JPS61284991A - Circuit formation for aluminum/copper composite lined board - Google Patents

Circuit formation for aluminum/copper composite lined board

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JPS61284991A
JPS61284991A JP12523285A JP12523285A JPS61284991A JP S61284991 A JPS61284991 A JP S61284991A JP 12523285 A JP12523285 A JP 12523285A JP 12523285 A JP12523285 A JP 12523285A JP S61284991 A JPS61284991 A JP S61284991A
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JP
Japan
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aluminum
copper
pattern
resist
etching
Prior art date
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Pending
Application number
JP12523285A
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Japanese (ja)
Inventor
辰夫 中野
和男 加藤
新一郎 浅井
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は混成集積回路用基板製造におけるエツチングに
よる回路形成法に関し、特にアルミニウム/銅複合箔張
り基板の回路形成法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a circuit forming method by etching in the production of a hybrid integrated circuit board, and particularly to a circuit forming method for an aluminum/copper composite foil-covered board.

(従来の技術) 最近アルミニウム/銅複合箔張基板を用いて、アルミニ
ウムと銅の両方の金属が露出した回路を形成しこのアル
ミニウム部を半導体のワイヤボンディングポストに用い
網部分を半田付や回路に用いた混成集積回路用基板が開
発されている(特開昭58−48432号公報)。この
場合、例えば第4図および第5図に示すとおり、アルミ
ニウム5を最上層に有する基板の時、回路形成は完成品
パターンでアルミニウム5の必要な部分に耐アルカリレ
ジスト3をかけて選択アルミニウムエツチングを行ない
、次いで完成品パターンで@2の必要な部分に耐酸レゾ
スト9を設は銅2を選択的にエツチングして行っていた
(Prior art) Recently, aluminum/copper composite foil-clad substrates have been used to form circuits in which both aluminum and copper metals are exposed, and the aluminum parts are used as wire bonding posts for semiconductors, and the net parts are used for soldering and circuits. A substrate for a hybrid integrated circuit using this method has been developed (Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-48432). In this case, for example, as shown in FIGS. 4 and 5, when the board has aluminum 5 as the top layer, the circuit is formed by selectively etching the aluminum by covering the required portions of the aluminum 5 with an alkali-resistant resist 3 in the finished product pattern. Then, the copper 2 was selectively etched to form an acid-resistant resist 9 on the required portions of the finished product pattern.

(発明が解決しようとする問題点) しかし、上記方法において、アルミニウムパターンと銅
パターンとの接合部がある様な場合には比較例第4図(
b)および第5図(bJに示す様に銅回路形成用耐酸レ
ジスト9は、アルミニウム5部位に重畳するよう設けら
れる。しかじ銅2とアルミニウム5は段差があるため、
印刷法では銅パターンとアルミニウムパターンの接合部
10に耐酸レジスト9が印刷しに<<、シばしばレゾス
トインクが入らず該接合部10がエツチングにより切断
するという欠点があった。この様な現象は第4図(b)
および第5図(b)のパターンの様に最上層の金属箔(
第4図および第5図でアルミニウム5)によって下層の
金属箔(同図で鋼2)が取り囲まれた場合や最上層の金
属箔が厚い時に起こり易くスクリーン印刷はもとより、
ドライフィルムを用いたパターン形成でも、この段差部
にうまくフィルムがラミネートされず、エツチングによ
り欠陥部6が出来て接合部10が切断したり、細くなっ
たりするという欠点があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the above method, when there is a joint between the aluminum pattern and the copper pattern, as shown in the comparative example shown in FIG.
b) and FIG. 5 (bJ), the acid-resistant resist 9 for forming a copper circuit is provided so as to overlap the aluminum 5. However, since there is a step between the copper 2 and the aluminum 5,
The printing method has the drawback that the acid-resistant resist 9 is printed on the joint 10 between the copper pattern and the aluminum pattern, but the resist ink often does not enter and the joint 10 is cut by etching. This phenomenon is shown in Figure 4 (b).
And the top layer metal foil (
This is likely to occur when the lower layer metal foil (steel 2 in the figure) is surrounded by aluminum 5) in Figures 4 and 5, or when the top layer metal foil is thick.
Even when forming a pattern using a dry film, the film is not laminated well on the stepped portions, and etching creates defective portions 6, resulting in the joining portions 10 being cut or becoming thinner.

