JPH01264611A - 複合型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＶ　ＴＲ等の高周波信号の記録再生に適した磁
気ヘッドに係り、特に高保磁力記録媒体に対して好適な
複合型磁気ヘッドの製造方法に関する。

〔従来の技術〕

高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力Ｈｃを大きくすれば有利であることはよく知られて
いるが、高保磁力の磁気記録媒体６一 に情報を記録するためには、強い磁場が必要となる。と
ころが、現在磁気ヘッドに用いられているフェライト材
は、その飽和磁束密度％ｓが４０００〜５０００ガウス
程度であるため、得られた記録磁界の強さに限度があり
、磁気記録媒体の保磁力Ｈｃが１０００エルステツ１へ
を越える場合には、？ｒＦ２ｋｋか不十分になるという
欠点がある。

一方、金属磁性材料で総称されるＦｅ−ＡＱ−８ｉ合金
（センダストと称さ九でいる）、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パー
マロイ）等の結晶質磁性合金、あるいは、非晶質磁性合
金を用いた磁気ヘッドは、一般にフェライト材より飽和
磁束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイズが低いとい
う優れた特性を有する。しかし、一般に使用される１−
ラック幅（１０μｎ１以」二）の厚みでは渦電流損失に
よりビデオ周波数領域での実効透磁率がフェライＩ・よ
り一 低下し、再生能率が低くなる欠点を有する。ます、耐摩
耗性に関してはフェライトより数段劣る。

そこで、上記のような問題を解決するために、フェライ
トと金属磁性材を組み合せて両者の良い点を利用した複
合型磁気が提案されている。

たとえば、第１図にその磁気ヘッドコアの斜視図を示す
ごとく、コア部１０が高透磁率フェライ１へからなり、
記録作用の主要部となる作動ギャップ近傍部１１が物理
蒸着によって形成された金属磁性材からなる複合型磁気
ヘッドが提案されている。さらに、高密度記録用磁気ヘ
ッドに対しては狭トラック化のために、作動ギャップ近
傍にトラック幅絞り用の切り欠き溝１２を設け、ここに
補強用の非磁性材が充填されている。１−３はコイル巻
線用の窓である。第２図は上記従来の磁気ヘッドの記録
媒体対向面の平面図を示したものである。

ここで７１９４１〜３７部１０．１０’　と金属磁性Ｈ
部１１．１１’　との結合境界部３４．１４’　が疑似
の作動ギャップとして作用して記録再生特性を損なう欠
点がある。特に、結合境界部１４．　　’１４’　と作
動ギャップ１５が平行になるとその境界部で相当量の信
号を拾うことになり、コンタ効果が激しいという欠点を
有する。

また、コンタ効果を除くためにフェライトコア部１０．
１０’　と金属磁性相部］１．１１’　の結合境界部１
４．１４’　に適当な凹凸を設ける方法が知られている
。しかし、コンタ−効果を完全除去することは難かしい
。

他の従来例としては第３図に示すような構造のヘッドが
知られている。該ヘッドは非磁性基板２０の上に高飽和
磁束密度を有する金属磁性材２１をスパッタリングや真
空蒸着等の物理蒸着によってトラック幅に等しい膜厚に
形成し、その上に非磁性材２０’　＆ガラス薄膜で接着
した後、２等分してギャップ突き合せ面をラップし、コ
イル巻線窓２２を形成し、ギャップ突き合せ面２３に規
定の非磁性膜を介して接合することによって得られる。

この構造はギャップ形成法に問題があり、非能率的で、
ギャップ長精度も得難く、歩留が悪く生産性に欠点を持
つ。

特開昭５６−１６９２１４号には、第１１図（ニ）、（
ホ）に示すような八ツ１へが開示されている。該ヘッド
は第１１図（イ）に示すように、第１１図（ハ）に示す
巻線窓１３より上の部分にＱ− 三角形が連続した屋根形のフェライトブロック１００を
用意し、その屋根形の部分にセンダスト合金のような磁
性合金１１をスパッタリング法等で被着形成し、第１１
図（ロ）に示すような複合磁性ブロックとする、ついで
磁性合金１１のみからなる屋根形の頂上の部分を研摩し
て八ツｌくギャップ突き合わせ面を形成し、ここに酸化
珪素膜を被着形成してヘッドチップの一方をなす複合磁
性ブロック１００ａを製作する。次に第１１聞（ハ）に
示すように巻線窓１３が設けられたチップの他乍 抱をなす複合磁性ブロック］００　ｂと上述の１００ａ
を突き合わせ接着する。その後第１１図（ハ〕の点線で
示す部分を切断し、第１１図（ニ）（ホ）で示すごとき
複合磁気ヘッドとする。

