JPS613309A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気記録再生用磁気ヘッドに係り、特にフェラ
イトと高飽和磁束密度の磁性合金とを複合した高密度記
録に好適な磁気ヘッドに関する。

〔発明の背景〕

高保磁力の磁気記録媒体に十分記録可能とする磁気ヘッ
ドとして、高飽和磁束密度の磁性合金が用いられるよう
になった。磁性合金を単独で磁気ヘッドに用いた場合に
は、（１）渦電流損失により高周波領域におけるヘッド
特性が十分得られない。（２）耐摩耗性が悪い等の問題
がある。そのため、実用的には磁気ヘッドの作動ギャッ
プ近傍に高飽和磁束密度、高透磁率の磁性合金を用い、
その他のコア部をフェライトで構成した複合型の磁気ヘ
ッドが提案されている。例えば、第１図に従来提案され
た複合型磁気へ゛ラドの一例を示す。

図（ａ）は上面図、図（ｂ）は側面図である。図におい
て、コア部片１０．１０′　が高透磁率フェライトから
なり、記録作用の主要部となる作動ギャップ１２の近傍
部が高飽和磁束密度、高透磁率の磁性合金１１．１１′
　からなり、それぞれ１４．１４′で接合されている。

１３はコイル巻線用の窓である。このような構造の磁気
ヘッドにおいては、フェライトと磁性合金の接合境界部
１４．１４′が作動ギャップ１２と平行になっている場
合、該接合境界部１４．１４′　が疑似ギャップとして
作用し、相当量の信号を拾うことになり、作動ギャップ
１２においての記録、再生信号に悪影響を及ぼすことに
なる。このような悪影響はフェライトと磁性合金の透磁
率が著しく異なる時に起る。また、フェライトを所定の
コア部片に加工する場合、機械的な加工（例えば、切断
、研削、研摩）によって、フェライト表面に形成された
加工変質層により表面が磁気的に著しく劣化した層が形
成される。このような加工変質層を有するフェライト上
に磁性合金を形成すると、その境界部に磁気的に劣化し
たギャップが形成されて、その部分で磁束が漏洩するた
めに疑似ギャップ作用が起る。そのために、従来はフェ
ライトと磁性合金の接合境界部を作動ギャップと斜交さ
せる方法が提案された。しかし、実用の磁気ヘッド製造
においては、複雑な加工を行なう必要があり、製造上の
歩留りが悪くなることやコスト高になる欠点があった。

なお、本発明に関係ある従来技術としては、例えば特開
昭５８−１．５５５１３号公報を挙げることができる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、前記のような従来の磁気ヘッドの欠点
を解消し、２種以上の磁性材料を接合してなる磁気ヘッ
ドにおいて、該磁性材料同志の接合部が作動ギャップと
平行となる部分を有しても、該接合部における疑似ギャ
ップ作用がほとんど作動ギャップにおける記録再生作用
に影響を与えず、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッ
ドを提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は、上記の目的を達成するために、２種以上の磁
性材料で構成され、両者の接合部が磁気記録媒体対向面
に表われ］少なくともその一部が作動ギャップと平行な
部分を有するリング形の磁気ヘッドにおいて、作動ギャ
ップを形成するコア部分が高飽和磁束密度、高透磁率の
磁性合金からなり、該磁性合金と接合する他のコア部分
が高透磁率フェライトで構成され、該磁性合金の透磁率
が該フェライトと同等もしくはそれ以上であるか、もし
くは該フェライトの前記磁性合金との接合面における加
工変質層を除去した面に該磁性合金を形成するようにし
たものである。

例えば、高透磁率フェライトの場合、周波数５Ｍ　Ｈｚ
の時５００〜１０００程度範囲のものがある。これと接
合される磁性合金の透磁率は前記フェライトの透磁率が
５００の場合、５００以上、１０００の場合は１０００
以上のものを用いることが好ましい。なお、上限は３０
００程度で十分である。それ以上にしても再生出力の向
上に大幅な効果がみられない。

さらに、好適には、作動ギャップ近傍のコア部分を構成
する磁性合金の透磁率が他のコア部分を構成するフェラ
イトとの接合面に垂直な方向において、フェライトと同
等もしくはこれより高くすることもよい。

