搬送装置では、試料と回転するベルトと
の摺動により試料の処理品質に悪影響を及ぼす塵埃が多
く発生するという問題がある。
の摺動により試料の処理品質に悪影響を及ぼす塵埃が多
く発生するという問題がある。
このような問題を解決できる試料搬送装置としては、米
国特許第４２０８１５９号明細書に記載のような、試料
を真空吸着するヘッドと二のヘッドが設けられると共に
回動駆動されるアームとで構成され、ヘッドに吸着され
た試料をカセットとプラズマ装置の試料処理位置との間
でアームの回動により搬送するものが知られている。
国特許第４２０８１５９号明細書に記載のような、試料
を真空吸着するヘッドと二のヘッドが設けられると共に
回動駆動されるアームとで構成され、ヘッドに吸着され
た試料をカセットとプラズマ装置の試料処理位置との間
でアームの回動により搬送するものが知られている。
しかし、このような試料装置では、カセットと試料受は
渡し場所であるプラズマ処理装置の試料処理位置とが必
らずヘッドの回動軌跡上になければならず、この軌跡上
をはずれた任意の位置にカセットと試料受は渡し場所と
を配鍔するのには問題がある。
渡し場所であるプラズマ処理装置の試料処理位置とが必
らずヘッドの回動軌跡上になければならず、この軌跡上
をはずれた任意の位置にカセットと試料受は渡し場所と
を配鍔するのには問題がある。
本発明の目的は、任意の位Ｗに配窮されたカセットと試
料受は渡し場所との間で、試料を低発塵搬送できる試料
搬送装置を提供することにある。
料受は渡し場所との間で、試料を低発塵搬送できる試料
搬送装置を提供することにある。
本発明は、カセット内に出入り自在の形状で試料を保持
する試料保持手段と、該手段が設けられた往復動自在の
支持手段と、該手段を介して試料保持手段を旋回させる
旋回手段とで構成したことを特徴とするもので、試料保
持手段の旋回軌跡を任意に変化させることで、任意の位
置に配置されたカセットと試料受は渡し場所との間で試
料を低発塵搬送しようとしたものである。
する試料保持手段と、該手段が設けられた往復動自在の
支持手段と、該手段を介して試料保持手段を旋回させる
旋回手段とで構成したことを特徴とするもので、試料保
持手段の旋回軌跡を任意に変化させることで、任意の位
置に配置されたカセットと試料受は渡し場所との間で試
料を低発塵搬送しようとしたものである。
〔発明の実施例）
本発明の一実施例を第１図、第２図により説明する。
第１図で、真空室１０内には、処理室】１が設けられ、
処理室】１内には電極１２が設けられている。即ち、こ
の場合は電ｆｆＡｌ２が試料受は渡し場所となる。
処理室】１内には電極１２が設けられている。即ち、こ
の場合は電ｆｆＡｌ２が試料受は渡し場所となる。
真空室】０の側壁には、例えば、ゲート弁１３を介して
副真空室】４が具設されている。副真空室１４の容積は
、カセット頭な収納可能で、かつ、カセット２０がその
内部で昇降動可能な大きさである。この場合、試料搬送
装Ｍ４０は、カセット２０に装填されている試料、例え
ば、半導体基板Ｉをカセット艶から１枚取り出して処理
室１１の電極１２に対応する付置まで搬送すると共に、
処理室１１の電極】２に対応する位置から半導体基板３
０をカセット２０まで搬送しそれに収納するように設け
られている。
副真空室】４が具設されている。副真空室１４の容積は
、カセット頭な収納可能で、かつ、カセット２０がその
内部で昇降動可能な大きさである。この場合、試料搬送
装Ｍ４０は、カセット２０に装填されている試料、例え
ば、半導体基板Ｉをカセット艶から１枚取り出して処理
室１１の電極１２に対応する付置まで搬送すると共に、
処理室１１の電極】２に対応する位置から半導体基板３
０をカセット２０まで搬送しそれに収納するように設け
られている。
ＩＪ２図で、第１図の試料搬送装Ｍ４０は、カセット２
０内に出入り自在の形状で半導体基板３０を保持する試
料保持具、例えば、半導体基板３０をすくい保持するす
くい具４１と、すくい具４１が設けられた往復動自在の
支持手段□□□と、支持手段５０を介してす畷い具４１
を旋回、この場合は、第１図の電極】２方向とカセット
加方向との間で旋回させる旋回手段７０とで構成されて
いる。
０内に出入り自在の形状で半導体基板３０を保持する試
料保持具、例えば、半導体基板３０をすくい保持するす
くい具４１と、すくい具４１が設けられた往復動自在の
支持手段□□□と、支持手段５０を介してす畷い具４１
を旋回、この場合は、第１図の電極】２方向とカセット
加方向との間で旋回させる旋回手段７０とで構成されて
いる。
第２図で支持手段５０は、この場合、巻取リプーリ５１