ド このように製作された複合磁気へンは、フェライトコア
部１０．１０’　と磁性合金１１との接合面の方向と、
作動ギャップ］５のプノ向が斜交するため不所望の等価
ヘッドギャップに起因する特性の劣化を低減できる。

〔発明か解決しようとする課題〕

本発明のｌ」的は、高保持力記録媒体にも優れた記録再
生特性を有する複合型磁気ヘッドを容易かつ確実に製造
しうる複合型磁気ヘッドの製造方法を提供することにあ
る。

〔課題を解決するための手段〕

上述した目的を達成するために本発明の複合型磁気ヘッ
ドの製造方法は、１）基体ブロックのギャップ形成側の
面に、トラック幅より狭い幅の先端部を有する突起部を
挟持するように隣接する２本の溝を１組とする少なくと
も１組の溝を平行に設ける工程、ｉｉ　）工程１）を終
了した前記基体ブロックのギャップ形成面の少なくとも
前記溝面３４二を除去し、所定のトラック幅を有するギ
ャップ形成面を露呈せしめる工程、■）工程ｉｖ）を終
了したブロックを一対用意する工程、ｖｉ）工程Ｖ）を
終了した前記１対のブロックの少なくとも一方のギャッ
プ形成側の面に所要の厚さの非磁性層を形成する工程、
軸）工程ｖｉ）を終了した前記１対のブロックのギャッ
プ形成面を相対峙せしめ、互いに接合して一体化する」
〕稈、および■）接合された前記ブロックを所定の位置
にて切断し、少なくとも１個の磁気コアを得る工程を有
することを特徴どする。

工程１）において、前記溝を、前記ブロックのギャップ
形成側の面の一つの稜から他の稜しこかけて縦断するよ
うに設けてもよいが、−綾部側にのみ設けてもよい。ま
た、工程ｉ）において、前記隣接する溝間の突起部の先
端部には平坦面が存在するように加工してもよいし、平
坦面が存在しないように加工してもよい。さらにまた、
工程」）において、前記突起部の先端が前記各組の溝に
隣接する平坦部と同一レベルになるようにしてもよく、
あるいは該隣接する平坦部より低くなるようにしてもよ
い。隣接平坦部より低くする場合には突起部の先端と隣
接平坦部とのレベル差は前記高飽和磁束密度の磁性体の
厚さ以下、すなわちトラック幅の半分以下とする。その
ようにしないと、１１を記磁性体を突起部に被着後も前
記レベル差が存在することになり、前記工程ｖｉｉ）が
困難となる。

本発明で製造される複合型磁気ヘッドはコアの占める大
部分は高透磁率のＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライ１−あるい
はＮｊ−Ｚｎフェライトのバルク材からなり、作動ギャ
ップ部を構成する部分およびその近傍の大部分は高飽和
磁束密度を有する磁性材、たとえば、Ｆｅ−８ｉ系、Ｆ
ｅ−Ａｆｌ−８ｉ系、Ｎｉ−Ｆｅ系などの結晶質合金あ
るいは非晶質合金からなり、スパッタリング、真空蒸着
等の物理蒸着によって得られる。場合によってはケミカ
ル蒸着、メツキ等によっても可能である。また、高飽和
磁束密度の磁性体は堆積可能なものであれば金属磁性体
以外のものでもよい。

前述のように、本発明で製造される磁気ヘッドは、高透
磁率フェライトブロックと該フェライトよりも飽和磁束
密度の大きい磁性体とからなり、該フェライトブロック
のギャップ突き合せ面となる面にトラック幅より狭い幅
のフェライト突起部を残して隣接する溝を形成し、該突
起部の両側面に前記高飽和磁束密度の磁性体を堆積し、
非磁性ギャップ材を介して相対峙してなる構造を有する
複合型磁気ヘッドである。

また、本発明においてはｌへラック幅に対して芯となる
突起部が作動ギャップより離れるにしたがって幅広にな
るように加工することによって溝側面に高飽和磁束密度
の磁性体を効率よく堆積することができ、基体ブロック
との接触面積を広くすることができるので得られるヘッ
ド特性が優れている。

