JPS61261259A - 低膨脹セラミツクスとその製造方法 - Google Patents

低膨脹セラミツクスとその製造方法

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JPS61261259A
JPS61261259A JP60102385A JP10238585A JPS61261259A JP S61261259 A JPS61261259 A JP S61261259A JP 60102385 A JP60102385 A JP 60102385A JP 10238585 A JP10238585 A JP 10238585A JP S61261259 A JPS61261259 A JP S61261259A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は低膨張セラミックスに関するもので、更にくわ
しくは、緻密質で耐熱衝撃性、気密性、さらに耐熱性に
も優れたコージェライト系緻密質低膨張セラミックスに
関するものである。
(従来の技術) 近年工業技術の進歩に伴い、耐熱性、耐熱衝撃性に優れ
た材料の要求が増加している。セラミックスの耐熱衝撃
性は、材料の熱膨張率、熱伝導率、強度、弾性率、ポア
ソン比等の特性に影響されると共に、製品の大きさや形
状、さらに加熱、冷却状態即ち熱移動速度にも影響され
る。
耐熱衝撃性に影響するこれらの諸因子のうち特に熱膨脹
係数の寄与率が大であり、とりわけ、熱移動速度が大で
あるときには熱膨脹係数のみに大きく左右されることが
知られており、耐熱衝撃性に優れた低膨張材料の開発が
強く望まれている。
従来比較的低膨張なセラミック材料として、コージェラ
イトが知られているが、一般にコージェライトは、緻密
焼結化が難しく、特に室温から800℃までの熱膨脹係
数が2.0X10−’/を以下となるような低膨張性を
示すコージェライト素地では、カルシア、アルカリ、カ
リ、ソーダのような融剤となるべき不純物量を極めて少
量に限定する必要があるためガラス相が非常に少なく多
孔質になる。特に近年自動車排気ガス浄化用触媒担体と
して使用されているコージェライト質ハニカム構造体は
、室温から800℃までの熱膨脹係数が1.5 Xl0
−’/l:以下であることを必要とするため、不純物の
少ないタルク、カオリン、アルミナ等の原料が使用され
、コージェライト焼結体の気孔率はせいぜい25〜45
%の範囲のものしか得られない。
従ってこのようなコージェライトセラミックスを例えば
、ハニカム構造にして回転蓄熱式熱交換体に応用した場
合、その開気孔率が大きいためハニカム構造体貫通孔を
形成する隔壁表面の気孔、特に連通気孔を通して加熱流
体と熱回収側流体との相互間に流体のリークが発生し、
熱交換効率及び熱交換体が使用されるシステム全体の効
率が低下する重大な欠点を有している。また、ターボチ
ャージャーローターのハウジングエギゾーストマニホー
ルド等に応用した場合、開気孔率が大きいため、圧力の
高い空気が漏れてしまい重大な欠点となる。このような
ことから耐熱衝撃性に優れた、低膨張で緻密質なコージ
ェライトセラミックスが強く望まれていた。
本発明の目的は、熱膨脹係数が2.0X10−’/を以
下と低膨張で開気孔率が15%以下の緻密なコージェラ
イト系セラミックスおよびその製造法を提供しようとす
るものである。
従来緻密なコージェライトセラミックスを得る方法とし
ては、コージェライト組成のバッチ調合物を溶融して成
形後、結晶化処理を行い、ガラスセラミックス化する方
法が知られている。例えば、1977年発行の「ジャー
ナル・オブ・ザ・カナディアン・セラミック・ソサエテ
ィ」第46巻に掲載されたトッピングとマースイの論文
は、コージェライトのSiO□の20重量%以内をAl
PO4で置換したものを提案している。同論文によれば
、AlPO4を添加した原料主成分を1600℃で融解
後冷却したコージェライトガラスを生成し、再加熱後冷
却してコージェライトの結晶を生成させている。得られ
るコージェライトは緻密であるが、析出するコージェラ
