JPS61180423A - 分子線エピタキシ装置 - Google Patents
分子線エピタキシ装置Info
- Publication number
- JPS61180423A JPS61180423A JP1991285A JP1991285A JPS61180423A JP S61180423 A JPS61180423 A JP S61180423A JP 1991285 A JP1991285 A JP 1991285A JP 1991285 A JP1991285 A JP 1991285A JP S61180423 A JPS61180423 A JP S61180423A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- crystal growth
- chamber
- pulley
- carrying
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、分子線エピタキシ装置（以下、ＭＢＥ装置と
略）Ｉこ関するものである。
略）Ｉこ関するものである。
従来のＭＢＦｆ装置としては、例えば、高橋編、「分子
線エピタキシー技術」、工業調査会発行、（１，９８４
，１，２０）のＰ６４〜６５に記載のような、結晶成長
室等をモジュール化して構成するものが知られている。
線エピタキシー技術」、工業調査会発行、（１，９８４
，１，２０）のＰ６４〜６５に記載のような、結晶成長
室等をモジュール化して構成するものが知られている。
このＭＢＥ装置では、基本的な構成に成長室モジュール
を追加することで複数個の結晶成長室を有するものＶ成
り得、スループブトを向上させることが可能である。
を追加することで複数個の結晶成長室を有するものＶ成
り得、スループブトを向上させることが可能である。
しかし、このＭＢＥ装置では、スペースファクタについ
ては考慮されていない。即ち、搬送室と結晶成長室との
間で試料を搬送するマニピュレータが結晶成長室に対応
した位置で装置設置床面に対して略平行に往復動するよ
うに設けられているため、全体の装置設置床面積が増大
するという問題がある。
ては考慮されていない。即ち、搬送室と結晶成長室との
間で試料を搬送するマニピュレータが結晶成長室に対応
した位置で装置設置床面に対して略平行に往復動するよ
うに設けられているため、全体の装置設置床面積が増大
するという問題がある。
本発明の目的は、搬送室と結晶成長室との間で試料を搬
送する搬送手段が占有する床面積を狭小化することで、
全体の装置設置床面積の増大を抑制できるＭＢＥ装置を
提供することにある。
送する搬送手段が占有する床面積を狭小化することで、
全体の装置設置床面積の増大を抑制できるＭＢＥ装置を
提供することにある。
本発明は、搬送室と、該搬送室を共有する結晶成長室と
、コンストンバネの繰り出し並びに巻き取って該フンス
トンバネに設けられた試料保持具を前記搬送室と前記結
晶成長室との間で往復動させる搬送手段と、前記試料保
持具が前記結晶成長室に対応可能に前記搬送手段を移動
させる移動手段とを具備したことを特徴とするもので、
搬送室と結晶成長室との間で試料を搬送する搬送手段が
占有する床面積を狭小化しようとしたものである。
、コンストンバネの繰り出し並びに巻き取って該フンス
トンバネに設けられた試料保持具を前記搬送室と前記結
晶成長室との間で往復動させる搬送手段と、前記試料保
持具が前記結晶成長室に対応可能に前記搬送手段を移動
させる移動手段とを具備したことを特徴とするもので、
搬送室と結晶成長室との間で試料を搬送する搬送手段が
占有する床面積を狭小化しようとしたものである。
Ｂハ
本発〆の一実施例を第１図〜第５図により説明する。
ｉｌ１図、第２図で、導入室１０には、その上方位置で
準備室Ｉが真空間開閉手段、例えば、ゲートバルブ（９
）を介して設けられている。搬送家信は、この場合、縦
形に設けられている。準備室孔は、搬送家信の下部に真
空間開閉手段、例えば、ゲーとバルブ３１を介して設け
られている。結晶成長家父〜Ｉは、搬送家信を共有し設
けられている。即ち、結晶成長室（資）〜弱は、高さ方
向に、この場合、結晶成長室５０〜５２が下段位置壷こ
、結晶成長室閏〜５が上段位置になるように配置されて
真空間開閉手段、例えば、ゲートバルブ支〜訂を介して
搬送家信に設けられている。搬送家信の下部には、搬出
室ωが真空間開閉手段、例えば、ゲートバルブ繋を介し
て設けられている。
準備室Ｉが真空間開閉手段、例えば、ゲートバルブ（９