ａ、５１ｂと、小径プーリ５２ａ、５２ｂと、ブー負 ９５３ ａ 、 ５３ ｂと、外周に複数の爪５４ａ、
５４ｂが、ν′設された風車５５ａ、５５ｂと１例えば
、金属製のベルト５６ａ、５６ｂと、アーム５７と、例
えば、テープ状の定張力バネ５８ａ、５８ｂと、例えば
、モーターと歯車６０ａ、 ６０ｂ、 ６１ ａ、 ６
１ ｂと、軸６２ａ、６２ｂとで構成されている。所定
位置に軸心な平行に配設された巻取リプ−’Ｊ５１ａ、
５１ｂには、それぞれ同心に小径ブー！Ｊ５２ａ、５２
ｂが設けられている。
ａ、５１ｂと、小径プーリ５２ａ、５２ｂと、ブー負 ９５３ ａ 、 ５３ ｂと、外周に複数の爪５４ａ、
５４ｂが、ν′設された風車５５ａ、５５ｂと１例えば
、金属製のベルト５６ａ、５６ｂと、アーム５７と、例
えば、テープ状の定張力バネ５８ａ、５８ｂと、例えば
、モーターと歯車６０ａ、 ６０ｂ、 ６１ ａ、 ６
１ ｂと、軸６２ａ、６２ｂとで構成されている。所定
位置に軸心な平行に配設された巻取リプ−’Ｊ５１ａ、
５１ｂには、それぞれ同心に小径ブー！Ｊ５２ａ、５２
ｂが設けられている。
小径ブー！ｊ５２ａ１５２ｂに対し軸線が平行にプーリ
５３ａ、５３ｂが配設され、プーリ５３ｇ、５３ｂには
。
５３ａ、５３ｂが配設され、プーリ５３ｇ、５３ｂには
。
風車聞ａ、５５ｂがそれぞれ同心に固定されている。
ベルト５６ｍ、５６ｂは風車５５ａ、５５ｂの爪５４ａ
、５４ｂに噛み合う穴６３ａ、６３ｂを有し、一端を巻
取りブー！７５１ｍ、５１ｂに固定し巻回され、他端側
は風車５５ａ、５５ｂの外周の一部に巻回された後に隣
接状態となるように配設されており、他端には、すくい
具４１が設けられたアーム５フが設けられている。
、５４ｂに噛み合う穴６３ａ、６３ｂを有し、一端を巻
取りブー！７５１ｍ、５１ｂに固定し巻回され、他端側
は風車５５ａ、５５ｂの外周の一部に巻回された後に隣
接状態となるように配設されており、他端には、すくい
具４１が設けられたアーム５フが設けられている。
定張力バネ５８ｇ、５８ｂの一端は、小径プーリ５２ａ
。
。
５２ｂに固定し巻回され他端はプーリ５３ｍ、５３ｂに
固定し巻回されており、無負荷状態になったとき自己の
張力によって小径ブー！Ｊ５２ａ、５２ｂに巻取られる
ようになっている。軸６２ ａ 、 ６２ ｂは、プー
リ５３ａ、５３ｂｌこそれぞれ垂設され、その下端には
歯車６１ａ、６１ｂが設けられている。歯車６１ ａに
は歯車６０ａが、歯車６１ ｂには歯車６０ ｂがそれ
ぞれ噛合し、ヌ、歯車６０ａ、６０ｂは噛合している。
固定し巻回されており、無負荷状態になったとき自己の
張力によって小径ブー！Ｊ５２ａ、５２ｂに巻取られる
ようになっている。軸６２ ａ 、 ６２ ｂは、プー
リ５３ａ、５３ｂｌこそれぞれ垂設され、その下端には
歯車６１ａ、６１ｂが設けられている。歯車６１ ａに
は歯車６０ａが、歯車６１ ｂには歯車６０ ｂがそれ
ぞれ噛合し、ヌ、歯車６０ａ、６０ｂは噛合している。
モータ５９の回動軸６４には、歯車６０ ｍが設けられ
ている。
ている。
ツ２図で、旋回手段７０は、この場合モータ刀と歯車７
２とテーブルｎとで構成されている。テーブルＢには、
支持手段Ｉが旋回可能に搭載されている。テーブルｎの
側面には歯車πと噛合する歯が刻設され、歯車７２１；
ｔ、モー々方の回動軸７４に設けられている。
２とテーブルｎとで構成されている。テーブルＢには、
支持手段Ｉが旋回可能に搭載されている。テーブルｎの
側面には歯車πと噛合する歯が刻設され、歯車７２１；
ｔ、モー々方の回動軸７４に設けられている。
第１図、第２図で、まず、す曵い具４１がゲート弁１３
と対応する位１（第１図の実線で示す位１）となるよろ
に旋回手段７０が駆動される。その後。
と対応する位１（第１図の実線で示す位１）となるよろ
に旋回手段７０が駆動される。その後。
ゲート弁１３を開放することで真空室１０と１Ｆｊｌ
真空室１４とは連通状態となる。この状態で、モータ５
９の動力を歯車６０ａ、 ６０ｂ、 ６１ａ、 ６１
ｂ、軸６２ａ、ｅ２ｂに伝えプーリ５３ａ、５３ｂをそ
れぞれ矢印Ａ、 Ｂの如く反対方向に回転させることで
、ベルトＦＩ３ｍ。
真空室１４とは連通状態となる。この状態で、モータ５
９の動力を歯車６０ａ、 ６０ｂ、 ６１ａ、 ６１
ｂ、軸６２ａ、ｅ２ｂに伝えプーリ５３ａ、５３ｂをそ
れぞれ矢印Ａ、 Ｂの如く反対方向に回転させることで
、ベルトＦＩ３ｍ。
５６ｂは風車５５ａ、５５ｂによって滑ることな曵正確
に副真空室１４方向へ繰り出される。これによって。
に副真空室１４方向へ繰り出される。これによって。
すくいＪｉ、４１はゲート弁１３を介して一１真空室】