イト結晶相の配向を制御できないため熱膨脹係数が小さ
いものでも2.15 X 10−’ / t:と未だ大
きい欠点がある。
特開昭59−13741号公報と特開昭59−9294
3号公報の発明は、Y2O,又はZnOを添加した主原
料成分に820、及び/又はP2O,を添加し、焼成し
て得た結晶化ガラス成分を2〜7μに微粉砕してガラス
フリットとし、所要形状に成形後、再度焼成結晶化させ
てなる結晶化ガラス体を提案している。このものは熱膨
脹係数が2.4〜2.6 xlO−’/lと大きい欠点
がある。
コージェライトセラミックスが低膨張性を示す理由は、
例えば昭和50年(1975年)5月27日にアーウィ
ン・エム・ラッチマン他に与えられた「アニソトロピッ
ク・コージェライトモノリス」という名称の米国特許第
3.185.977号明細書(対応日本出願:特開昭5
0−175612号公報)に開示されているように、板
状粘土、積層粘土に起因する平面的配向により、焼成後
のコージェライトセラミックスが、配向して形成される
ためであり、このためガラスセラミックス化による緻密
質コージェライトでは2.0X10−’/を以上の高い
熱膨脹係数となる。
(問題点を解決するための手段) 本発明の低膨張セラミックスは、P2O5を2%未満含
有し、主たる結晶相がコージェライト相からなり、開気
孔率が25%以下であり、25〜800℃の間の熱膨脹
係数が1.OXl0−’/を以下である。
好適な化学組成は、8.0〜20.5重量%のMgOと
、24.0〜45.0重量%のA1□03と、40.5
〜61.0重量%のSiO,と、2.0重量%未満のP
2O,とを含有するものである。
直径が5μm以上の細孔の総細孔容積は約0.06cc
/g以下である。
コージェライト相のMgはZn及びFeの何れか一方又
は双方により10モル%以下置換された鉄コージェライ
ト、亜鉛コージェライト又は鉄亜鉛コージェライトであ
っても良い。
本発明の低膨張セラミックスは、7.5〜20重量%の
MgOと、22.0〜44.3重量%の^1□03 と
、37.0〜60.0重量%のSin□と2.0〜10
.0重量%のP2O5を含有する化学組成のバッチを調
製し、このバッチを成形し、成形体を焼成し、焼成体を
酸処理して主としてP2O,を選択的に除去することに
よって製造される。
P2O5として燐酸アルミニウム、燐酸マグネシウム、
燐酸亜鉛及び燐酸鉄から成る群から選択したP2O,源
を用いると好適である。
MgO,A12Ds及び5102として、ブルーサイト
、マグネサイト、タルク、粘土、アルミナ及び水酸化ア
ルミニウムから成る群から選択したMgO源、^120
3源及びSlO□源の何れか一者以上を用いると好適で
ある。
MgO源の平均粒径は5μm以下であることが好ましい
(作 用) 本発明はコージェライトの低膨張性を維持しつつ、緻密
化する。
(実施例) 以下本発明を例につきさらに詳細に説明する。
実施例1〜13と参考例14〜22 後掲の第1表に記載する調合割合に従って予め粒度調整
したブルーサイト、マグネサイト、タルク、アルミナ、
水酸化アルミニウム、粘土、燐酸アルミニウム、燐酸マ
グネシウム、燐酸鉄を混合した。第2表に用いた原料の
化学分析値を示す。
この混合物100重量部に水5〜10重量部、澱粉糊(
水分80%)20重量部を加え、ニーグーで十分に混練
し、真空押出成形機にてピッチ1.Omm、薄壁の厚さ
0.10mmの三角セル形状を有し、65m+++四方
長さが120 mmのハニカム柱状成形体に押出した。
このハニカム成形体を乾燥後第1表に記した焼成条件で
焼成し、さらに硫酸、硝酸、塩酸などにて酸処理してP
2O5を選択的に除去し、実施例1〜13と参考例14
〜22のコージェライト系セラミックハニカムを得た。
第1表に示した各種コージェライト系セラミックハニカ
ムについて、粉末X線回折によりコージェライト結晶を
定量し、25℃から800℃の温度範囲における熱膨脹
係数、開気孔率、水銀圧入式ポロシメーターによりセラ
ミックハニカム薄壁部の直径5μm以上の細孔容積と、