一方、フェライトの加工変質層を除去した面に磁性合金
を形成することによって、フェライトと磁性合金の磁気
的結合が良好となり、接合境界部における不要の記録再
生作用がなくなる。この場合も、フェライトの加工変質
層を除去した面に、上記のように該フェライトと同等も
しくはそれ以上の透磁率を有する磁性合金を形成するの
がさらに好ましい。

なお、前記除去すべき加工変質層の厚さは０．０５−〜
１ｔ１ｍであり、好適にはＯ０１ρ〜０．５庫である。

例えば、フェライトを砥石によって研削した場合、砥石
の砥粒径、ボンド材（メ１タルもしくはレジン）によっ
ても異なるが、０．０５ｔ１ｍ〜０．５ｐ程度である。

しかし、実際に磁気特性が劣化している層は０．１ｔ１
ｍ〜１−程度あるためこれを除去することが好ましい。

除去量を判定する方法は一般に電子回折像を観察するこ
とによって行なわれる。この時、回折像は結晶性回復を
示すスポット状のはん点もしくはリングが現われる。

加工変質層の除去は化学エツチングあるいはイオンエツ
チング法によって行なわれる。

フェライトとしてはＭｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎ
フェライトの単結晶もしくは多結晶が用いられる。これ
らと組み合せる磁性合金はＦ　ｅ　−Ａｆｌ−８ｉ系、
Ｎｉ−Ｆｅ系、Ｆｅ−８ｉ系、Ｆ　ｅ　−Ａ（１系、Ｃ
ｏ−Ｆｅ−８ｉ系、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎｉ系等の多結晶合金
もしくはＣｏ−Ｚｒ系、Ｃｏ−Ｎｂ系合金にＣｒ、Ｆｅ
、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｂ、Ｙ、Ｒｅ
、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ａｕ、Ｒｕ等の元素のうちの１種
もしくは２種以上を含む非晶質磁性合金が用いられる。

上記のような磁性合金膜はスパッタリング、蒸着、イオ
ンブレーティング等の薄膜形成技術によって形成される
。

本発明における磁気ヘッドの製造方法は以下のように行
なわれる。

高透磁率フェライトからなる２個の所定寸法を有する直
方体状コア部片のギャップ突き合せ面となる面（以下、
ギャップ突き合せ面と略称する。）に所定のトラック幅
より狭い所定の幅をもち、所定間隔で該ギャップ突き合
せ面の所定の一辺に平行に配列された複数の平坦部を残
して、該平坦部に挟まれた所定深さの先細り溝を形成し
た後、前記コア部片の一方の前記ギャップ突き合せ面の
所定位置に前記平坦部と直角に前記先細り溝により所定
寸法だけ深い所定形状を有するコイル巻線窓用溝を形成
する第１工程と、前記第１工程を終った２個のコア部片
の少なくとも前記平坦部表面の加工変質層をエツチング
により除去する第２工程と、前記第２工程を終った２個
のコア部片の前記ギャップ突き合せ面側の全面上に高透
磁率、高飽和磁束密度の磁性合金膜を所定の厚さに形成
する第３工程と、前記第３工程を終った２個のコア部片
の前記磁性合金膜上に前記コア部片の先細り溝上の該磁
性合金膜部分に残っている該先細り溝とほぼ同形の溝が
少なくとも埋まる程度に、前記一方のコア部片のコイル
巻線窓用溝部分を除いて非磁性絶縁材からなる充填層を
形成する第４工程と、前記第４工程を終った２個のコア
部片の前記充填層およびその下の前記磁性合金膜を前記
コア部片の平坦部上の該磁性合金膜の幅が所定のトラッ
ク幅を有する細長い作動ギャップ対向面となるまで研削
、研摩する第５工程と、前記第５工程を終った２個のコ
ア部片の何れか一方の前記作動ギャップ対向面側の全面
上に所定厚さの非磁性絶縁層からなる作動ギャップ形成
層を形成する第６エ程と、前記第６エ程を終った２個の
コア部片を前記磁性合金膜の作動ギャップ対向面同志を
前記作動ギャップ形成層を介して相対峙させて互いに接
合して一体化する第７エ程と、前記第７エ程を終って一
体化されたコア部片を前記コア部片の平坦部両側の前記
先細り溝の底部を通り、前記コア部片のギャップ突き合
せ面に垂直な面で切断して少なくとも１個の磁気ヘッド
を得る第８工程とを含む工程からなる。