）を介して設けられている。搬送家信は、この場合、縦
形に設けられている。準備室孔は、搬送家信の下部に真
空間開閉手段、例えば、ゲーとバルブ３１を介して設け
られている。結晶成長家父〜Ｉは、搬送家信を共有し設
けられている。即ち、結晶成長室（資）〜弱は、高さ方
向に、この場合、結晶成長室５０〜５２が下段位置壷こ
、結晶成長室閏〜５が上段位置になるように配置されて
真空間開閉手段、例えば、ゲートバルブ支〜訂を介して
搬送家信に設けられている。搬送家信の下部には、搬出
室ωが真空間開閉手段、例えば、ゲートバルブ繋を介し
て設けられている。
第３図〜第５図で、搬送家信は、縦形に設けられた外槽
４１と、外槽４１内で外槽４１と同心状に配設された内
槽４２とで構成されている。外槽４１と内槽４２とで形
成された空間Ｃは、減圧排気され、内槽４２内は大気圧
下にある。
４１と、外槽４１内で外槽４１と同心状に配設された内
槽４２とで構成されている。外槽４１と内槽４２とで形
成された空間Ｃは、減圧排気され、内槽４２内は大気圧
下にある。
第１図〜第５図で、コンストンバネ７０の繰り出し並び
に巻き取りでコンストンバネ７０に設けられた試料保持
具、例えば、試料す鳴いｎを搬送電信と結晶成長室５０
〜５５との間で往復動させる搬送手段ｎと、試料すくい
７１が結晶成長室間〜団に対応可能すなわちゲートバル
ブ支〜舅に対応可能に搬送手段ｎを移動させる移動手段
（資）とが搬送家信に設けられている。
に巻き取りでコンストンバネ７０に設けられた試料保持
具、例えば、試料す鳴いｎを搬送電信と結晶成長室５０
〜５５との間で往復動させる搬送手段ｎと、試料すくい
７１が結晶成長室間〜団に対応可能すなわちゲートバル
ブ支〜舅に対応可能に搬送手段ｎを移動させる移動手段
（資）とが搬送家信に設けられている。
第３図〜第５図で、搬送手段ｎは、コンストンバネ７０
と試料すくい７１とプーリ７３，７４と歯車乃と磁気カ
ブプリング７６とで構成されている。移動手段間は、ボ
ールネジ８１とスクリュシャフト８２と磁気カップリン
グ８３ ａ −８３Ｃと、軸受８４ａ、 ＆４ｂと駆動
モータ８５ａ、８５ｋ）とビニオン圀と内歯車８７ａ、
８７ｂと歯車間とスクリュシャフト圏を回転駆動する駆
動装Ｗ（図示省略）とで構成されている。
と試料すくい７１とプーリ７３，７４と歯車乃と磁気カ
ブプリング７６とで構成されている。移動手段間は、ボ
ールネジ８１とスクリュシャフト８２と磁気カップリン
グ８３ ａ −８３Ｃと、軸受８４ａ、 ＆４ｂと駆動
モータ８５ａ、８５ｋ）とビニオン圀と内歯車８７ａ、
８７ｂと歯車間とスクリュシャフト圏を回転駆動する駆
動装Ｗ（図示省略）とで構成されている。
第３図〜第５図で、スクリュシャフト鯰は、内槽４２の
中心を軸心として内槽仕向に回転可能に挿設されている
。スクリュシャフト鯰の一端は、駆動装置に連接されて
いる。ボールネジ８１は、スクリュシャフト圏に、この
場合、上下方向に２段螺合されている。ボールネジ８１
には、軸受８４ａを介して磁気カブプリング＆３ａが回
動可能に設けられている。磁気カブプリング８ａは、内
槽４２内面と対応し所定の隙間を有している。駆動モー
タｌ１１５ａには、ピニオン羽が設けられ、ビニオン関
は、この場合、上段の磁気カップリング８３ａのボスに
設けられた内歯車８７ａに噛合してしる。上、下段の磁
気カップリング８３ａは、固定具羽により固定されてい
る。この場合、下段のボールネジ８１には、プラグ匍を
介し駆動モータ８５ｂが設けられている。
中心を軸心として内槽仕向に回転可能に挿設されている
。スクリュシャフト鯰の一端は、駆動装置に連接されて
いる。ボールネジ８１は、スクリュシャフト圏に、この
場合、上下方向に２段螺合されている。ボールネジ８１
には、軸受８４ａを介して磁気カブプリング＆３ａが回
動可能に設けられている。磁気カブプリング８ａは、内
槽４２内面と対応し所定の隙間を有している。駆動モー
タｌ１１５ａには、ピニオン羽が設けられ、ビニオン関
は、この場合、上段の磁気カップリング８３ａのボスに
設けられた内歯車８７ａに噛合してしる。上、下段の磁
気カップリング８３ａは、固定具羽により固定されてい
る。この場合、下段のボールネジ８１には、プラグ匍を
介し駆動モータ８５ｂが設けられている。
駆動モータ８５ｂには、歯車間が設けられている。
プラグ９には、軸受８４ｂを介し磁気カップリング８３
ｂが回動可能に設けられている。磁気カブプリング８３
ｂは、内槽Ｃ内面と対応し所定の隙間を有している。磁
気カップリング８３ｂのボスには内歯車８７ｂが設けら