加圧空気の薄壁からのリーク量を測定比較した。加圧空
気の薄壁からのリーク量はコージェライト系セラミック
ハニカムの一方の端面に中央に20 mm X 20 
mmの正方形の穴を有する65865mmのゴム製パツ
キンを装着し、もう一方の端面に穴の無い65X65f
fifflのゴム製パツキンを装着密閉し、前記ゴム製
パツキンの穴に1.4kg / cafの加圧空気を導
入し、加圧空気の流量を測定して単位面積当りの単位時
間当りのリーク量(kg / cd秒)とした。結果は
第1表に示す通りであった。結果の若干を第1〜6図に
も示す。
第1表の実施例1〜1ゴと参考例14〜22の結果及び
第1図から明らかなように、化学組成がMg07.5〜
20.0重量%、^1□0a22.Q〜44.3重量%
、310237.0〜60.0重量%、P2O52,0
〜10.0重量%である焼結体を酸処理することにより
、化学組成がMg08. O〜20.5重量%、AI 
、0324.0〜45.0重量%、310240.5〜
61.0重量%、P2O52,0重量%未満であり、主
たる結晶相がコージェライト相からなり、開気孔率が2
5%以下で、25〜800℃の間の熱膨脹係数が1.0
XIO−’/を以下である低膨張セラミックスが得られ
た。第2図は95℃の1.5Nの硫酸にて酸処理したと
きの酸処理時間と重量減少率の関係を示す。
第3図は95℃の1.5N硫酸にて酸処理したときの酸
処理時間と各化学成分の減少率の関係を示す。
第4図は95℃の1.5N硫酸で酸処理したときの酸処
理時間と熱膨脹係数との関係を示す。同図から明らかな
ようにP2O,を含む本発明の方が酸処理による熱膨脹
係数の減少効果が著、しいことが判る。
また第5図から明らかなように、リーク量と孔の直径が
5μm以上の細孔容積との間には高い相関が認められ、
細孔容積を0.06cc/g以下にすることにより、リ
ーク量を通常のコージェライトの半分以下に低減するこ
とができる。第6図には実施例6、参考例14及び16
の細孔径分布曲線を示す。直径5μm以上の総細孔容積
の小さい実施例6にあっては、参考例13及び16に比
して第5図から明らかなようにリーク量が著しく低くな
る。さらにリーク量を通常のコージェライト以下に低減
することができ、気密性、耐熱衝撃性を要求される高温
構造材料として極めて優れた特性を有していた。
第7図および第8図は参考例14および参考例23の微
構造組織をそれぞれ示していて、多孔質であり大きな気
孔が存在していることがわかる。また第9図は実施例4
の微構造組織を示し、上述した参考例に比べて大きな気
孔が少なく緻密質であることがわかる。また第10図は
実施例4に対するCuK 線によるX線回折チャートを
示゛し、このチャートから主たる結晶相がコージェライ
ト相であることがわかる。
第1表中、*印はタルクの平均粒径が2.0μmのもの
、本零印は平均粒径が10.0μmのものを示し、  
    、その他はすべて平均粒径5.0μmである。
発明の効果 本発明はコージェライトの低膨張性を維持しつつ、緻密
化したもので、その応用範囲はセラミックリジェネレー
タ−(CRG) にとどまらず、広くセラミックレキュ
ペレータ−(CRP) 、セラミックターボチャージャ
ーローター(CTR) 用ハウジンク、ガスタービン、
原子炉炉材、種々の自動車部品例えばエンジンマフラー
、エキゾーストポー′ト、エキゾーストマニホールド及
び排ガス浄化触媒担体、熱交換体、その地気密性を必要
とする低熱膨張材として、充分な実用性を備えている為
、産業上極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図はコージェライト系セラミックハニカムのP2O
,含有量と開気孔率及び熱膨脹係数の関係を示す特性線
図、 第2図は95℃で1.5N硫酸にて酸処理したときのセ
ラミックハニカムの重量減少率の時間依存性を示す特性
線図、 第3図は95℃で1.5N硫酸にて酸処理したときの各
成分の減少率の時間依存性を示す特性線図、第4図は9
5℃で1.5N硫酸にて酸処理したときの熱膨脹係数の
時間依存性を示す特性線図、第5図は1.4kg/cf