その他、本発明の複合型磁気ヘッドの製造方法において
、本明細書に記載していないことは、すべて従来技術を
踏襲するものである。

突起部の頂角が大き過ぎるとトラック幅に誤差を生じ易
くなり、小さ過ぎると突起部が機械的に弱くなるので、
突起部の頂角（または両側面により形成される角）は４
５°〜９０’が好ましい。

しかし、この角度範囲外でも製造可能であり、これに限
定されない。前記基体ブロックは通常、Ｍ　ｎ　−Ｚ　
ｎフェライト・又はＮｉ−Ｚｎｎフジイ１−とする。ま
た、前記磁性体は前記基体ブロックよりも飽和磁束密度
が高く且つ磁歪が０附近の高透磁率材料であれば何でも
よいが、代表的なものとしては周知のＦｅ　　Ｓ　１合
金、Ｆ”　（−３−Ａ　Ｑ　−８１合金（いわゆるセン
ゲス１−系合金）、Ｎｉ−Ｆｃ合金（いわゆるパーマロ
イ系合金）および各種の高透磁率非晶合金等を挙げるこ
とができる。また、例えばＳ】ｎ２．Ａｌ２Ｏ３のよう
な非磁性体からなる厚さ１００人〜１μｍの非磁性体層
と前記高飽和磁束密度磁性体層とを交互にＭＷＩした磁
性体でもよい。なお、このように、磁性体層と非磁性体
層を交互に積層することにより磁気特性を向Ｆ−せしめ
ることができる。作動ギャップ形成面は、ギヤノブ近傍
の飽和磁束密度を高めるため、前記磁性体のみで形成す
るのが望ましいか、前記磁性体と前記ブロックの両者で
形成してもフェライＩ・のみで形成する従来のものに比
較して本発明の効果は認められる。ブロック突起部の両
側面上の前記磁性体膜とコア側面との間には非磁性材料
が充作動ギャップ形成面が前記高飽和磁束へ度の磁性体
のみからなる場合、前記突起部における先端部の１へラ
ック幅方向の幅はトラック幅のコ／２以下とするのが好
ましく、先端部の幅を０にする、即ち先端部を角形にし
てもよい。このようにすることによって、コンタ効果が
ほとんど問題にならない程度まで低下する。また前記先
端部のブロック面が平坦にならないように加工すればコ
ンタ効果の面でさらに好ましい結果が得られる。

作動ギャップ形成面が前記高飽和磁束密度の磁性体と前
記ブロックの両者からなる場合、作動ギャップ近傍の飽
和磁束密度を高めるため、ギャップ形成面における前記
磁性体のトラック幅方向の幅の合計をブロックの幅の２
倍以北とすることが望ましい。

前記ブロックの突起部の両側面上に被着された前記高飽
和磁束密度の磁性体の厚さは、通常、トラック幅の１／
２以−トとする。これは、作動ギャップ部において記録
媒♂褐面に露出している前記磁性体のトラック幅方向の
幅が、突起部の両側面に被着された磁性体厚さの和もし
くはそれ以上の一１５＝ 値となるからである。前記ブロック突起部の先端部が角
形の場合には、作動ギャップ部の幅はほぼ前記磁性体の
厚さの和になるので、磁性体の厚さは１〜ラック幅のほ
ぼ１／２にするのがよい。

本発明においては、前記磁性体はブロック突起部の両側
面に被着せしめるのであり、一方の側面のみに被着した
のでは該磁性体と該ブロックとの接合面積が小さくなり
磁気回路の磁気抵抗が増大し、また被着する該磁性体の
厚さをトラック幅程度まで厚くしなければならず、さら
には一方の側面のみに被着するために工程が複雑になり
、好ましくない。

なお、以」二述べた磁気ヘラ１〜は、コイル巻線窓以外
は実質的に同じ上記構造の２個のコア半休からなるもの
であるが、これを一方のコア半休のみとして他方につい
ては、作動ギャップ形成面に基体ブロックより高飽和磁
束密度の第２の磁性体が存在することを除いては異なる
構造としてもよい。

例えば、非磁性材料からなる作動ギャップを介して相対
峙している高飽和磁束密度性体のうち、−方は上記構造
の複合体においてブロックに複合してなる第コ−の高飽
和磁束密度磁性体で、他方はこの複合材の上に堆積され
た第２の高飽和磁束密度磁性体であってもよい。この場
合、巻線コイルは薄膜作成技術によって設けることが可
能である。

