JPS6131348A - 低温焼成セラミツクス - Google Patents

低温焼成セラミツクス

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JPS6131348A
JPS6131348A JP15321884A JP15321884A JPS6131348A JP S6131348 A JPS6131348 A JP S6131348A JP 15321884 A JP15321884 A JP 15321884A JP 15321884 A JP15321884 A JP 15321884A JP S6131348 A JPS6131348 A JP S6131348A
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JP
Japan
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ceramics
glass
low
temperature
low temperature
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JP15321884A
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城仁 松山
米村 重信
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Narumi China Corp
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Narumi China Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子機器基板その他の一般陶磁器の用途に適
した新規なセラミックスである。
i迷1」U( 近年コンピュータや民生機器用の電子デバイスの発展に
伴ない電子回路用の基板に適した材料の開発が望まれて
いる。かがる基板には低誘電率、低膨張率等積々の特性
が要求される。セラミックスの中でもかがる特性を満足
するものとして、アルミナセラミックスが知られている
が、1600〜1700℃の水素中、高温で焼成する必
要があるため高価である。
そこで、低温焼成可能なガラス−セラミックスについて
の提案もいくつがなされている。
その一つに結晶化ガラスを用いた低温焼成セラミックス
の報告がある。例えば、MCl0−Al 203−8i
 02にB2O3と核形成物質を加え、900〜100
0℃で焼成し、コージライト結晶を析出させ、高強度化
を計った低温焼成ヒラミックスや、Li 20−AI 
20s−5i 02にB2Osと核形成物質を加え、ス
ボジュメンを析出させ、同じ(高強度化を計った低温焼
成セラミックスが発表されてぃる。一般的にはセラミッ
クスを低温で焼成するためにはガラス層を多く含ませる
必要があるが、その場合には高強度化を計ることが困難
である。MG 0−AI 203−8t 02或いはL
i 20−AI 203−3i 02の場合には、高強
度な結晶を熱処理によって析出させ、高強度な低温焼成
セラミックスを得ている。しかし、これらの場合900
℃以上でしか結晶が得られず500〜800℃付近では
ガラス層の状態であるため、例えば回路の同時焼成の場
合に、回路のパターンが流動化してしまうので、昇温速
度を遅くして、焼成時間を長くとる必要がある。
また、非晶質ガラスと絶縁性又は耐火性酸化物の混合系
を用いた低温焼成セラミックスの報告がある。例えば硼
珪酸ガラス( B20s、Si 02 )に耐火材料(カイアナイト、
アノーサイト等)を加えたもの、或いは硼珪酸鉛ガラス
(B203−8i 02−PbO)に絶縁性酸化物(フ
ォルステライト、Zr 02等)を混合したものがある
。この場合にも結晶化ガラスを用いた場合と同様、焼成
時間を長くとる必要がある。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来発表されている低温焼成セラミックスよ
りも低湿で、しかも短時間で焼成することができて、し
かも強度の高いセラミックスを得る点にある。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため、本発明はCaO−B203
−3i 02 カ6す611]1i1HC#イて、図に
示す点■(Ca 038,3%、B2O331.5%、
S!0230.2%)と点■(Ca 026.0%、B
2O324,0%、5IOz50,0%)並びに点■と
点■(CaO37,8%、B20s16.4%、5iO
z45.8%)をそれぞれ直線で結び、点■と点■とは
液相線によって結んでなるほぼ三角状領域内の組成を有
するガラス55〜60%と、耐火性酸化物粉末45〜4
0%とからなる混合粉末を低温焼成して磁器化してなる
ことを特徴とする低温焼成セラミックスを要旨とする。
上記本発明におけるガラス組成のcao−B2O3−8
i 02については、アメリカンセラミックソサイエテ
ィ発行の1964年版” Phase  D 1aQr
aIfls for CeraliiStS”に図64
6として状態図が示されているが、本発明ではその中で
、上記■■■の3点をつなぐ、液相線や等高線等で囲ま
れたほぼ三角状領域の組成が、耐火性酸化物粉末との組
合せにおいて、低温焼成が可能となり、しかも強度が普
通陶磁器より強く、フォルステライトやムライトと同等
のものが得られることを見出した。
CaOが38.3%を越えると、焼成体が多孔質となり
、又26.0%未満であると、3i 02が多くなる場
合には多孔質となり、B2O3が多くなる場合にはガラ
ス化状態となり、いずれも好ましくない。
Si 02が50%を越えると、焼結が困難となり、3
0.2%より低いと焼結体がガラス化する領域と多孔質
化する領域とに分れてしまう。
B2O3が31,5%を越えると焼結ができずガラス状
態になってしまい、16.4%より低いとSi 02の
■と相俟って多孔質になってしまう。
そして、このガラス組成分が55%未満であると多孔質
となり、60%を越えると、ガラスと同様になって形状
を保持することができなくなる。
耐火性酸化物粉末としては、アルミナ、ムライト、ジル
コニアなどが用いられる。
原料は工業用原料で充分であり、数%の不純物(アルカ
リ金属酸化物、アルカリ土類酸化物、重金属酸化物[P
b O等])を含んでもさしつかえない。
実施例 工業用のCa CO3、Hs BO3、St 02粉を
らいかい機で20分間混合した後、1350℃、20分
で溶融後、水中に急冷し、ガラス塊を得た。
このガラス塊をアルミナ粉と所定の割合で混合粉砕して
、混合粉末を得た。この粉末を3%のワックスと混合し
、11000k clの圧力で成形した。
ガラス組成を変え、またアルミナとの混合割合並びに焼
成温度も変えて焼結セラミックスをつくって試験をした
。その試験結果を表に示す。
表 及!131 本発明のセラミックスは焼成温度が750〜850℃で
、従来の低温焼成セラミックスより約50〜100℃低
い。しかも、強度は一般の陶磁器より高く、フォルステ
ライトやムライトど同等である。
したがって、特性並びに経済性にすぐれたセラミックス
で、多方向に亙る用途が期待できる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明におけるガラス成分の組成領域を示すグラフ
である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. CaO−B_2O_3−SiO_2からなる組成におい
    て、図に示す点(1)(CaO38.3%、B_2O_
    331.5%、SiO_230.2%)と点(2)(C
    aO26.0%、B_2O_324.0%、SiO_2
    50.0%)並びに点(2)と点(3)(CaO37.
    8%、B_2O_316.4%、SiO_245.8%
    )をそれぞれ直線で結び、点(1)と点(3)とは液相
    線によつて結んでなるほぼ三角状領域内の組成を有する
    ガラス55〜60%と、耐火性酸化物粉末45〜40%
    とからなる混合粉末を低温焼成して磁器化してなること
    を特徴とする低温焼成セラミックス。
JP59153218A 1984-07-25 1984-07-25 低温焼成セラミツクス Expired - Lifetime JPH0611669B2 (ja)

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JPS6131348A true JPS6131348A (ja) 1986-02-13
JPH0611669B2 JPH0611669B2 (ja) 1994-02-16

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5468694A (en) * 1992-11-21 1995-11-21 Yamamura Glass Co. Ltd. Composition for producing low temperature co-fired substrate

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5361607A (en) * 1976-11-15 1978-06-02 Matsushita Electric Works Ltd Process for making inorganic sintered object
JPS60235744A (ja) * 1984-05-04 1985-11-22 Asahi Glass Co Ltd セラミック基板用組成物

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