fl加圧空気のセラミックハニカム薄壁からのリーク量
と細孔の直径が5μ以上の細孔容積との相関を表わす特
性線図、第6図は細孔径分布曲線、 第7〜8図は従来の低膨張セラミックスの微構造を示す
拡大写真図、 第9図は本発明の低膨張セラミックスの微構造を示す拡
大写真図、 第10図はX線回折チャートである。 第2図 言qズ1理埼閉 (h) 第3図 酸処理晴間(h) 第4図 酸処理時開(hλ 第5図 a4’jz 5)tntMktr+MHLsWm5Lf
積(C’/g)第6図 j引1 了しイ仝 ()illン 第9図 手  続  補  正  書 昭和61年 8月13日   1゜ 特許庁長官  黒  1) 明  雄  殿2、発明の
名称 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 4、代理人 (訂正)明   細   書 発明の名称  低膨張セラミックスとその製造□方法 特許請求の範囲 1、  P2O,を211%未満含有し、結晶相の主成
分がコージェライト相からなり、開気孔率が25%以下
であり、25〜800℃の間の熱膨脹係数が1.OXl
0−6/を以下であることを特徴とする低膨張セラミッ
クス。 2、 化学組成で8.0〜20.5重量%のMgOと、
24.0〜45.0重量%のAl2O3と、40.5〜
61.0重量%のSiO□と、2.0重量%未満のP2
O,とを含有する特許請求の範囲第1項記載の低膨張セ
ラミックス。 3、 直径が5μm以上の細孔の総細孔容積が0゜06
cc/g以下である特許請求の範囲第1項又は第2項記
載の低膨張セラミックス。 4、 コージェライト相のMgがZn及び/又はFeに
より10モル%以下置換、された特許請求の範囲第1項
、第2項又は第3項記載の低膨張セラミックス。 5、 7.5〜20重量%のMgOと、22.0〜44
.3重量%のAlzOs と、37.0〜60.0重量
%のSin□と2.0〜10.0重量%のP2O5を含
有する化学組成のバッチを調製し、このバッチを成形し
、成形体を焼成し、焼成体を酸処理して主としてP2O
。 を選択的に除去することにより、P2O5を2重下であ
る低膨張セラミックスの製造方法。 6、  P2O5として燐酸アルミニウム、燐酸マグネ
シウム、燐酸亜鉛及び燐酸鉄から成る群から選択したP
2O5源を用い、MgO,At□03及びSin□とし
てブルーサイト、マグネサイト、タルク、粘土、アルミ
ナ及び水酸化アルミニウムから成る群から選択したMg
O源、Al2O3源及びSiO2源の何れか一者以上を
用いる特許請求の範囲第5項記載の製造方法。 ?、  MgO源が平均粒径5μm以下である特許請求
の範囲第6項記載の製造方法。 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) 本発明は低膨張セラミックスに関するもので、更にくわ
しくは、緻密質で耐熱衝撃性、気密性、さらに耐熱性に
も優れたコージェライト系緻密質低膨張セラミックスに
関するものである。 (従来の技術) 近年工業技術の進歩に伴い、耐熱性、耐熱衝撃性に優れ
た材料の要求が増加している。セラミックスの耐熱衝撃
性は、材料の熱膨張率、熱伝導率、強度、弾性率、ポア
ソン比等の特性に影響されると共に、製品の大きさや形
状、さらに加熱、冷却状態即ち熱移動速度にも影響され
る。 耐熱衝撃性に影響するこれらの諸因子のうち特に熱膨脹
係数の寄与率が大であり、とりわけ、熱移動速度が大で
あるときには熱膨脹係数のみに大きく左右されることが
知られており、耐熱衝撃性に優れた低膨張材料の開発が
強く望まれている。 従来比較的低膨張なセラミック材料とじて、コ−ジェラ
イトが知られているが、一般にコージェライトは、緻密
焼結化が難しく、特に室温から800℃までの熱膨脹係
数が2.0X10−’/l:以下となるような低膨張性
を示すコージェライト素地では、カルシア、アルカリ、
カリ、ソーダのような融剤となるべき不純物量を極めて
少量に限定する必要があるためガラス相が非常に少なく
多孔質になる。特に近年自動車排気ガス浄化用触媒担体