両磁性体の利料は同一であっても、異なっていてもよい
。

〔作用〕

本発明の複合型磁気ヘッドの製造方法では、基体コアの
突起部表面に形成された磁性体の不要部を除去してギャ
ップ形成面を露呈せしめるため、Ｉ・ラック中冨を自在
に調整することができる。また−枚の金属磁性体膜を作
動ギャップ部で２倍に利用しているので金属磁性体膜の
堆積時間が半分で済み量産性がある。さらに、トラック
幅決め加工の時に金属磁性体膜の側面を砥石で加工する
必要がなく、加工部のチッピングやパリおよび膜のはく
離等の問題がない。しかも基体ブロックの溝部に非磁性
体を充填して補強してから突起部の先端を加工している
ので破損がなく、高精度のトラッり中冨力１１］二がで
きる。

〔実施例〕

以下本発明の前記複合型磁気ヘッドの種々の製造方法を
実施例によって詳細に説明する。

実施例１ 本発明の第１の製造方法の各」工程の説明図を第８図（
イ）〜（１月に示す。

ｌ）第８図（イ）は高透磁率フェライトよりなるブロッ
ク４０のギャップ突き合せ面となる面４］にトラック幅
より狭い突起を残して隣接する２本の溝４２．４２′に
組とする複数組の溝を平行に設ける工程である。ここで
高透磁率フェライＩ−はＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト、
Ｎｉ−Ｚｎフェライトの単結晶あるいは多結晶からなり
、磁気コアの主要部を形成する。溝は先端が７字もしく
はＵ字状に成形されたメタルボンド砥石もしくはレジン
ボンド砥石が用いられ、高速ダイサ等によって加工され
る。また、溝４２゜４２′は２枚の砥石を重ね同時に加
］ニすることも可能である。第８図（ロ）は第８図（イ
）で示す工程で加工された溝４２．４２″の拡大側面を
示す（以下、第８図（イ）、第８図（ロ）等に対応する
二Ｉ−程を工程（イ）、］二工程口）等とする）。ここ
で、各組の溝の間に残された平坦部４３は後工程、たと
えば工程（ホ）の研磨や工程（チ）のフロックの接合時
における金属磁性体膜の補強部であり、基準面となる。

〕１）工程（ハ）は前記（イ）の工程で得られた溝部を
含めギャップ突き合せ面全面にフェライトより飽和磁束
密度の高い金属磁性体膜４４をスパッタリングによって
堆積させる］−程である。

金属磁性体はＦｅ−８ｉ　（Ｓ］６．５重量％）、Ｆｅ
−Ａｆｆ−８ｉ合金（センダスト）、Ｎ１−Ｆ　ｅ合金
（パーマロイ）等で代表される結晶質合金であり、非晶
質合金はＣｏ　−Ｆ　ｅ　−３］−Ｂ系で代表される周
知のメタル−メタロイド系合金やＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｍ
ｏ−Ｚ　ｒ等の周知のメタル−メタル系合金等が用いら
れる。堆積法は他に真空蒸着、イオンプレーテインク、
化学蒸着あるいはメツキ法等でも可能であるが、限られ
た金属しかできないことや組成変動が大きい等の難点が
あり、スパッタリング法が適している。また、スパッタ
リング法は付着強度が高く、溝部にも廻り込みがよいと
いう利点があり本発明法に対して適している。堆積する
金属磁性体の膜厚は所要のトラック幅の約１７２でよい
。したがって、従来法に比較して単一の磁性体膜でも渦
電流損失が低減できる。また、必要ならば、前述のよう
に非磁性物質を交互に積層した多層膜としてもよい。

ｉｉｉ）工程（ニ）は工程（ハ）で得られた金属磁性体
膜の上に少なくとも残りの溝部が埋まる程度に非磁性材
４５を充填する工程である。非磁性材４５はガラス、セ
ラミック系の無機接着材あるいは硬質の樹脂が用いられ
る。安定性面からガラスが適している。ガラス材は金属
磁性体膜４４が結晶質合金であれば作業温度が８００℃
以下の広い範囲で選ぶことが可能である。一方弁結晶質
合金の場合は少なくとも結晶化温度以Ｆのものが選ばれ
、作業温度が５００℃以下の低融点ガラスにする必要が
ある。

ｉｖ）工程（ボ）は工程（ニ）で得られたブロックの不
要の非磁性材４５および金属磁性体膜４４を除去し、所
要のトラック幅ｔの金属磁性体膜からなる作動ギャップ
形成面を露呈させる工程である。除去法は研削および研
磨によって行われ、ギャップ突き合せ面を得るため、最
終仕」二げは鏡面研磨面とする。鏡面研磨は前記トラッ
ク幅ｔが得られるまで行う。