４に入りカセット（９）内まで直進させられる。その後
、すくい具４１がカセット２０内に有る状態で、カセッ
ト加を昇降装Ｗ１８０により】！９下降させれば、カセ
ットに内において半導体基板加は、す啜い具４１に１枚
渡されて保持される。その後、モータ５９を停止し定張
力バネ５８ｇ、５８ｂを無負荷状部にすることで、定張
力バネ５８ａ、５８ｂは、自己の張力により小径プーリ
５２＋ａ、５２ｂにそれぞれ巻取られる。こむにより、
半導体基板（資）を保持したすくい具４１はゲート弁１
３を介して副真空室１４から真空室１０へ後退させられ
、旋回を阻害しない位置で停止させられる。その後、旋
回手段７０を駆動する二とで半導体基板加を保持しだす
曵い具４１は、処理室１１の電極１２に対応する位置ま
で旋回させられる。その後。
４に入りカセット（９）内まで直進させられる。その後
、すくい具４１がカセット２０内に有る状態で、カセッ
ト加を昇降装Ｗ１８０により】！９下降させれば、カセ
ットに内において半導体基板加は、す啜い具４１に１枚
渡されて保持される。その後、モータ５９を停止し定張
力バネ５８ｇ、５８ｂを無負荷状部にすることで、定張
力バネ５８ａ、５８ｂは、自己の張力により小径プーリ
５２＋ａ、５２ｂにそれぞれ巻取られる。こむにより、
半導体基板（資）を保持したすくい具４１はゲート弁１
３を介して副真空室１４から真空室１０へ後退させられ
、旋回を阻害しない位置で停止させられる。その後、旋
回手段７０を駆動する二とで半導体基板加を保持しだす
曵い具４１は、処理室１１の電極１２に対応する位置ま
で旋回させられる。その後。
支持手段５０を上記したように作動させることで。
半導体基板１２は、す畷い具４１に保持された状態で電
極１２上まで搬送され、その後、すくい具４１から電［
ｆ１２に渡される。その後、す炙い具４１は支持手段５
０の作動により＠１図の２点鎖線で示す位置まで戻され
る。尚、処理室１１で処理された半導体基板Ｉは、上記
操作と逆操作により劃１２からカセット蜀へ搬送されて
カセット２０に収納される。
極１２上まで搬送され、その後、すくい具４１から電［
ｆ１２に渡される。その後、す炙い具４１は支持手段５
０の作動により＠１図の２点鎖線で示す位置まで戻され
る。尚、処理室１１で処理された半導体基板Ｉは、上記
操作と逆操作により劃１２からカセット蜀へ搬送されて
カセット２０に収納される。
本実施例では１次のような効果を得ることができる。
（１）すくい具の旋回軌跡を任意に変化させることがで
きるので、任意の位置に配置されたカセットと電極との
間で半導体基板を搬送することができる。
きるので、任意の位置に配置されたカセットと電極との
間で半導体基板を搬送することができる。
（２） す（い具の旋回、往復動により直接カセット
と電極との間で半導体基板を搬送できるため。
と電極との間で半導体基板を搬送できるため。
塵埃の登生を低畷抑制できる。
（３） 支持手段の往復動に余分のスペースを必要と
しないため、本装置が適用される装置を小型化できる。
しないため、本装置が適用される装置を小型化できる。
尚、支持手段としては、本実施例の他Ｉこ１例えば、ラ
ック・ビニオン機構、リンク機構等を採用したものを用
いても良い。
ック・ビニオン機構、リンク機構等を採用したものを用
いても良い。
〔発明の効果〕
本発明は、以上説明したように、カセ−，ト内に出入ｊ
ｌ自在の形状で試料を保持する試料保持具と、該手段が
設けら口た往復動自在の支持手段と、該・ ７ ・ 手段を介して試料保持具な旋回させる旋回手段とで構成
したことで、試料保持手段の旋回軌跡を任意に変化させ
ることができるので、任意の位置に配置されたカセット
と試料受は渡し場所との間で試料を低発塵搬送できると
いう効果がある。
ｌ自在の形状で試料を保持する試料保持具と、該手段が
設けら口た往復動自在の支持手段と、該・ ７ ・ 手段を介して試料保持具な旋回させる旋回手段とで構成
したことで、試料保持手段の旋回軌跡を任意に変化させ
ることができるので、任意の位置に配置されたカセット
と試料受は渡し場所との間で試料を低発塵搬送できると
いう効果がある。
第１図は、本発明の一実施例を示すもので、本発明によ
る試料搬送装置を適用した半導体製造装置の平面図、１
！！２図は！１図の試料搬送装置の斜視外観図である。 加・・・・・・カセット、３０・・・・・・半導体基板
、４１・・・・・・す、８ 。 ＋１図
る試料搬送装置を適用した半導体製造装置の平面図、１
！！２図は！１図の試料搬送装置の斜視外観図である。 加・・・・・・カセット、３０・・・・・・半導体基板
、４１・・・・・・す、８ 。 ＋１図
Claims (1)