として使用されているコージェライト質ハニカム構造体
は、室温から800℃までの熱膨脹係数が1.5 Xl
0−6/を以下であることを必要とするため、不純物の
少ないタルク、カオリン、アルミナ等の原料が使用され
、コージェライト焼結体の気孔率はせいぜい25〜45
%の範囲のものしか得られない。 従ってこのようなコージェライトセラミックスを例えば
、ハニカム構造にして′回転蓄熱式熱交換体に応用した
場合、その開気孔率が大きいためハニカム構造体貫通孔
を形成する隔壁表面の気孔、特に連通気孔を通して加熱
流体と熱回収側流体との相互間に流体のリークが発生し
、熱交換効率及び熱交換体が使用されるシステム全体の
効率が低下する重大な欠点を有している。また、ターボ
チャージャーローターのハウジングエギゾーストマ二ホ
ールド等に応用した場合、開気孔率が大きいため、圧力
の高い空気が漏れてしまい重大な欠点となる。このよう
なことから耐熱衝撃性に優れた、低膨張で緻密質なコー
ジェライトセラミックスが強く望まれていた。 本発明の目的は、熱膨脹係数が2.0X10−’/l:
以下と低膨張で開気孔率が25%以下の緻密なコージェ
ライト系セラミックスおよびその製造方法を提供しよう
とするものである。 従来緻密なコージェライトセラミックスを得る方法とし
ては、コージェライト組成のバッチ調合物を溶融して成
形後、結晶化処理を行い、ガラスセラミックス化する方
法が知られている。例えば、1977年発行の「ジャー
ナル・オブ・ザ・カナディアン・セラミック・ソサエテ
ィ」第46巻に掲載さ      1れたトッピングと
マースイの論文は、コージェライトのSiO□の20重
量%以内1AIPO,で置換したちのを提案している。 同論文によれば、AlPO4を添加した原料主成分を1
600℃で融解後冷却したコージェライトガラスを生成
し、再加熱後冷却してコージェライトの結晶を生成させ
ている。得られるコージェライトは緻密であるが、析出
するコージェライト結晶相の配向を制御できないため熱
膨脹係数が小さいものでも2.15 X 10−6/ 
℃と未だ大きい欠点がある。 特開昭59−13741号公報と特開昭59−9294
3号公報の発明は、Y2O3又はZnOを添加した主原
料成分にB2O3及び/又はP2O5を添加し、焼成し
て得た結晶化ガラス成分を2〜7μに微粉砕してガラス
フリフトとし、所要形状に成形後、再度焼成結晶化させ
てなる結晶化ガラス体を提案している。このものは熱膨
脹係数が2.4〜2.6 Xl0−6/l:と大きい欠
点がある。 コージェライトセラミックスが低膨張性を示す理由は、
例えば昭和50年(1975年)5月27日にアーウィ
ン・エム・ラッチマン他に与えられた「アニソトロピッ
ク・コージェライトモノリス」という名称の米国特許第
3.885.977号明細書(対応日本出願:特開昭5
0−75611号公報)に開示されているように、板状
粘土、積層粘土に起因する平面的配向により、焼成後の
コージェライトセラミックスが、配向して形成されるた
めであり、このためガラスセラミックス化による緻密質
コージェライトでは2.0X10−6/を以上の高い熱
膨脹係数となる。 (問題点を解決するための手段) 本発明の低膨張セラミックスは、P2O,を2%未満含
有し、結晶相の主成分がコージェライト相からなり、開
気孔率が25%以下であり、25〜800℃の間の熱膨
脹係数が1.OXl0−’/l:以下である。 好適な化学組成は、8.0〜20.5重量%のMgOと
、24.0〜45.0重量%のAl2O3と、40.5
〜61.0重量%のSiO□と、2.0重量%未満のP
2O,とを含有するものである。 直径が5μm以上の細孔の総則孔容積は約0.06cc
/g以下である。 コージェライト相のMgはZn及びFeの何れか一方又
は双方により10モル%以下置換された鉄コージェライ
ト、亜鉛コージェライト又は鉄亜鉛コージェライトであ
っても良い。 本発明の低膨張セラミックスは、7.5〜20重量%の
MgOと、22.0〜44.3重量%のAl2O,と、
37.0〜60.0重量%のSiO2と2.0〜10.