■）工程くべ）は工程（ホ）で得られたブロック紮一対
用意し、少なくとも一方のブロック４０′にコイル巻線
用溝４６を形成し、次にギャップ形成面にＳ　ｉ　Ｏ２
、ガラス等非磁性材を所要の厚さにスパッタリングして
ギャップ形成膜とする工程である。

ｖｉ）工程（ト）は前記一対のブロック４０．４０’の
ギャップ突き台面を互いにトラック部が合うように突き
合せて加熱、加圧しながら接合一体化する工程である。

この場合、接合は溝に充填されている非磁性材４５がカ
ラスならばお互いのガラスによって行われ、樹脂を用い
た場合には別途コイル巻線窓の一部、および後部接合部
に切り溝を設けて樹脂によって行われる。

Ｖｌｌ）第８図（チ）は工程（Ｉ・）で得られた接合ブ
ロック４７の磁気テープ摺動面を示す。工程（チ）はト
ラック幅を中心にして点線で示す所要のコア幅Ｔになる
ように切断して複合型磁気パノ１−を複数個得る工程で
ある。場合によってはアジマス角だけ傾けて切断される
。このようにして、第８図（す）にその磁気テープ摺動
面を示すような構造の狭トラック複合型磁気へソトコア
が得られる。これにコイルを巻装することにより複合型
磁気ヘッドが得られる。

以１′：、本発明の磁気ヘラＩ・の製造方法によって得
られる複合型磁気ヘラ１〜について詳しく説明する。

第４図（ａ）、（ｂ）は上記した本発明の第１の実施例
によって製造された複合型磁気ヘッドの構造を示す斜視
図と平面図である。３０．３０’はトラック部および作
動ギャップ部を形成し、Ｉｎｉ飽和磁束密度の金属＆＆
ｆ１体からなり、Ｆｅ−３↓。

Ｆａ−Ａｎ−８ｉ、Ｎｉ−Ｆｅの結晶質合金もしくは非
晶質合金で構成されており、それぞれ、はぼ磁歪零近傍
の組成を有するものである。一方、３］、３１’　はＭ
ｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ　−χｎフェライト等の高透
磁率のバルク材からなり、前記金属磁性体と磁気的に連
結されている。また、一対の金属磁性体の突き合せ部に
は所定の非磁性膜が形成され１作動ギャップ３２を構成
している。

なお、トラック幅はコア幅より狭くなっており、Ｉ・ラ
ック幅を決めるための切り溝が設けである。

この切り溝ばあらかしめフェライトブロックのギャップ
形成側の而にトラック輻より狭い幅のフェライト部を残
してその両側部にコア前部から後部まで形成される。こ
の残されたフェライト突起部の側部に向けてスパッタリ
ングあるいは真空蒸着等の薄膜形成技術によって１涌記
金属磁性材料３０゜３０’　が付着される。なお、溝部
にはガラス、セラミック、樹脂等の非磁性材３３．３３
″が補強材として充填されてなる。３４はコイル巻線用
窓である。また、第４図（ｂ）は磁気テープ摺動面の拡
大図を示す。本発明においては、フェライト突起部３５
．３５″の両側部に金属磁性体膜３０゜３０’　を付着
する。そのため金属磁性体の厚みはトラック幅ｔの半分
程度ですみ、膜形成時間が短縮される。第４図（ｂ）の
磁気テープ摺動面において、フェライト突起部３５．３
５’　か作動ギャップ３２から離れるにしたがって広く
なる形状にすればコア半休の時に作動ギャップ面側から
金属磁性体膜をスパッタリングすれば効率良く膜形成が
できる。また、前記金属磁性体膜が２本に分割されてい
るので単層膜でも渦電流損失の影響を低減できる。さら
に、フェライト部と金属磁性体膜の接合部の形状が作動
ギャップ３２と平行部を持たない構造になっているため
コンタ効果による特性劣化の心配がない。さらに、フェ
ライト突起部３５．３５’　が金属磁性体膜の芯となっ
ており、しかも、作動ギャップの近傍まであるので耐摩
耗性が保障され、機械的強度も高いものである。さ＝２
４− 有する磁気ヘッドに適しているのは、金属磁性体膜を付
着した後にＩ・ラック幅規制用の切り欠き溝加工を不用
とするものであり、加工中におこる膜のはく離の問題が
解消される。