また、前記第３工程における前記磁性合金膜形成後に、
または、前記第４工程における前記充填層形成時に同時
に、もしくは、前記第６エ程における前記コア部片同志
の接合時に同時に前記コア部片に磁界中熱処理を施す工
程が付加される。

他の製造方法としては、高透磁率フェライトからなる２
個の所定寸法を有する直方体状コア部片の一方のギャッ
プ突き合せ面となる面（以下、ギャップ突き合せ面と略
称する。）の所定位置に該突き合せ面の所定の一辺と平
行に所定の深さと形状を有するコイル巻線窓用溝を形成
した後、前記２個のコア部片のギャップ突き合せ面に該
ギャップ突き合せ面の前記所定の一辺と直角な辺に平行
に所定のトラック幅より狭い所定の幅をもち、所定の間
隔で配列された複数の平坦部を残して、該平坦部に挟ま
れ°、前記コイル巻線窓用溝の深さより浅い所定深さを
有する先細り溝を形成する第１工程と、前記第１工程を
終った２個のコア部片の少なくとも前記平坦部表面の加
工変質層をエツチングにより除去する第２工程と、前記
第２工程を終った２個のコア部片の前記ギャップ突き合
せ面側の全面上に高透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金
膜を所定の厚さに形成する第３工程と、前記第３工程を
終った２個のコア部片の前記磁性合金膜上に前記コア部
片の先細り溝上の該磁性合金膜部分に残っている該先細
り溝とほぼ同形の溝が少なくとも埋まる程度に、前記一
方のコア部片のコイル巻ｇ窓用溝部分を除いて非磁性絶
縁材からなる充填層を形成する第４工程と、前記第４工
程を終った２個のコア部片の前記充填層およびその下の
前記磁性合金膜を前記コア部片の平坦部上の該磁性合金
膜の幅が所定のトラック幅を有する作動ギャップ対向面
となるまで研削、研摩する第５工程と、前記第５工程を
終った２個のコア部片の何れか一方の前記作動ギャップ
対向面側の全面上に所定厚さの非磁性絶縁層からなる作
動ギャップ形成層を形成する第６エ程と、前記第６エ程
を終った２個のコア部片を前記磁性合金膜の作動ギャッ
プ対向面同志を前記作動ギャップ形成層を介して相対峙
させて互いに接合して−・体化する第７エ程と、前記第
７エ程を終って一体化されたコア部片を前記コア部片の
平坦部両側の前記先細り溝の底部を通り、前記コア部片
のギャップ突き合せ面に垂直な面で切断して少なくとも
１個の磁気ヘッドを得る第８工程とを含む工程からなる
。さらに好適には、前記第３工程における前記磁性合金
膜形成後に、または、前記第４工程における前記充填層
形成時に同時に、もしくは、前記第６エ程における前記
コア部片同志の接合時に同時に前記コア部片に磁界中熱
処理を施す工程が付加される。