0重量%のP2O,を含有する化学組成のバッチを調製
し、調製したバッチをスリップキャスト等の鋳込み成形
、押出成形等の可塑成形、プレス成形等の加圧成形によ
り任意の形状の成形体とし、この成形体を乾燥後、12
50〜1450℃にて2〜20h焼成し、この焼成体を
酸処理して主としてP2O,を選択的に除去することに
よって製造される。 P2O5として燐酸アルミニウム、燐酸マグネシウム、
燐酸亜鉛及び燐酸鉄から成る群から選択したP2O5源
を用いると好適である。 MgO,AI、03及びSin□として、ブルーサイト
、マグネサイト、タルク、粘土、アルミナ及び水酸化ア
ルミニウムから成る群から選択したMgO源、Al2O
3源及び5i02源の何れか一者以上を用いると好適で
ある。 MgO源の平均粒径は5μm以下であることが好ましい
。 (作 用) 本発明はコージェライト相中にP2O,を2〜10重量
%、AIPO,とじて固溶させることにより、開気孔率
が15%以下の緻密質で低膨張なコージェライト系セラ
ミックスを元にして、更に酸処理することによりP2O
5を選択的に除去して2重量%未満とし25〜800℃
の熱膨脹係数が10 X 10−6/ を以下、開気孔
率25%以下の緻密質低膨張セラミックスが得られるこ
とを新規に見出したことによる。P2O。 を2重量%以上と限定した理由は、それ以下では、緻密
化に充分な液相が生じないため緻密化しないためであり
、P2O5tO重量%以下に限定した理由は、それ以上
では、P2O5がAIPO,としての固溶限を超えてし
まい高膨張化するためである。酸処理後のP2O,を2
%未満としたのは、それ以上では酸処理による低膨張化
の効果が充分に得られないためである。 バッチの化学組成をMg07.5〜2f)重量%、Al
20322.0〜44.3重量%、5lO737,0〜
60重量%、P、052.0〜1060重量%と限定し
た理由は、この範囲を超えては、コージェライト相が充
分に生成しないため、高膨張化してしまうためであり、
酸処理後焼結体の化学組成をtJg08.0〜20.5
重量%、AI、、Q324.0〜45.0重量%、Si
O□40,5〜61.0重量%、P2O52重量%未満
としたのは開気孔率25%以下、25〜800℃の熱膨
脹係数が10 X 10−6/ を以下の緻密質低膨張
セラミックスとならないためである。 焼成温度が1250℃以下ではコージェライト相が充分
に生成せずまた1450℃より大では軟化変形してしま
う。同様に焼成時間が2hより短くてはコージェライト
相が充分に生成せず、20h以上では温度にもよるが軟
化による変形が起こる。 また残存している開気孔の直径が5μm以上の縁網孔容
積を0.06cc/g以下に限定した理由は、加圧した
ガスのリーク量が開気孔率5μm以上の縁網孔容積に依
存し、0.06c’c/g以下にすることにより、従来
のコージェライトの半分以下のリーク量に抑制すること
ができるためである。 またコージェライト相2Mg0・2A1203・5Si
O□のMgは、10モル%まで、Znおよび/またはF
eで置換されていても本発明に規定するコージェライト
系セラミックスと同等の特性のコージェライト系セラミ
ックスを得ることができる。 熱処理時間を1150℃〜焼成温度に限定した理由は1
150℃未満の温度では、酸処理によって生じた焼結体
中の欠陥が消滅しないためであり、焼成温度より高温で
は、再焼結が起こって微構造が大幅に変化し所期特性が
1等られないからである。 P2O,源を、リン酸アルミニウム、リン酸マグネシウ
ム、リン酸亜鉛、リン酸鉄から選ばれるリン酸塩化合物
一種または二種以上の組合せとした理由は、リン酸は液
体であるため混合が難しく、不均一になってしまうため
である。またリン酸ではコージェライトの生成温度以下
の低温で局所的に溶融して巨大なボアを生成してしまう
ためこれらの融点の比較的高く水等に不溶性のリン酸塩
化合物の形態で添加することが望ましい。 MgO1AI203、Sin□源をブルーサイト、マグ
ネサイト、タルク、粘土、アルミナ、水酸化アルミニウ
ムから選んだ理由は、これらの原料から作られた、コー
ジェライト系セラミックスが特に低膨張化するためであ
るが、さらにMgO源が酸化マグネシウム、5102源