れ、内歯車８７ｂは、歯車間に噛合している。磁気カッ
プリング８３ｃは、内槽４２をはさみ磁気カップリング
８３ａと対向して設けられている。磁気カップリング８
３ｃは、内槽４２外面と所定の隙間を有している。上、
下段の磁気カブプリング８３ｃは、固定具９１により固
定されている。搬送ステージ蛇は、略水平面を保持し固
定具９１に片持ち支持されている。プーリ７３は、この
場合、２個用いられ、試料す（いｎの往復動軸線を中心
とする対称位置で搬送ステージｎに回動可能に設けられ
ている。プーリｎの回動軸には磁気カブプリング７６が
設けられている。磁気カップリング７６は、内槽４２を
はさみ磁気カップリング＆ｌｂと対向している。プーリ
７４は、この場合、２個用いられ、試料すくいｎの往復
動軸線を中心とする対称位置で搬送ステージ９２に回動
可能に設けられている。プーリ７４の回動軸間隔は、プ
ーリ７３の回動軸間隔よりも小さく繰り出されるコンス
トンバネ７０かに料すくいｎの往復動軸と平行になるよ
うな間隔になっている。プーリ７３の回動は、歯車乃を
介してプーリ７４に伝達され、ブーＩＪ ｎの回転方向
と同一方向にプーリ７４は回転するようになっている。
ｂが回動可能に設けられている。磁気カブプリング８３
ｂは、内槽Ｃ内面と対応し所定の隙間を有している。磁
気カップリング８３ｂのボスには内歯車８７ｂが設けら
れ、内歯車８７ｂは、歯車間に噛合している。磁気カッ
プリング８３ｃは、内槽４２をはさみ磁気カップリング
８３ａと対向して設けられている。磁気カップリング８
３ｃは、内槽４２外面と所定の隙間を有している。上、
下段の磁気カブプリング８３ｃは、固定具９１により固
定されている。搬送ステージ蛇は、略水平面を保持し固
定具９１に片持ち支持されている。プーリ７３は、この
場合、２個用いられ、試料す（いｎの往復動軸線を中心
とする対称位置で搬送ステージｎに回動可能に設けられ
ている。プーリｎの回動軸には磁気カブプリング７６が
設けられている。磁気カップリング７６は、内槽４２を
はさみ磁気カップリング＆ｌｂと対向している。プーリ
７４は、この場合、２個用いられ、試料すくいｎの往復
動軸線を中心とする対称位置で搬送ステージ９２に回動
可能に設けられている。プーリ７４の回動軸間隔は、プ
ーリ７３の回動軸間隔よりも小さく繰り出されるコンス
トンバネ７０かに料すくいｎの往復動軸と平行になるよ
うな間隔になっている。プーリ７３の回動は、歯車乃を
介してプーリ７４に伝達され、ブーＩＪ ｎの回転方向
と同一方向にプーリ７４は回転するようになっている。
コンストンバネ７０は、この場合、２条用いられ、フン
ストンバネ７０の一端は、プーリｎに固定されている。
ストンバネ７０の一端は、プーリｎに固定されている。
プーリ７３に一端を固定されたフンストンバネ７０は、
プーリ７４に途中接触し、その他端には試料す々い７１
が試料すくい面を略水平として設けられている。
プーリ７４に途中接触し、その他端には試料す々い７１
が試料すくい面を略水平として設けられている。
第１図〜第５図で、駆動装置によりスクリュシャフト羽
を回転させることによりボールネジ８１は内槽４２内を
上下方向に移動させられる。この移動により磁気カブプ
リング８３ａ、８３ｂは同一方向に同時に移動し、この
移動により磁気カブプリング８３ｃも空間０を同一方向
に同時に移動させられる。
を回転させることによりボールネジ８１は内槽４２内を
上下方向に移動させられる。この移動により磁気カブプ
リング８３ａ、８３ｂは同一方向に同時に移動し、この
移動により磁気カブプリング８３ｃも空間０を同一方向
に同時に移動させられる。
この移動により搬送手段７２も空間お内を同一方向に同
時に移動させられる。このような搬送手段７２の空間４
内での移動量は、ス々リュシャフト＆の回転度数を検出
し駆動装置の作動を制御することで所定量に精度良４調
節される。また、試料すくいｎを所定の結晶成長室すな
わちゲートバルブに対応させることは、駆動モータ８５
ａを作動させることで実施される。すなわち、駆動モー
タ８５ａを作動させることで、磁気カブプリング８３ａ
、 ８３ｂは、円周方向に内槽４２内面に沿って移動さ
せられる。この移動により磁気カップリング＆ｌｃは空
間ｃ内を同一方向に同時に移動させられ、この移動によ
り搬送手段７２も空間４内を同一方向に同時に移動させ
られる。この移動により試料すくいｎが所定のゲートバ
ルブ（こ対応した時点で駆動モータ８５ａの作動は停止
され′る。この状態で、駆動モータ８５ｂが作動され、
これにより磁気カップリング＆３ｂは回転させられる。