本発明はかかる欠点を解決したものであり、段差のない
回路パターン面にエツチングレジストを設けることによ
りアルミニウム/銅複合剤の接合部に欠陥部が生じるの
を防ぎ、実装後の半導体機能として何んら支障のない回
路形成法を提供するものである。
The present invention solves these drawbacks, and by providing an etching resist on the circuit pattern surface with no steps, it prevents defects from occurring in the aluminum/copper composite bonding area, and improves the semiconductor function after mounting. The present invention provides a method for forming a circuit without any problems.

(問題点を解決するだめの手段) すなわち本発明は、アルミニウム/m複合箔張を用いて
回路パターンを形成する製法において、最終回路パター
ン部分全体にレジストを設け、アルミニウム/m複合箔
張結部3 グする第1工程、次に前記レジストヲ除去する第2工程
、前記最終回路パターンの1部にレジストを設ける第3
工程、前記最終回路パターンの最上層金属箔のみをエツ
チング剤で選択エツチングする第4工程からなることを
特徴とするアルミニウム/m複合箔張基板の回路形成法
である。
(Means for Solving the Problems) That is, the present invention provides a manufacturing method for forming a circuit pattern using aluminum/m composite foil cladding, in which a resist is provided over the entire final circuit pattern portion, and the aluminum/m composite foil cladding portion is 3. A first step of removing the resist, a second step of removing the resist, and a third step of applying the resist to a part of the final circuit pattern.
and a fourth step of selectively etching only the uppermost metal foil of the final circuit pattern with an etching agent.

以下図面により本発明の回路パターン形成について説明
する。第3図は回路パターン形成をする前の基板材料で
あり、基板ベース材料7、絶縁層4の上層にはアルミニ
ウム5と鋼2とからなる複合箔が接着されている。本発
明は、この基板材料を用いて第1図および第2図に示す
(a)、 (b)、 (C)および(dlの順に従って
、先ず最終的に希望する回路パターン部分全体にレジス
ト8を設けてエツチング剤でエツチングして、アルミニ
ウム/銅複合剤1の金属回路パターンを形成させる。次
いでレジスト8を除去し、前記回路パターンの最上層に
所望の金属箔パターン部位を形成する部分に耐アルカリ
レジスト3を設ける。この場合耐アルカリレジスト3は
所望のパターン幅より大きく形成すると次のエツチング
剤でエツチングの時にパターンのエツジが保護されるた
め、パターン精度が向上できるので好ましい。次に最上
層の金属箔のみをエツチング剤で選択エツチングするこ
とで下層の金属箔の回路を形成させる。更に耐アルカリ
レゾスト3を除去することによりアルミニウム5と銅2
の両方の金属が露出した回路が形成できる。
Hereinafter, circuit pattern formation according to the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 3 shows the substrate material before circuit pattern formation, with a composite foil made of aluminum 5 and steel 2 bonded to the upper layer of the substrate base material 7 and the insulating layer 4. In the present invention, using this substrate material, resist 8 is first applied to the entire desired circuit pattern portion in the order of (a), (b), (C) and (dl) shown in FIGS. 1 and 2. A metal circuit pattern of the aluminum/copper composite 1 is formed by etching with an etching agent.Then, the resist 8 is removed, and a resist film is applied to the uppermost layer of the circuit pattern where a desired metal foil pattern portion is to be formed. An alkali resist 3 is provided.In this case, it is preferable to form the alkali-resistant resist 3 to be larger than the desired pattern width, since the edges of the pattern will be protected during etching with the next etching agent, improving pattern accuracy.Next, the top layer By selectively etching only the metal foil with an etching agent, a circuit of the underlying metal foil is formed.Furthermore, by removing the alkali-resistant resist 3, aluminum 5 and copper 2 are removed.
A circuit can be formed in which both metals are exposed.