さらに、本発明は高透磁率フェライトからなる２個の所
定寸法を有する直方体状コア部片のそれぞれのギャップ
突き合せ面（以下、ギャップ突き合せ面と略称する。）
に所定のトラック幅より狭い所定の幅をもち、所定間隔
で該ギャップ突き合せ面の所定の一辺に平行に配列され
た複数の平板部に残して、該平板部に挟まれた所定の深
さの先細り溝を形成する第１工程と、前記第１工程を終
った２個のコア部片の少なくとも前記平坦部表面の加工
変質層をエツチングにより除去する第２工程と、前記第
２工程を終った２個のコア部片の前記ギャップ突き合せ
面側の全面上に高透磁率で前記フェライトより高い飽和
磁束密度をもつ磁性合金膜を所定の厚さに形成する第３
工程と、前記第３工程を終った２個のコア部片の前記磁
性合金膜上に前記コア部片の先細り溝上の該磁性合金膜
部分に残っている該先細り溝とほぼ同形の溝が少なくと
も埋まる程度に非磁性絶縁材からなる充填層を形成した
後、該充填層およびその下の磁性合金膜を前記コア部片
の平坦部上のＭ磁性合金膜の幅が所定のトラック幅を有
する作動ギャップ対向面となるまで研削、研摩する第４
工程と、前記第４工桓を終った２個のコア部片の一方の
前記ギャップ突き合せ面の所定位置に前記平坦部と直角
に前記先細り溝より所定寸法だけ深い所定形状のコイル
巻線窓用溝を形成する第５］−程と、前記第５工程を終
った２個のコア部片の何れが一方の前記作動ギャップ対
向面側の全面上に所定厚さの非磁性絶縁層からなる作動
ギャップ形成層を形成する第６エ程と、前記第６エ程を
終った２個のコア部片を前記磁性合金膜の作動ギャップ
対向面同志を前記作動ギャップ形成層を介して相対峙さ
せて互いに接合して一体化する第７エ程と、前記第７エ
程を終って一体化されたコア部片を前記コア部片の平坦
部両側の前記先細り溝の底部を通り、前記コア部片のギ
ャップ突き合せ面に垂直な面で切断して少なくとも１個
の磁気ヘッドを得る第８工程とを含む工程からなる。

〔発明の実施例〕

以下に本発明を実施例によって詳細に説明する。

第２図（イ）〜（ホ）によって本発明の磁気ヘッドの製
造工程の一実施例を説明する。

（ｉ）第２図（イ）に示すように、高透磁率フェライト
からなる２個の直方体状コア部片２０　（２０’　）の
ギャップ突き合せ面となる一面（以下、ギャップ突き合
せ面と呼ぶ。）に所定トラック幅より狭い所定の幅をも
ち、所定間隔で該ギャップ突き合せ面の所定の一辺に平
行に配列された複数の平坦部２１を残して、該平坦部２
１に挟まれたＶ字状もしくは逆台形状の複数の先細り溝
２２を設ける工程である。ここで高透磁率フェライトと
しては、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト
等の単結晶もしくは多結晶が用いられ、磁気へラドコア
の大半を構成する。溝２２は先端が逆Ｖ字状もしくは台
形状に成形されたメタルボンド砥石もしくはレジンボン
ド砥石が用いられ、高速ダイサ等によって加工される。

（ｉｉ）第２図（ロ）に示すように、前記工程（ｉ）と
同様な工程で溝２２を形成した一方のコア部片２０’　
に溝２２と直角に該溝２２より深い所定形状のコイル巻
線用窓となる溝２３を形成する工程である。

コイル巻線用窓となる溝２３は工程（１）の前に形成し
ておいてもよい。

（ｉｉｉ）工程（ｉ）、工程（ｉｉ）を終了した第２図
の（イ）、（ロ）に示したコア部片２０．２０′の少な
くとも溝２２側の面に残存している加工変質層を除去す
る工程である。加工変質層の除去は燐酸（例えば無水燐
酸：水＝１：１）もしくは塩酸（例えば濃塩酸：水＝１
：１）溶液等による化学エツチングによって行なわれる
。エツチング量は厚さ０．１〜１岬で、これにより加工
変質層が除去され、電子線回折像がスポット状となり、
フェライト表面の結晶性が回復する。