時に移動させられる。このような搬送手段７２の空間４
内での移動量は、ス々リュシャフト＆の回転度数を検出
し駆動装置の作動を制御することで所定量に精度良４調
節される。また、試料すくいｎを所定の結晶成長室すな
わちゲートバルブに対応させることは、駆動モータ８５
ａを作動させることで実施される。すなわち、駆動モー
タ８５ａを作動させることで、磁気カブプリング８３ａ
、 ８３ｂは、円周方向に内槽４２内面に沿って移動さ
せられる。この移動により磁気カップリング＆ｌｃは空
間ｃ内を同一方向に同時に移動させられ、この移動によ
り搬送手段７２も空間４内を同一方向に同時に移動させ
られる。この移動により試料すくいｎが所定のゲートバ
ルブ（こ対応した時点で駆動モータ８５ａの作動は停止
され′る。この状態で、駆動モータ８５ｂが作動され、
これにより磁気カップリング＆３ｂは回転させられる。
この回転により磁気カップリング７６はプーリｎの回動
軸を軸心として回転させられ、これととも畳こプーリｎ
は時計回り方向に回転させられる。プーリｎの回転は歯
車πを介してプーリ７４に伝達され、プーリ７４は時計
回り方向に回転させられる。このようなプーリ７３．７
４の回転によりコンストンバネ７０は繰り出され、試料
すくい７１は、開放されたゲートバルブを介して空間招
から結晶成長室内へと移動させられる。このような移動
前に試料す４い７１が試料（図示省略）を保持している
場合は、試料は、搬送家信から結晶成長室へ搬入された
ことになり、また、このような移動前に試料す鳴いｎが
試料を保持していない場合は、結晶成長室内にある試料
を受は取るために試料す鳴い７１は移動させられたこと
になる。
軸を軸心として回転させられ、これととも畳こプーリｎ
は時計回り方向に回転させられる。プーリｎの回転は歯
車πを介してプーリ７４に伝達され、プーリ７４は時計
回り方向に回転させられる。このようなプーリ７３．７
４の回転によりコンストンバネ７０は繰り出され、試料
すくい７１は、開放されたゲートバルブを介して空間招
から結晶成長室内へと移動させられる。このような移動
前に試料す４い７１が試料（図示省略）を保持している
場合は、試料は、搬送家信から結晶成長室へ搬入された
ことになり、また、このような移動前に試料す鳴いｎが
試料を保持していない場合は、結晶成長室内にある試料
を受は取るために試料す鳴い７１は移動させられたこと
になる。
結晶成長室内に移動した試料すくい７１を結晶成長室か
ら空間４内へ移動させて戻すためには、上記操作と逆の
操作を実施すなわちプーリ７３．７４を反時計回り方向
に回転させれば良い。このような移動前に試料す鳴いｎ
が試料を保持している場合は、試料は、結晶成長室から
搬送家信へ搬出されたことになり、また、このような移
動前に試料すくい７１が試料を保持していない場合は、
結晶成長室から退避するために試料すくい７１は移動さ
せられたことになる。
ら空間４内へ移動させて戻すためには、上記操作と逆の
操作を実施すなわちプーリ７３．７４を反時計回り方向
に回転させれば良い。このような移動前に試料す鳴いｎ
が試料を保持している場合は、試料は、結晶成長室から
搬送家信へ搬出されたことになり、また、このような移
動前に試料すくい７１が試料を保持していない場合は、
結晶成長室から退避するために試料すくい７１は移動さ
せられたことになる。
本実施例では、次のような効果を得ることができる。
（１）搬送手段が占有する床面積を狭小化できるため、
全体の装置設置床面積の増大を抑制できる。
全体の装置設置床面積の増大を抑制できる。
（２）真空下１こある搬送手段を非接触で移動できるた
め、摺動に起因する発塵を防止できる。
め、摺動に起因する発塵を防止できる。
（３）移動手段の駆動部を大気側に設は大気側から真空
側へのＩ動力の伝達を非接触で行えるため、真空に起因
する問題がなくなり信頼性を向上できる。
側へのＩ動力の伝達を非接触で行えるため、真空に起因
する問題がなくなり信頼性を向上できる。
（４）複数個の結晶成長室を高さ方向に設けているため
、結晶成長室が占有する床面積を狭小化でき全体の装置
設置床面積の増大を抑制できる。
、結晶成長室が占有する床面積を狭小化でき全体の装置
設置床面積の増大を抑制できる。
なお、本実施例では、搬送手段を移動手段により上下方
向に移動させるようにしているが、この方向は上下方向
に特に限定されるものではな（、例えば、水平方向であ
っても良い。また、本実施例では、試料保持具として試
料すくいを用いているが、その他に、例えば、電磁チャ