また、第1図および第2図に示した基板材料は、アルミ
ニウム/銅複合剤1のアルミニウム5が最上層となって
いるが、銅2が最上層となっても何んら支障はなく、用
途によって選択すればよい。
Further, in the substrate materials shown in FIGS. 1 and 2, the aluminum 5 of the aluminum/copper composite 1 is the top layer, but there is no problem even if the copper 2 is the top layer. It may be selected depending on the purpose.

本発明に用いるアルミニウム/銅複合箔は、アルミニウ
ム箔と銅箔を接合したクララr箔又はアルミニウム箔上
に銅をメッキした箔、あるいはアルミニウムー箔に亜鉛
、銅を順次メッキしたものでもよい。本発明の回路形成
法は、上記のアルミニウム/銅複合剤であれば肉厚は限
定するものではないが、好ましくは最上層の金属層とな
るアルミニウム層もしくは銅層が厚くなった時に有効で
あり、例えばその厚みが25μm以上である。この様に
厚い金属箔が要望される理由の1つに混成集積回路のパ
ワー化に基づく大電流回路化が挙げられる。
The aluminum/copper composite foil used in the present invention may be a Clara r foil in which an aluminum foil and a copper foil are bonded together, a foil in which copper is plated on an aluminum foil, or an aluminum foil in which zinc and copper are sequentially plated. The circuit forming method of the present invention is not limited to any thickness as long as it is the aluminum/copper composite described above, but is preferably effective when the aluminum layer or copper layer that is the topmost metal layer is thick. , for example, the thickness is 25 μm or more. One of the reasons why such a thick metal foil is desired is the development of large current circuits based on the power generation of hybrid integrated circuits.

また本発明における基板のベース材としては特に限定は
なく、一般にプリント基板に用いられる、紙フェノール
樹脂、ガラスエポキシ樹脂、更には絶縁層を有する金属
板などが用いられる。
Further, the base material of the substrate in the present invention is not particularly limited, and paper phenol resin, glass epoxy resin, and metal plate having an insulating layer, which are generally used for printed circuit boards, can be used.

さらに本発明に用いられるエツチング剤は、アルミニウ
ムと銅との両方に選択エツチング性がないもの、また、
アルミニウム、銅とに選択的性質のある2種類のエツチ
ング剤のいづれであってもよい。耐酸耐アルカリレジス
ト、耐酸レジストおよび耐アルカリレジストの用い方は
エツチング剤との組合せにおいて決定されるものであり
、その種類は構わない。
Furthermore, the etching agent used in the present invention is one that does not have selective etching properties for both aluminum and copper, and
Either of the two types of etching agents that are selective to aluminum and copper may be used. The usage of the acid-resistant, alkali-resistant resist, the acid-resistant resist, and the alkali-resistant resist is determined by the combination with the etching agent, and the type thereof does not matter.

(実施例) 以下に本発明の実施例及び比較例を示す。(Example) Examples and comparative examples of the present invention are shown below.

実施例1 アルミニウム層の厚みが503m1銅層の厚みが10μ
mであるアルミニウム/銅複合箔をガラスエポキシプレ
ゾリグ(総厚み1.6Ww1)と積層して、アルミニウ
ム面が最上層となった基板を得た。
Example 1 Aluminum layer thickness is 503 m1 Copper layer thickness is 10 μm
An aluminum/copper composite foil having a thickness of 1.0 m was laminated with a glass epoxy presol rig (total thickness: 1.6Ww1) to obtain a substrate with the aluminum surface as the top layer.

該基板のアルミニウム表面に耐酸エツチングレジストを
第2図(alで示すパターン状に印刷し乾燥後塩化第2
鉄液でエツチングして上部にアルミニウム下部に銅を有
する回路パターンを形成させた。
An acid-resistant etching resist was printed on the aluminum surface of the substrate in the pattern shown in FIG.
A circuit pattern with aluminum on the top and copper on the bottom was formed by etching with iron solution.