- １、カセット内に出入り自在の形状で試料を保持する試
料保持手段と、該手段が設けられた往復動自在の支持手
段と、該手段を介して前記試料保持手段を旋回させる旋
回手段とで構成したことを特徴とする試料搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15752084A JPS6136943A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 試料搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15752084A JPS6136943A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 試料搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6136943A true JPS6136943A (ja) | 1986-02-21 |
Family
ID=15651465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15752084A Pending JPS6136943A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 試料搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6136943A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62216243A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウエ−ハ押し出し装置 |
| WO2011152265A1 (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 直動伸縮アーム機構および当該直動伸縮アーム機構を備えたロボットアーム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5140422A (en) * | 1974-10-03 | 1976-04-05 | Kojin Kk | X senzoeiseireeyonno seizohoho |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15752084A patent/JPS6136943A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5140422A (en) * | 1974-10-03 | 1976-04-05 | Kojin Kk | X senzoeiseireeyonno seizohoho |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62216243A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウエ−ハ押し出し装置 |
| JPH0558571B2 (ja) * | 1986-03-17 | 1993-08-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | |
| WO2011152265A1 (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 直動伸縮アーム機構および当該直動伸縮アーム機構を備えたロボットアーム |
| JP5435679B2 (ja) * | 2010-05-31 | 2014-03-05 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 直動伸縮アーム機構および当該直動伸縮アーム機構を備えたロボットアーム |
| US9248576B2 (en) | 2010-05-31 | 2016-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Direct acting extensible and retractable arm mechanism, and robot arm provided with direct acting extensible and retractable arm mechanism |
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