ック等のように試料を吸着して保持する手段、開閉する
爪で試料をつかみ保持する手段等を用いても良い。また
、未実施例では、試料保持具である試料すくいを搬送室
と結晶成長室との間で直進往復動させるようにしている
が、この他に、フンストンバネの繰す出し量並びに巻き
取り量を調節することで、部分回動を含み往復動させる
ようにしても良い。
向に移動させるようにしているが、この方向は上下方向
に特に限定されるものではな（、例えば、水平方向であ
っても良い。また、本実施例では、試料保持具として試
料すくいを用いているが、その他に、例えば、電磁チャ
ック等のように試料を吸着して保持する手段、開閉する
爪で試料をつかみ保持する手段等を用いても良い。また
、未実施例では、試料保持具である試料すくいを搬送室
と結晶成長室との間で直進往復動させるようにしている
が、この他に、フンストンバネの繰す出し量並びに巻き
取り量を調節することで、部分回動を含み往復動させる
ようにしても良い。
本発明は、以上説明したように、搬送室と結晶成長室と
の間で試料を搬送する搬送手段が占有する床面積を狭小
化できるので、全体の装置設置床面積の増大を抑制でき
るＭ Ｂ Ｂ＊ｆｌを提供できるという効果がある。
の間で試料を搬送する搬送手段が占有する床面積を狭小
化できるので、全体の装置設置床面積の増大を抑制でき
るＭ Ｂ Ｂ＊ｆｌを提供できるという効果がある。
＠１図は、本発明によるＭＢＢ！Ｊｆｉの一実施例を示
す平面外観図、第２図は、第１図のＭＢＥ装置の正面外
観図、第３図は、第２図の搬送室の部分縦断面図、第４
図は、第３図の要部拡大縦断面図、第５図は、第３図の
要部平面図である。 俯・・・・・・搬送室、父ないし５・・−・・結晶成長
室、７゜・・・・・・コンストンバネ、７１・・曲ＸＬ
ｔ−＜ぃ、η・・・・・・搬送手段、（資）・・・・・
・移動手段４′ｌＩ２１ 才２図 千３図 ４ｔｕ ８０−違ダ勧り晩 才５図
す平面外観図、第２図は、第１図のＭＢＥ装置の正面外
観図、第３図は、第２図の搬送室の部分縦断面図、第４
図は、第３図の要部拡大縦断面図、第５図は、第３図の
要部平面図である。 俯・・・・・・搬送室、父ないし５・・−・・結晶成長
室、７゜・・・・・・コンストンバネ、７１・・曲ＸＬ
ｔ−＜ぃ、η・・・・・・搬送手段、（資）・・・・・
・移動手段４′ｌＩ２１ 才２図 千３図 ４ｔｕ ８０−違ダ勧り晩 才５図
Claims (1)
- １、搬送室と、該搬送室を共有する結晶成長室と、コン
ストンバネの繰り出し並びに巻き取りで該コンストンバ
ネに設けられた試料保持具を前記搬送室と前起結晶成長
室との間で往復動させる搬送手段と、前記試料保持具が
前記結晶成長室に対応可能に前記搬送手段を移動させる
移動手段とを具備したことを特徴とする分子線エピタキ
シ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991285A JPS61180423A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 分子線エピタキシ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991285A JPS61180423A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 分子線エピタキシ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180423A true JPS61180423A (ja) | 1986-08-13 |
Family
ID=12012421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991285A Pending JPS61180423A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 分子線エピタキシ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180423A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63315594A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-23 | Nissin Electric Co Ltd | 分子線エピタキシ−装置 |