また、他の方法としてはイオンエツチング法を挙げるこ
とができる。イオンエツチング法は、次の工程を考慮し
た場合、逆スパツタリング法が適している。このように
すれば、磁性合金膜を形成するスパッタリング装置に、
逆スパツタリング機構を有する装置で行なえば同一装置
内で連続的に処理できるため生産性に優れている。逆ス
パツタリングによるエツチング処理は、例えば、電力密
度Ｐｆ：　０．３−０．８Ｗ／ａ＃アルゴン圧力ＰＡＩ
−：　３〜８　Ｘ　１Ｏ−３Ｔｏｒｒ基板温度　：１０
０〜１５０℃ 電極間距離＝５０〜８０ＩＩＩ１１ エツチング速度：　５０　Ａ　／　ｌｌ１ｉｎ　〜１０
０　Ａ　／　ｍｉｎ除去量　　：０．１〜０　、５１ｍ が適している。特に注意すべき点はあまり大きな電力で
エツチングしないことである。大きい電力でエツチング
すると新たにＡｒイオンの打込みによって変質層が形成
されるため好ましくない。−（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）で
、溝２２の側の表面の加工変質層を除去したコア部片２
０．２０’の表面上にコア部片を構成するフェライトよ
り飽和磁束密度の高い磁性合金膜２４をスパッタリング
法によって、例えば、図（ハ）に側面図で示すように、
所定厚さだけ堆積する工程である。この堆積によっても
コア部片に形成した溝２２上の磁性合金膜２４の部分に
は同形の溝２５が残存している。なお、この堆積によっ
て、もう一方のコア部片２０′のコイル巻線用の窓とな
る溝２３の表面上にも、後に図（ホ）で示すように、磁
性合金膜２４′が堆積される。磁性合金膜の堆積法は他
の真空蒸着、イオンブレーティング、化学蒸着あるいは
メッキ法等でも可能である。

上記のように、フェライトコア部片の被加工面の加工変
質層を除去した後に、磁性合金膜を堆積することによっ
て、フェライトと磁性合金膜を磁気的にほぼ完全に連結
させることができる。

（Ｖ）工程（ｉｖ　）で磁性合金膜２４を堆積して得た
コア部片２０．２０′　において、コア部片２０′のコ
イル巻線用窓となる溝２３の部分を除いて、残存してい
る溝２５が埋まる程度に非磁性絶縁材（低融点ガラス等
）からなる充填層２６を磁性合金膜２４上に形成し、不
要の非磁性層２６および磁性合金膜２４を研削、研摩し
て除去し、例えば、図（ニ）に示すように、磁性合金膜
２４の平坦部の幅が所要のトラック幅１ｕを有する作動
ギャップ対向面となって磁性合金膜２４の平坦部が表面
に露呈するようにする工程である。平滑なギャップ形成
面を得るために、最終仕上げ面は鏡面研摩面とする。

（ｖｉ）工程（ｖ）で得られたコア部片２０．２０’の
少なくとも一方のギャップ形成面上に、ＳｉＯ２、ガラ
ス等の非磁性絶縁材層を所望の厚さにスパッタリングに
よって形成してギャップ形成層とし、コア部片２０．２
０’　を互いの作動ギャップ対向面が一致するように突
き合せて、図（ホ）に示すように、接合する工程である
。接合は溝２５に充填された非磁性材充填層２６がガラ
スからなるものであれば、コア部片２０．２０′　を加
圧しながら加熱することによって、ガラスを軟化、溶融
して行なわれる。

また、コイル巻線用窓の一部もしくはコア部片の後部接
合部で接合してもよい。つぎに、磁性合金膜の作動ギャ
ップ対向面が中央に位置するようにして、その両側の溝
の最低部近傍から所定のコア幅（一点鎖線）で切断する
ことによって、第３図に斜視図で示したような本発明の
一実施例である磁気ヘッドが得られる。第３図において
、２０．２０′はフェライトからなる磁気コア部片、２
４．２４′　は少なくとも作動ギャップ２７近傍部に形
成された高飽和磁束密度の磁性合金膜、２７は作動ギャ
ップ、２６．２６′は一対の磁気コア部片２０．２０′
　を接合するための非磁性部材層、１．はトラック幅、
Ｔはコア幅である。なお、磁性合金膜２４．２４′は図
示のようにコイル巻線用窓を周回していてもよく、また
、周回せず、作動ギャップ近傍部のみにあってもよい。

本発明の磁気ヘッドの特徴は、磁気記録媒体対向面にお
いて、トラック幅ｔｕに対応する部分のフェライトコア
部片２０．２０′　と磁性合金膜２４．２４′の接合部
がトラック幅ｔｕに対応する部分で作動ギャップ２７と
平行となり、他の部分が作動ギャップ２７と斜交した構
造となっている。このようにすることによって、トラッ
ク幅以外の斜交エツジ部をオートトラッキング用の長波
長信号の検出に用いることができる。