耐酸エツチングレジストと剥離後人に該回路パターン上
のアルミニウム部位に所望の回路パターンとなるように
形成されたパターン幅より0.5朋大きいパターン幅で
第2図(C)に示すように、耐アルカリエツチングレジ
ストを印刷して乾燥後、可性ンーダ系エツチング液でア
ルミニウムのみを選択エツチングした。次いでレジスト
インクを表面より除去しアルミニウムパターンと銅パタ
ーンの接合部の信頼性の高い第2図(d)の完成品回路
パターンを得た。100枚のサンプルを作成した所アル
ミニウムと銅接合部の不良はなかった。アルミニウムと
鋼の接合部のパターン端面は最終アルミニウムエツチン
グによるサイドエッチもなく下層の銅は露出しなかった
After peeling off the acid-resistant etching resist, as shown in FIG. After printing and drying an alkaline etching resist, only aluminum was selectively etched using a potential etching solution. Next, the resist ink was removed from the surface to obtain a completed circuit pattern as shown in FIG. 2(d) with a highly reliable joint between the aluminum pattern and the copper pattern. After making 100 samples, there were no defects in the aluminum and copper joints. The end face of the pattern at the joint between aluminum and steel had no side etching caused by the final aluminum etching, and the underlying copper was not exposed.

実施例2 実施例1と同じアルミニウム/鋼種金箔をアルミニウム
面を上にして100μmのがラスエポキシプリプレグを
介して1.5朋厚のアルミニウム板に張り合せ、所望の
アルミニウム/@複合箔張基板を得た。
Example 2 The same aluminum/steel gold foil as in Example 1 was laminated onto a 1.5 mm thick aluminum plate with the aluminum side facing up via lath epoxy prepreg with a thickness of 100 μm, and the desired aluminum/@ composite foil-clad substrate was formed. Obtained.

基板裏面を& IJ塩化ビニルフィルムで保護し、次に
該基板のアルミニウム表面に耐アルカリエツチングレジ
ストを第2図(a)で示すパターン状に印刷し、乾燥後
回性ソーダ系エツチング液で最上層のアルミニウムのみ
をエツチングした。その後、過硫酸アンモニウム水溶液
で銅のみの選択エツチングを行ないレジスト剥離するこ
とによりアルミニウム下部に銅を有する回路パターンを
形成した。
The back side of the substrate was protected with &IJ vinyl chloride film, and then an alkali-resistant etching resist was printed on the aluminum surface of the substrate in the pattern shown in Figure 2 (a), and after drying, the top layer was removed with a sodium chloride etching solution. Only the aluminum was etched. Thereafter, selective etching of only copper was performed using an ammonium persulfate aqueous solution and the resist was removed to form a circuit pattern having copper under the aluminum.

次に該回路パターン上のアルミニウム部位に所望の回路
パターンとなるように形成されたパターン幅よりも0.
5朋大きいパターン幅で第2図(C1に示ス如く耐アル
カリエツチングレジストを印刷して乾燥後回性ソーダ系
エツチング液でアルミニウムのみを選択エツチングした
。次いで液レジストを表面より除去し、アルミニウムパ
ターンと銅パターンの接合部の信頼性の高い第2図(d
lの完成品パターンを得た。100枚のサンプルを作成
した所アルミニウムと銅接合部の不良はなかった。また
実施例1同様サイrエツチはなく下層部の銅は露出しな
かった。
Next, the width of the aluminum part on the circuit pattern is 0.0 mm wider than the pattern width formed to form the desired circuit pattern.
As shown in Figure 2 (C1), an alkali-resistant etching resist was printed with a pattern width 5 mm larger, and after drying, only the aluminum was selectively etched with a sodium chloride etching solution.Then, the liquid resist was removed from the surface, and the aluminum pattern was printed. Figure 2 (d
A finished product pattern of 1 was obtained. After making 100 samples, there were no defects in the aluminum and copper joints. Also, as in Example 1, there was no etch, and the copper in the lower layer was not exposed.

