JPS61274351A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPS61274351A
JPS61274351A JP60115709A JP11570985A JPS61274351A JP S61274351 A JPS61274351 A JP S61274351A JP 60115709 A JP60115709 A JP 60115709A JP 11570985 A JP11570985 A JP 11570985A JP S61274351 A JPS61274351 A JP S61274351A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
circuit
mos transistor
substrate
threshold
Prior art date
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Pending
Application number
JP60115709A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshitomo Asakura
朝倉 善智
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP60115709A priority Critical patent/JPS61274351A/ja
Publication of JPS61274351A publication Critical patent/JPS61274351A/ja
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路に関し、特に自己基板電位発生
回路を有する絶縁ゲート型半導体集積回路に関する。
〔従来の技術〕
従来、絶縁ゲート型半導体集積回路(以下MO8−IC
と記す)Kは、自己基板電位発生回路(以下BBG(B
ack Bias Generator )と記す)t
−有するものが多く、BBGを有するMOB−ICの基
板電位はそのBBGによる固定の発生電圧で決定されて
いた。
第2図は従来の自己基板電位発生回路の一例の回路図で
ある。
この回路は、インバータ11を直列接続してその出力の
一部を入力とする発振回路10と整流回路20とから成
)1発振回路10の出力を整流回路20で整流して基板
電極30に基板電位Vsubを発生させている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
一般に、MOB−IC(7)特性はMQ8−ICを構成
する個々のMOB )ランジスタのしきい値電圧によシ
決定される。MOB  )ランジスタのしきい値vTH
は種々の要因によシ決定され、 VTR;A−L (Vsub + B )L’ + C
電位差) で表わすことができる。従来のBBGを有するMOB−
ICの場合には、基板電圧VsubはそのBBGによシ
固定の出力電圧によシ、一意的に決定されている。一方
、MOB−ICの高速・高集積化が進むに伴ない。MO
B −ICを構成する各々のMOB )ランジスタのチ
ャンネル長りは短<ナシ、製造工程でのチャンネル長の
ばらつきΔLによる影響か大きくなル、加えて半導体基
板の大口径化によシ、その他のばらつきも拡大され、チ
ャンネル長はらつきによるしきい値VTHの変動による
製製造工程における歩留低下が無視することかできなく
なってきている。
本発明の目的は、M(J8 )う/ジスタを用いる内部
回路と、自己基板電圧発生回路とを有する半導体集積回
路において、自己基板電位発生回路の発生電圧をMOB
 )ランジスタのしきい値によシ制御することによシ基
板電位を変化させ、1ld(J8トランジスタのチャン
ネル長のdらつきによるしきい値の変動を最小にした半
導体集積回路を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体集積回路は、ある特定の周波数と振幅と
を有する信号を出力する発振回路と、該発振回路の出力
信号を整流して基板電圧を発生させ半導体基板に該基板
電圧を印加する整流回路と、前記発振回路の出力端と前
記整流回路の入力臨との間に接続されかつ内部回路内に
設けられた特定の第1のMUS )ランジスタのソース
・ドレイン間抵抗の変動による電圧変動分を含むソース
電圧がゲートに印加される第2のMOB )ランジスタ
とを含んで構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例の回路図でめる。
この実施例は、ある特定の周波数と振幅とを有する信号
を出力する発振回路lOと、この発振回路の出力信号を
整流して基板電圧Vsubを発生させ、半導体基板にそ
の基板電圧を印加する整流回路20と、発振回路10の
出力端と整流回路200Å力端との間に接続されかつ内
部回路内に設けられた特定の第1のMOB )ランジス
タTriのソース・ドレイン間抵抗の変動による電圧変
動分を含むソース電圧Vsがゲートに印加される第2の
MOB)う/ジスタTr2とを含んで構成されている。
#!10M08)ランジスタTriは、内部回路を構成
しているMOB )ランジスタのウチノ一つであっても
良いし、内部回路構成素子とは別に新しく設けたもので
あっても良い。この実施例では、新しく設けたものとし
て説明する。第2のMUSトランジスタTr2t!、第
1のMOB トランジスタTriの出力電圧でめるソー
ス電圧v8の制御によシ発振回路lOの出力信号の振幅
を増加または減少させ、基板電圧Vsubを制御する。
MOSトランジスタTriのソース電圧Vsは、自己の
しきい値VTHと抵抗R1,R,2,R3,几4の値で
決定される。抵抗几1.fL2.R3,R,4を適轟に
選択することによシ、シきい値VTRで制御されるMO
B )ランジスタTriの出力電圧により、MOSトラ
ンジスタTr2を駆動し、発振回路10のソース電圧v
8を制御することができ、整流回路20を通してしきい
値VTHによって制御された基板電位Vsを得ることが
できる。
例えば、MOB )ランジスタTriのしきい値VTR
が低下すると、MOB )ランジスタTriのソース・
ドレイン間の抵抗が減?)、Trlのソース電圧Vst
i上昇する。すると、MOSトランジスタTr2のゲー
ト電圧が上がh、MOB )ランジスタTr2のソース
・ドレイン間の抵抗が下がシ、整流回路20への入力の
振幅が増大し、基板電位Vsubか深く(ソース領域と
の電位差が大きく)なシ、シきい値VTRが上昇する。
MOSトランジスタTriのしきい値VTRが上昇する
と、上記の逆が生じ、しきい値vTHが低下する。
以上の様に、第1図の回路で回路定数を適当に設定すれ
ば、しきい値VTRと基板電位Vlubカ平衡状態とな
るしきい値VTRを設計中心とすることができ、製造ば
らつきの影響から逃れることができ、歩留の低下を防ぐ
ことができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、MOS−ICにその出
力電圧がしきい値VTRによシ制御される基板電位発生
回路を設けたのでMOS−ICを構成する個々のMOS
 )ランジスタのしきい値VTRを所望の範囲に安定化
し、製造ばらつきによる歩留低下を防ぐことができると
いう効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の回路図、第2図は従来の自
己基板電位発生回路の一例の回路図である0 10・・・・・・発振回路、11・・・・・・インバー
タ、20・・・・・・整流回路、30・・・・・・基板
電極、R1,几2゜几3.几4・・・・・・抵抗、Tr
i、Tr2・・・・・・MOS)ランジスタ。 (゛・−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ある特定の周波数と振幅とを有する信号を出力する発振
    回路と、この発振回路の出力信号を整流して基板電圧を
    発生させ半導体基板にその 基板電圧を印加する整流回路と、発振回路の出力端と整
    流回路の入力端との間に接続されかつ内部回路内に設け
    られた特定の第1のMOSトランジスタのソース・ドレ
    イン間抵抗の変動による電圧変動分を含むソース電圧が
    ゲートに印加される第2のMOSトランジスタとを含む
    ことを特徴とする半導体集積回路。
JP60115709A 1985-05-29 1985-05-29 半導体集積回路 Pending JPS61274351A (ja)

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