次に、コア部片用フェライト、および磁性合金膜の好適
な磁気特性の条件についての一例について述べる。

フェライトはＭｎ−Ｚｎフェライトで、飽和磁束密度Ｂ
Ｓが４８００ガウス、比透磁率μの周波数特性は第４図
の曲線３０で示す特性のものを用いた。これに対して磁
性合金膜はＣｏＩＩＧＮｂ、□Ｚｒ、（原子％）からな
る膜厚１０−の非晶質磁性合金膜で、飽和磁束密度Ｂ、
が９５００ガウス、比透磁率μの周波数特性は第４図の
曲線３１で示す特性のものを用いた。

本実施例における磁性合金の透磁率はフェライトのそれ
より高く、その差が約２００〜３００である。この場合
には、フェライトと磁性合金の接合部における疑似ギャ
ップ作用は問題にならないことがわかった。また、フェ
ライトの比透磁率が５　Ｍ　Ｈｚで８００〜１０００程
度の時、磁性合金の透磁率が１０００〜２０００程度ま
で問題となるような疑似ギャップ作用は起っていない。

逆に磁性合金の比透磁率がフェライトより低い場合（特
に５００以下で）、疑似ギャップが現われることがわか
った。

磁性合金膜の比透磁率の制御は磁界中熱処理。

あるいは磁界中スパッタリングによって行なわれ、磁気
異方性を制御することによって比透磁率を最適化するこ
とができる。例えば、第５図はスパッタしたままのＧｏ
、、Ｎｂ１□Ｚｒ、膜の磁化困難軸方向に磁界を印加し
ながら熱処理時間を変えた時の異方性磁界Ｈにの変化と
５ＭＨｚにおける比透磁率μの変化を示す。曲線３２．
３２′はスパッタしたままのＣｏ、６Ｎｂ１□Ｚｒ３膜
の磁化困難軸方向に５００００　ｅの外部磁界を印加し
て、３００℃で熱処理した時の熱処理時間による異方性
磁界ＨＫと比透磁率μの変化を示す。同図から、熱処理
時間が増すと共に異方性磁界ＨＫは負から正に変り、こ
れに対して比透磁率μはＨにが零となる近辺で最大とな
る。

したがって、磁界と熱処理温度と熱処理時間によって比
透磁率を最適化することができる。このような工程は先
に説明した本発明の磁気ヘッドの製造工程における第（
■）工程（第２図の（ハ）の後、または、第（ｉｖ）工
程（第２図の（ニ））中、もしくは第（ｖｉ）工程（第
２図の（ホ））中に行なうことができる。

第５図の曲線３３．３３′は他の実施例を示す。スバッ
タにより形成したＣ　ｏ　Ｎ　ｂ　Ｚ　ｒ膜を一度４７
０℃で無磁界熱処理を行ない、その後３５０℃で磁界中
熱処理を行なった時の異方性磁界ＨＫと比透磁率μの変
化を示す。この時の特徴は、−産熱処理を行なった後、
磁界中熱処理を行なうことによって、熱処理時間による
Ｈにおよびμの変化が鈍くなるため、所定のμを得る制
御が容易となる。このような工程は先に説明した本発明
の磁気ヘッドの製造工程における第（Ｖ）工程（第２図
の（ホ））のコア部片同志の接合後に行なうことができ
る。

さらに、上記磁性合金膜は磁化困難軸方向において比透
磁率が最大となるため、該磁化困難軸方向をフェライト
との接合面に垂直な方向もしくは作動ギャップ対向面方
向に配置することによって、フェライトと磁性合金膜と
の境界部における疑似ギャップ作用がなくなり、優れた
記録再生特性を得ることができる。