実施例２ 次に本発明の他の実施例を第９図に示す。第８図（イ）
〜（す）に示す実施例では工程（イ）において溝をギャ
ップ形成面にコア後部（磁気記録媒体対向面と反対の側
）まで通し形成されており、−度に大ブロックに溝が形
成でき、後で小ブロックに分割すればよく、この点て量
産に適しているが、トラック幅が狭くなった場合に後部
コア部の接触面積が狭くコア後部の磁気抵抗が高くなっ
てしまい好ましくない。また、前部（磁気記録媒体対向
面側）でトラック幅の突き合せを行っても後部に合せず
れが起り１０ミクロン以下のトラック幅ではほとんど磁
性体部での接触部がなくなってしまう場合がある。この
問題に対しては、第９図に示すように高透磁率フェライ
トブロック４０の稜部に切り欠き溝４２．４２’　を形
成することによって解決している。以後は第８図（ハ）
以後の工程により磁気ヘッドを得るものである。完成ヘ
ッドは第５図に示すような複合型磁気ヘッドが得られる
。

第５図（ａ）、（ｂ）は本発明の第２の実施例によって
製造された複合型磁気ヘッドの構造を示す斜視図と平面
図である。概略は切り込み溝を磁気へラドコアの前部す
なわち記録媒体対向面側のみに形成し、後部はフェライ
トのコア幅全面で接触する構造になっているものである
。このようにすれば、さらに狭トラツクを有する磁気ヘ
ッドに対しても、後部の磁気抵抗が増大しないため効率
のよい狭トラツクヘッド れぞれに付記した符号は第４図と同一である。なお、補
強材３３．３３の充填溝形状は砥石の形状によって種々
選ぶことができ、いずれもフェライ１〜の突起部３５．
３５’は作動ギャップより離れるに従って広がる構造と
なっており、所定のアジマス損失を生じさせてクロスト
ークの減少が図られている。また、フエライ１〜突起部
か作動ギャップ部に近づけられば作動ギャップ面近傍で
の渦電流損失を低減することができ望ましい。なお、第
５図の構造の磁気へノＩくの場合にはコア後部の接合部
に切り欠き溝を設けこれに補強材３Ｇを充填するとよい
。

実施例３ 第」０図（ａ）〜（ｄ）（Ｑ種々の溝形状ならびに加工
法について他の実施例を示す。第１０図（ａ）は先端が
Ｖ字状の成形砥石を用いて加工した溝４２．４２’で示
す。この場合、溝の角度０があまり太きいと突起部４８
の角度θ′が大きくなり、金属磁性体膜を形成した後研
磨して第８図（ホ）に示すようにトラック幅ｔを得る寸
法精度のばらつきが大きくなる。逆に角度Ｏ′　を小さ
くすると狭トラックの場合突起部が機械的に弱くなり、
加」型中に欠けてしまうことがある。したがって、突起
部角度Ｏ′は４５〜９０°程度が好ましい。しかし、こ
の範囲外でも製造可能であり、これに限定されない。一
方、第１０図（ｂ）に示すように突起部４８の先端部だ
けを矩形にすることがてきるが、この場合、突起部の先
端に平坦部がない方が好ましい。この加工法は機械加］
二によってもよいが、金属磁性体膜を堆積する前に逆ス
パツタリング法によって点線４９で示すように角部を加
工することによってもよい。

以上のような溝加工は第１０図（ｃ）に示すように２枚
重ねの砥石５０を用いれば一度に突起を形成することが
できる。また第１０図（ｄ）に示すようにマルチワイヤ
ーソを用いれば同時に多数のブロック加工が可能である
。この場合溝４２の形状はＵ字状に形成される。また、
レザー加工やホッＩ〜エツチング技術が適用でき、これ
らの技術を併用してもよい。

第６図は本発明によって製造される複合型磁気ヘッドの
１例の平面図を示す。この図は磁気テープ摺動面の拡大
図を示している。金属磁性体膜３０、３０’の芯となる
フエライ１〜突起部３５。

３５′の先端部の接合面は作動ギャップ面と平行部製形
成してもトラック幅ｔに対してフェライト突起部の幅ａ
が１／２以下なら再生におけるコン夕効果が０．５　ｄ
　Ｂ以−ドとなりほとんと問題とならない。この時、フ
ェライト突起部の先端部が平坦にならないように加工し
ておけばより好ましい。