実施例3 実施例2と同じ基板を用い第2図(C)のパターンの代
りに第2図(blのパターンを用い、他はすべて実施例
2と同じ工程を用いて100枚のサンプルを作成した。
Example 3 Using the same substrate as in Example 2, using the pattern in Figure 2 (bl) instead of the pattern in Figure 2 (C), and using the same steps as in Example 2, 100 samples were made. did.

アルミニウムパターンと鋼パターン接合部の不良はなか
った。ただし銅とアルミニウムの接合部のパターン端面
は最終アルミニウムエツチングによるサイドエッチのた
め下層の鋼が約50μm露出した。
There were no defects at the joint between the aluminum pattern and the steel pattern. However, the end face of the pattern at the joint between copper and aluminum was side-etched by the final aluminum etching, so that about 50 μm of the underlying steel was exposed.

比較例 アルミニウムの厚みが40μ鋼の厚みが10μであるア
ルミニウム/銅複合箔をアルミニウム面を上にして用い
た他は実施例2と同じアルミニウム/銅複合箔張基板を
用いた。
Comparative Example The same aluminum/copper composite foil-clad substrate as in Example 2 was used, except that an aluminum/copper composite foil in which the aluminum had a thickness of 40 μm and the steel had a thickness of 10 μm was used with the aluminum side facing up.

基板裏面にポリ塩化ビニルフィルムをラミネートし、第
5図(a)に示す完成品のアルミニウムパタ−ン状に耐
アルカリエツチングレジストをスクリーン印刷した。
A polyvinyl chloride film was laminated on the back side of the substrate, and an alkali-resistant etching resist was screen printed on the finished aluminum pattern shown in FIG. 5(a).

乾燥後可性ンーダ系のアルミニウムエツチング剤でアル
ミニウムのみを選択エツチングした。レジスト剥離後第
4図(b)および第5図(b)に示す様にアルミニウム
パターンと銅パターンに重畳する様に耐酸レジストをス
クリーン印刷した。次に過硫酸アンモニウム水溶液で鋼
のみの選択エツチングを行ない、レジストを剥離するこ
とにより図5(c)に示す完成品パターンを得た。この
嘩に100枚のサンプルを作成した所第4図(C)のよ
うに欠陥部があり、銅エツチングにより一部が必要以上
にエツチングされてしまっていたサンプルは80枚以上
あった。これは第4図(bJにおけるレジスト印刷がア
ルミニウム40μの段差のためうまくいかなかったため
である。
After drying, only the aluminum was selectively etched using a porous aluminum etching agent. After removing the resist, an acid-resistant resist was screen printed so as to overlap the aluminum pattern and the copper pattern as shown in FIGS. 4(b) and 5(b). Next, selective etching of only the steel was performed using an aqueous ammonium persulfate solution, and the resist was peeled off to obtain the finished product pattern shown in FIG. 5(c). However, when 100 samples were prepared, more than 80 samples had defects as shown in FIG. 4(C), and some of the samples had been etched more than necessary due to copper etching. This is because the resist printing in FIG. 4 (bJ) was not successful due to the 40μ aluminum step.

(発明の効果) 以上の実施例、比較例に示される様に本発明による方法
を用いればアルミニウム/銅複合箔を用いた回路形成に
おいて、従来のエツチングプロセスではアルミニウムパ
ターンと銅パターン接合部が段差によるエツチングレジ
ストの形成不良のため信頼性及び収率の点から不満足で
あった点が解消出来る。この本発明で得られる回路パタ
ーンは、アルミニウム回路にアルミニウム線で半導体ペ
レットをワイヤーボンディングできまたノ・ンダ付けの
必要な部位には銅面を使うなどアルミニウムと銅による
自由な回路形成が可能であり混成集積回路用の基板とし
て有益なものである。
(Effects of the Invention) As shown in the above Examples and Comparative Examples, the method according to the present invention can be used to form a circuit using aluminum/copper composite foil. This solves the problem of unsatisfactory reliability and yield due to poor etching resist formation. The circuit pattern obtained by the present invention allows for flexible circuit formation using aluminum and copper, such as wire bonding semiconductor pellets to aluminum circuits using aluminum wires, and using copper surfaces in areas where soldering is required. It is useful as a substrate for hybrid integrated circuits.