第６図は本発明の複合材を用いた磁気ヘッドの記録再生
−周波数特性（曲線３４）と従来の複合材を用いた磁気
ヘッドの記録再生−周波数特性（曲線３５）を比較した
図である。同図から明らかなように、従来の複合材を用
いた磁気ヘッドで記録再生を行なうと、記録媒体対向面
に現われる接合境界部で疑似ギャップ作用が起こり、再
生出方に異常が生じる。一方、本発明の磁気ヘッドによ
れば、接合境界部が作動ギャップと平行となっていても
、曲線３４に再生出力を示すように全く疑似ギャップ作
用が現われていない。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば異種磁性材料を接
合してなる磁気ヘッドにおいて、磁束のろうえいがなく
なり、磁気記録媒体対向面にその接合部が現われても疑
似ギャップ作用がなくなるため、記録再生特性の優れた
磁気ヘッドを得ることができる。

具体的には、フェライト上に形成したフェライトより高
飽和磁束密度の磁性合金膜を有する一対のコア部片が該
磁性合金膜を非磁性絶縁膜を介して対向させて接合され
、該磁性合金膜対向部で作動ギャップが形成されてなる
磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金との接合境界部の前
記フェライトの加工変質層を除去すること、もしくは前
記磁性合金膜の比透磁率を前記フェライトの比透磁率と
同等もしくは高くしておくことによって、前記境界接合
部における疑似ギャップ作用のない磁気ヘッドを製造す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のフェライトコアと磁性合金膜からなる複
合材を用いた磁気ヘッドの上面図および側面図、第２図
（イ）〜（ホ）は本発明の複合材を用いた磁気ヘッドの
製造工程の一実施例の説明図、第３図は第２図の製造工
程によって得られた本発明の磁気ヘッドを示す斜視図、
第４図は本発明に使用するフェライトと磁性合金膜の比
透磁率の周波数特性の一例を示す図、第５図は本発明に
用いる磁性合金膜を磁界中熱処理した時の異方性磁界Ｈ
におよび５　Ｍ　Ｈｚにおける比透磁率の変化の一例を
示す図、第６図は本発明による磁気ヘッドと従来の磁気
ヘッドの各周波数における再生出力特性を示す図である
。 図において、 ２０．２０′・・・フェライトコア部片２１・・・コア
部片の平板部 ２２・・・コア部片に設けた７字状溝 ２３・・・コイル巻線用窓となる溝 ２４．２４′・・・磁性合金膜 ２６・・・非磁性材充填層 ２７・・・作動ギャップ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）高透磁率フェライトからなり、ギャップ対向面が
   台形状に突出している突出部を有する２個の直方体状コ
   ア部片のそれぞれの該突出部の少なくともギャップ対向
   面上に該フェライトより飽和磁束密度の高い磁性合金膜
   が被着され、前記両コア部片の突出部先端の平坦部上の
   前記磁性合金膜面が作動ギャップ対向面となり、該作動
   ギャップ対向面同志が非磁性絶縁層からなる作動ギャッ
   プ形成層を介して相対峙して磁気回路を構成してなる磁
   気ヘッドにおいて、前記フェライトからなるコア部片の
   前記磁性合金膜との接合面の加工変質層が除去されてい
   ることを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）高透磁率フェライトからなり、ギャップ対向面が
   台形状に突出している突出部を有する２個の直方体状コ
   ア部片のそれぞれの該突出部の少なくともギャップ対向
   面上に該フェライトより飽和磁束密度の高い磁性合金膜
   が被着され、前記両コア部片の突出部先端の平坦部上の
   前記磁性合金膜面が作動ギャップ対向面となり、該作動
   ギャップ対向面同志が非磁性絶縁層からなる作動ギャッ
   プ形成層を介して相対峙して磁気回路を構成してなる磁
   気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜の透磁率が前記フェ
   ライトからなるコア部片の透磁率と同等以上であること
   を特徴とする磁気ヘッド。
3. （３）特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて
   、前記磁性合金膜の透磁率が前記フェライトからなるコ
   ア部片の透磁率と同等以上であることを特徴とする磁気
   ヘッド。
4. （４）特許請求の範囲第１項もしくは第３項記載の磁気
   ヘッドにおいて、少なくとも前記作動ギャップ近傍部の
   前記磁性合金膜の磁化困難軸方向を前記フェライトから
   なるコア部片と前記磁性合金膜との接合面と垂直な方向
   もしくは作動ギャップ方向に配置することを特徴とする
   磁気ヘッド。