第７図は本発明によって製造される複合型磁気ヘッドの
他の１例の概略平面図であり、磁気テープ衝動面を拡大
して示している。本実施例の磁気ヘッドは作動ギャップ
部３２が金属磁性体膜３０。

３０′とフエライ１〜３５．３５’　からなり、１〜ラ
ック幅ｔを構成する前記金属磁性体膜の幅が前記フェラ
イトの幅すの２倍以」二にしてなる。このようにすれば
記録の場合は高飽和磁束密度を有する金属磁性体部で支
配的に行われ、特に再生の場合に高透磁率のフェライト
部が支配的となり全体に再生効率が高められる。なお、
フェライトの幅が広いとトラック中央部の記録が不十分
となり、再生出力が劣化してしまう。

以上に説明したごとく、本発明によって製造される複合
型磁気八ソ１−は高保磁力を有する記録媒体にも十分記
録可能な高飽和磁束密度の金属磁性体と高透磁率で高耐
摩耗性を有する基体ブロックとを組み合せ、互いに欠点
螢補なって、記録およびゝ１ 塁再生特性の優れた狭トラツク磁気ヘッドとなっている
。

なお、磁気へツトを示す各回において、コイルの図示を
省略しであるが、コイルは装着するものとする。

以りに説明したごとく本発明によって製造される複合型
磁気ヘッドは、従来の複合型磁気ヘッドに比へ、 （１）渦電流損失が小さくできる構造となっている、（
２）コンタ−効果が無視できる、 （３）金属磁性体膜とフェライトどの接触面積が広く取
れる、等の構造的利点があり優れたヘッド性能か得られ
る。

さらに本発明の複合型磁気ヘッドの製造方法は（１）−
枚の金属磁性体膜を作動ギャップ部で２倍に利用してい
るので金属磁性体膜の堆積時間が半分で済み量産性があ
る、 （２）　ｌ−ラック幅決め加工の時に金属磁性体膜の側
面を砥石で加工する必要がなく、加工部のチッピングや
パリおよび膜のはく離等の問題かない、（３）基体ブロ
ックの溝部に非磁性体を充填してから、突起部の先端部
を加工しているので、破損がなく、高精度の１〜ラック
幅加工ができる。