さらに本発明で得られるアルミニウムパターンと鋼パタ
ーン接合部の信頼性が高い回路では、アルミニウムの厚
み及び半田をはじく性質を利用し■半導体ペレットや外
部リードを半田付けする時の位置決めに利用したり、■
半田付の必要な所のみを銅パターンとし他をすべてアル
ミニウムパターンとして、一般に行なわれる半田レジス
トのオーバーコートを省略出来る利点があり、アルミニ
ウムと銅の接合信頼性の高い電流容量の大きい混成集積
回路用基板を高い収率で得ることが出来る。
Furthermore, in the highly reliable circuit of the aluminum pattern and steel pattern joint obtained by the present invention, the thickness and solder-repelling properties of aluminum can be used to position semiconductor pellets and external leads when soldering. ■
It has the advantage of using copper patterns only in the areas that require soldering and aluminum patterns everywhere else, and can omit the overcoating of solder resist, which is generally done.It is used for hybrid integrated circuits with high current capacity and high reliability of aluminum-copper bonding. Substrates can be obtained in high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)、 (b)および(C)は本発明の断面図
であシ、第2図(a)、 (b)、 (c)および(d
)は本発明の平面図を表わす。 第3図は回路パターン形成前の基材断面図を現わす。 さらに第4図(a)、 (blおよび(C)は従来例の
断面図であり、第5図(a)、 (b)および(C)は
従来例の平面図である。
FIGS. 1(a), (b) and (C) are cross-sectional views of the present invention, and FIGS. 2(a), (b), (c) and (d) are cross-sectional views of the present invention.
) represents a plan view of the invention. FIG. 3 shows a cross-sectional view of the base material before circuit pattern formation. Furthermore, FIGS. 4(a), (bl and (C)) are sectional views of the conventional example, and FIGS. 5(a), (b) and (C) are plan views of the conventional example.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アルミニウム/銅複合箔張を用いて回路パターン
を形成する製法において、最終回路パターン部分全体に
レジストを設け、アルミニウム/銅複合箔をエッチング
剤でエッチングする第1工程、次に前記レジストを除去
する第2工程、前記最終回路パターンの1部にレジスト
を設ける第3工程、前記最終回路パターンの最上層金属
箔のみをエッチング剤で選択エッチングする第4工程か
らなることを特徴とするアルミニウム/銅複合箔張基板
の回路形成法。
(1) In the manufacturing method of forming a circuit pattern using aluminum/copper composite foil, the first step is to provide a resist over the entire final circuit pattern and etch the aluminum/copper composite foil with an etching agent. Aluminum/ Circuit formation method for copper composite foil-clad substrates.
(2)第3工程のレジストが回路パターン幅より大きく
設けることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の回
路形成法。
(2) The circuit forming method according to claim 1, wherein the resist in the third step is provided with a width larger than the circuit pattern width.
(3)第1工程のエッチング剤がアルミニウムおよび銅
の両方に選択エッチング性がないことを特徴とする特許
請求の範囲第1項または第2項記載の回路形成法。
(3) The circuit forming method according to claim 1 or 2, wherein the etching agent used in the first step does not selectively etch both aluminum and copper.
(4)第1工程のエッチング剤がアルミニウム/銅複合
箔の上層のみをエッチング剤で選択エッチングし、次に
アルミニウム/銅複合箔の下層のみをエッチング剤で選
択エッチングする2種のエッチング剤からなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の回路
形成法。
(4) The first step consists of two types of etching agents that selectively etch only the upper layer of the aluminum/copper composite foil, and then selectively etch only the lower layer of the aluminum/copper composite foil. A circuit forming method according to claim 1 or 2, characterized in that:
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