| US9303548B2 (en) | 2013-11-12 | 2016-04-05 | Dayco Ip Holdings, Llc | Diesel engine fluid coolant system having a solenoid-powered gate valve |
| US9574677B2 (en) | 2013-05-31 | 2017-02-21 | Dayco Ip Holdings, Llc | Solenoid-powered gate valve |
| US9666349B2 (en) | 2013-12-11 | 2017-05-30 | Dayco Ip Holdings, Llc | Magnetically actuated shut-off valve |
| US9841110B2 (en) | 2013-08-30 | 2017-12-12 | Dayco Ip Holdings, Llc | Sprung gate valves movable by a solenoid actuator |
| US9845899B2 (en) | 2013-05-31 | 2017-12-19 | Dayco Ip Holdings, Llc | Sprung gate valves movable by an actuator |
| US9915370B2 (en) | 2015-08-05 | 2018-03-13 | Dayco Ip Holdings, Llc | Magnetically actuated shut-off valve |
| US10221867B2 (en) | 2013-12-10 | 2019-03-05 | Dayco Ip Holdings, Llc | Flow control for aspirators producing vacuum using the venturi effect |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP1991285A patent/JPS61180423A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63315594A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-23 | Nissin Electric Co Ltd | 分子線エピタキシ−装置 |
| US9574677B2 (en) | 2013-05-31 | 2017-02-21 | Dayco Ip Holdings, Llc | Solenoid-powered gate valve |
| US9845899B2 (en) | 2013-05-31 | 2017-12-19 | Dayco Ip Holdings, Llc | Sprung gate valves movable by an actuator |
| US9841110B2 (en) | 2013-08-30 | 2017-12-12 | Dayco Ip Holdings, Llc | Sprung gate valves movable by a solenoid actuator |
| US9303548B2 (en) | 2013-11-12 | 2016-04-05 | Dayco Ip Holdings, Llc | Diesel engine fluid coolant system having a solenoid-powered gate valve |
| US10221867B2 (en) | 2013-12-10 | 2019-03-05 | Dayco Ip Holdings, Llc | Flow control for aspirators producing vacuum using the venturi effect |
| US9666349B2 (en) | 2013-12-11 | 2017-05-30 | Dayco Ip Holdings, Llc | Magnetically actuated shut-off valve |
| US9915370B2 (en) | 2015-08-05 | 2018-03-13 | Dayco Ip Holdings, Llc | Magnetically actuated shut-off valve |
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