等の大きな利点があり、その製造も容易である。

【図面の簡単な説明】

第１−図、第２図は従来の複合型磁気ヘッドの斜視図お
よび」二面図、第３図は他の従来の複合型磁気ヘッドの
斜視図、第４図（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例にお
いて製造される複合型磁気ヘッドの斜視図および磁気テ
ープ摺動面の拡大図、第５図（ａ）、（）））は本発明
の他の実施例において製造される複合型磁気八ツＩ＜の
斜視図おＪ：び磁気テープ摺動面拡大図、第６図、第７
図は本発明のさらに他の実施例において製造される複合
型磁気ヘッドの磁気テープ摺動面拡大図、第８図（イ）
〜（す）は本発明の複合型磁気ヘッドの製造方法の一実
施例における各工程の説明図、第９図は本発明の複合型
磁気ヘッド製造方法の他の実施例における別型［された
フェライトブロックの斜視図、第１ｏ図（ａ）、（ｂ）
、（ｄ）は本発明の各種実施例における加工されたフェ
ライトブロックの平面図、第１０図（ｃ）は本発明の一
実施例において用いるフェライトブロック加」二相砥石
の断面図、第１１図（イ）〜（ポ）は従来の複合型磁気
鉤 ヘッドの製造工程の説明図、祝視図及び平面図である。 符号の説明 ３０．３０’・・金属磁性体膜、３１．３１’　　高透
磁率フェライＩ・ブロック、３２・・作動ギャップ、３
３．３３’　　・非磁性充填材、３４・・・コイル巻線
窓、３５．３５’　・　フェライト突起部、４ｏ・高透
磁率フェライトブロック、４トギャップ形成側の面、４
２．４２’　　溝、４４　金属磁性体膜、４５　非磁性
相、４７・・接合ブロック、５ｏ　砥石。 ″ｌ　　　（ ＼　　　　＼ ａ鵠 つ−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ｉ）基体ブロックのギャップ形成側の面に、トラッ
   ク幅より狭い幅の先端部を有する突起部を挟持するよう
   に隣接する２本の溝を１組とする少なくとも１組の溝を
   平行に設ける工程、 ｉｉ）工程ｉ）を終了した前記基体ブロックのギャップ
   形成側の面の少なくとも前記溝面上に磁性体を被着せし
   める工程、 ｉｉｉ）前記磁性体が表面に被着されている前記溝に非
   磁性材を充填する工程、 ｉｖ）前記非磁性材ならびに磁性体の不要部を除去し、
   所定のトラック幅を有するギャップ形成面を露呈せしめ
   る工程、 ｖ）工程ｉｖ）を終了したブロックを一対用意する工程
   、 ｖｉ）工程ｖ）を終了した前記１対のブロックの少なく
   とも一方のギャップ形成側の面に所要の厚さの非磁性層
   を形成する工程、 ｖｉｉ）工程ｖｉ）を終了した前記１対のブロックのギ
   ャップ形成面を相対峙せしめ、互いに接合して一体化す
   る工程、 およびｖｉｉｉ）接合された前記ブロックを所定の位置
   にて切断し、少なくとも１個の磁気コアを得る工程を有
   することを特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。 ２、工程ｉ）において、前記溝を前記ブロックのギャッ
   プ形成側の面の一稜部側にのみ設けることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッドの製造方
   法。 ３、工程ｉ）において、前記隣接する溝間の突起部の先
   端部に平坦面が存在するように前記溝を設けることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２項記載の複
   合型磁気ヘッドの製造方法。 ４、工程ｉ）において、前記隣接する溝間の突起部の先
   端部に平坦面が存在しないように前記溝を設けることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２項記載の
   複合型磁気ヘッドの製造方法。 ５、工程ｉ）において、前記突起部の先端が、前記各組
   の溝に隣接する平坦部より低くならしめることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれかの項に
   記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 ６、前記基体ブロックとして高透磁率のＭｎ−Ｚｎフェ
   ライトあるいはＮｉ−Ｚｎフェライトのバルク材を用い
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５項の
   いずれかの項に記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 ７、前記磁性体として非晶質合金を用いることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれかの項に
   記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 ８、前記磁性体としてＦｅ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆ
   ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、Ｎｉ−Ｆｅ系のうち少なくとも一つ
   を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第
   ６項のいずれかの項に記載の複合型磁気ヘッドの製造方
   法。 ９、工程ｉｖ）を終了したブロックのギャップ形成側の
   面に、前記溝とほぼ直交するようにコイル巻線窓用溝を
   形成する工程を有することを特徴とする特許請求の範囲
   第６項乃至第８項のいずれかの項に記載の複合型磁気ヘ
   ッドの製造方法。 １０、工程ｉｖ）において、露呈される作動ギャップ形
   成面が前記磁性体からなることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 １１、工程ｉ）において前記突起部の先端部における幅
   がトラック幅の１／２以下であることを特徴とする特許
   請求の範囲第１０項記載の複合型磁気ヘッドの製造方法
   。 １２、工程ｉ）において前記突起部の先端部における前
   記ブロックの幅がほぼ０であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１０項記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 １３、工程ｉｉ）において被着される前記磁性体の厚さ
   がトラック幅の１／２以下であることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 １４、工程ｉｉ）において被着される前記磁性体の厚さ
   がトラック幅のほぼ１／２であることを特徴とする特許
   請求の範囲第１２項記載の複合型磁気ヘッドの製造方法
   。 １５、工程ｉｖ）において露呈される作動ギャップ形成
   面が前記磁性体ならびに前記ブロックからなることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッド
   の製造方法。 １６、前記作動ギャップ形成面における前記磁性体のト
   ラック幅方向の幅が前記突起部の先端部における前記ブ
   ロックの幅の少なくとも２倍であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１５項記載の複合型磁気ヘッドの製造方
   法。 １７、工程ｉｉ）において前記磁性体は多層構造となっ
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至１６
   項のうちいずれかの項に記載の複合型磁気ヘッドの製造
   方法。 １８、前記磁性体は非磁性体と交互に積層された多層構
   造となっていることを特徴とする特許請求の範囲第１７
   項記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。 １９、前記非磁性体はＳｉＯ＿２又はＡｌ＿２Ｏ＿３で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１８項記載の複
   合型磁気の製造方法。 ２０、前記多層構造はスパッタリング法により形成され
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１７項乃至第
   １９項のうちいずれかに記載の複合型磁気ヘッドの製造
   方法。 ２１、前記突起部の頂角もしくは該突起部の両側面によ
   り形成される角度は４５°〜９０°であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項乃至第１９項のうちいずれか
   に記載の複合型磁気ヘッドの製造方法。