がシリカ等から選定されても良い。 MgO源原料の平均粒径を5μm以下としたのは、コー
ジェライトセラミックスでは、焼結後MgO源原料粒子
の形骸ボアが残存して、開気孔の原因となるためMgO
源原料の平均粒径を5μm以下に限定することにより、
5μmより大きい開気孔を抑制することができ、本発明
の目的である、気密性の高いコージェライトセラミック
スが得られるためである。 (実施例) 以下本発明を例につきさらに詳細に説明する。 実施例1〜13と参考例14〜22 後掲の第1表に記載する調合割合に従って予め粒度調整
したブルーサイト、マグネサイト、タルク、アルミナ、
水酸化アルミニウム、粘土、燐酸アルミニウム、燐酸マ
グネシウム、燐酸鉄を混合した。第2表に用いた原料の
化学分析値を示す。 この混合物100重量部に水5〜10重量部、澱粉糊く
水分80%)20重量部を加え、ニーグーで十分に混練
し、真空押出成形機にてピッチ1.O++un、薄壁の
厚さ0.10mmの三角セル形状を有し、65++un
四方長さが120 mmのハニカム柱状成形体に押出し
た。このハニカム成形体を乾燥後第1表に記した焼成条
件で焼成し、さらに硫酸、硝酸、塩酸などにて酸処理し
てP2O5を選択的に除去し、実施例1〜13と参考例
14〜22のコージェライト系セラミックハニカムを得
た。 第1表に示した各種コージェライト系セラミックハニカ
ムについて、粉末X線回折によりコージェライト結晶を
定量し、25℃から800℃の温度範囲における熱膨脹
係数、開気孔率、水銀圧入式ポロシメーターによりセラ
ミックハニカム薄壁部の直径5μm以上の細孔の総孔容
積と、加圧空気の      ゞ薄壁からのリーク量を
測定rヒ較した。加圧空気の薄壁からのリーク量はクー
ジェライト系セラミックハニカムの一方の端面に中央に
20 mm X 20 mmの正方形の穴を有する65
X65mmのゴム製パツキンを装着し、もう一方の端面
に大の無い65X65mmのゴム製パツキンを装着密閉
し、前記ゴム製パツキンの穴に1.4kg/cdの加圧
空気を導入し、加圧空気の流量を測定して単位面積当り
の単位時間当りのリーク量(kg/m2秒)とした。結
果は第1表に示す通りであった。結果の若干を第1〜6
図にも示す。 第1表の実施例1〜13と参考例14〜22の結果及び
第1図から明らかなように、化学組成がMg07.5〜
20.0重量%、A120322.0〜44.3重量%
、810237.0〜60.0重量%、P2O52,0
〜1O10重量%である焼結体を酸処理することにより
、化学組成がMg08.0〜20.5重量%、A120
322.0〜45.0重量%、SlO□40.5〜61
.0重量%、P2O52,0重量%未満で゛あり、結晶
相の主成分がコージェライト相からなり、開気孔率が2
5%以下で、25〜800℃の間の熱膨脹係数が1.0
−’/l:以下である低膨張セラミックスが得られた。 第2図は実施例4と参考例14の調合物を第1表に示し
た条件にて焼成した焼結体を95℃の1.5Nの硫酸に
て酸処理したときの酸処理時間と重量減少率の関係を示
す。第3図は実施例4の調合物を第1表に示した条件に
て焼成した焼結体を95℃の1.5N硫酸にて酸処理し
たときの酸処理時間と各化学成分の減少率の関係を示す
。第4図は実施例4と参考例14の調合物を第1表に示
した条件にて焼成した焼結体を95℃の1.5N硫酸で
酸処理したときの酸処理時間と熱膨脹係数との関係を示
す。同図から明らかなようにP2O5を含む本発明の方
が酸処理による熱膨脹係数の減少効果が著しいことが判
る。また第5図から明らかなように、リーク量と孔の直
径が5μm以上の細孔の総細孔容積との間には高い相関
が認められ、直径が5μm以上の細孔の総細孔容積を0
.06cc/g以下にすることにより、リーク量を通常
のコージェライトの半分以下に低減することができる。 第6図には実施例6、参考例14及び16の細孔径分布
曲線を示す。 直径5μm以上の細孔の総細孔容積の小さい実施例6に
あっては、参考例14に比して第5図から明らかなよう
にリーク量が著しく低くなる。さらに第5図より5μm
以上の細孔の総細孔容積を0.06cc/g以下にする
ことによりリーク量を通常のコージェライト以下に低減
することができ、気密性、耐熱衝撃性を要求される高温
構造材料として極めて優れた特性を有していた。 第7図および第8図は参考例14および参考例23の微
構造組織をそれぞれ示していて、多孔質であり大きな気
孔が存在していることがわかる。また第9図は実施例1
3の微構造組織を示し、上述した参考例に比べて大きな
気孔が少なく緻密質であることがわかる。また第10図
は実施例4に対するCuK α線によるX線回折チャー
トを示し、このチャートから主たる結晶相がコージェラ
イト相であることがわかる。 第1表中、*印はタルクの平均粒径が2.0μmのもの
、本本印は平均粒径が10.0μmのものを示し、その
他はすべて平均粒径5.0μmである。 (発明の効果) 本発明はコージェライトの低膨張性を維持しつつ、緻密
化したもので、その応用範囲はセラミックリジェネレー
タ−(CRG) にとどまらず、広くセラミックレキュ
ペレータ−(CRP) 、セラミックターボチャージャ
ーローター(CTR)用ハウジング、ガスタービン、原
子炉炉材、種々の自動車部品例エバエンジンマフラー、
エキゾーストポート、エキゾーストマニホールド及び排
ガス浄化触媒担体、熱交換体、その地気密性を必要とす
る低熱膨張材として、充分な実用性を備えている為、産
業上極めて有用である。 4、図面の簡単な説明 第1図はコージェライト系セラミックハニカムのP2O
,含有量と開気孔率及び熱膨脹係数の関係を示す特性線
図、 第2図は95℃で1.5N硫酸にて酸処理したときのセ
ラミックハニカムの重量減少率の時間依存性を示す特性
線図、 第3図は95℃で1゜5N硫酸にて酸処理したときの各
成分の減少率の時間依存性を示す特性線図、第4図は9
5℃で1.5N硫酸にて酸処理したときの熱膨脹係数の
時間依存性を示す特性線図、第5図は1.4kg/cn
f加圧空気のセラミックハニカム薄壁からのリーク量と
細孔の直径が5μ以上の細孔容積との相関を表わす特性
線図、第6図は細孔径分布曲線、 第7〜8図は従来の低膨張セラミックスの微構造を示す
拡大写真図、 第9図は本発明の低膨張セラミックスの微構造を示す拡
大写真図、 第10図はX線回折チャートである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、P_2O_5を2%未満含有し、主たる結晶相がコ
    ージェライト相からなり、開気孔率が25%以下であり
    、25〜800℃の間の熱膨脹係数が1.0×10^−
    ^6/℃以下であることを特徴とする低膨脹セラミック
    ス。 2、化学組成で8.0〜20.5重量%のMgOと、2
    4.0〜45.0重量%のAl_2O_3と、40.5
    〜61.0重量%のSiO_2と、2.0重量%未満の
    P_2O_5とを含有する特許請求の範囲第1項記載の
    低膨脹セラミックス。 3、直径が5μm以上の細孔の総細孔容積が0.06c
    c/g以下である特許請求の範囲第1項又は第2項記載
    の低膨脹セラミックス。 4、コージェライト相のMgがZn及び/又はFeによ
    り10モル%以下置換された特許請求の範囲第1項、第
    2項又は第3項記載の低膨脹セラミックス。 5.7.5〜20重量%のMgOと、22.0〜44.
    3重量%のAl_2O_3と、37.0〜60.0重量
    %のSiO_2と2.0〜10.0重量%のP_2O_
    5を含有する化学組成のバッチを調製し、このバッチを
    成形し、成形体を焼成し、焼成体を酸処理して主として
    P_2O_2を選択的に除去することを特徴とする低膨
    張セラミックスの製造方法。 6、P_2O_3として燐酸アルミニウム、燐酸マグネ
    シウム、燐酸亜鉛及び燐酸鉄から成る群から選択したP
    _2O_5源を用い、MgO、Al_2O_3及びSi
    O_2としてブルーサイト、マグネサイト、タルク、粘
    土、アルミナ及び水酸化アルミニウムから成る群から選
    択したMgO源、Al_2O_3源及びSiO_2源の
    何れか一者以上を用いる特許請求の範囲第5項記載の製
    造方法。 7、MgO源が平均粒径5μm以下である特許請求の範
    囲第6項記載の製造方法。
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