JPS61251663A - アミノメチルピリジンの製造法 - Google Patents

アミノメチルピリジンの製造法

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JPS61251663A
JPS61251663A JP60093353A JP9335385A JPS61251663A JP S61251663 A JPS61251663 A JP S61251663A JP 60093353 A JP60093353 A JP 60093353A JP 9335385 A JP9335385 A JP 9335385A JP S61251663 A JPS61251663 A JP S61251663A
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cyanopyridine
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Toshinari Nahata
名畑 俊成
Yoshio Iguchi
井口 義男
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Koei Chemical Co Ltd
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Koei Chemical Co Ltd
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  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 °(産業上の利用分野) 本発明はアミノメチルピリジン類を製造する方法に関し
、詳しくは水素化触媒の存在下原料シアノピリジン類を
反応系内1例えばオートクレーブに供給し、接触還元反
応を行うことによりアミノメチルピリジン類を製造する
方法に関スル。アミノメチルピリジン類は医薬の中間体
として有用な化合物である。
(従来技術) 従来本化合物の製法として、シアノピリジン類を水素化
触媒の存在下接触還元反応する方法が知られている。(
0,A72.66760r (1970) )この方法
によると反応器に原料シアノピリジン類と溶媒メタノー
ル、アンモニア及びラネーニッケルを同時に仕込み、室
温下80気圧で40時間接接触光反応し2−アミノメチ
ルピリジン、8−アミノメチルピリジン、4−アミノメ
チルピリジンをそれぞれ収率72%、601 60・チ
で得ている。しかし上記方法は収率が必ずしも高いとは
いえずまた1反応時間が長いなどの欠点を有し工業的に
有利な製法とは言えない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明者らは、上記のごとき不利を改善すべく鋭意研究
を重ね未反応シアノピリジン類の反応性に着目した結果
、はからずも水素化触媒の存在下原料シアノピリジン類
を反応系内へ逐次供給しながら接触還元反応を行なうこ
とにより副反応を抑制しアミノメチルピリジン類を収率
良く製造することを見い出し本発明を完成するに到った
(問題点を解決するための手段) 本発明に用いるシアノピリジンには特に限定はないが、
医薬中間体であるアミノメチルピリジン類を製造すると
いう点から2−シアノピリジン、8−シアノピリジン、
4−シアノピリジン、2−シアノ−6−メチルピリジン
などが好適に使用される。
一般にかかる水素化反応方法としては、あらかじめ反応
器内にシアノピリジン類を仕込み水素化触媒の存在下接
触還元反応を行うことにより、アミノメチルピリジン類
を得る方法が知られている。しかしこの方法では収率が
低く、工業的に有利な方法とはいえない。
そこで本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果意外にも本
発明においては、反応系内に原料シアノピリジン類を逐
次供給しながら、接触還元反応を行なうことにより著く
収率が向上することを見い出した。
従来の方法では、反応が進行する際シアノピリジン類同
志の反応及びシアノピリジン類と生成したアミノメチル
ピリジン類との反応など副反応が起こりやすく、高沸点
物が多量に副生ずるのでアミノメチルピリジン類の収率
が大幅に低下するものと思われる。
本発明の方法を実施するに当り、原料シアノピリジン類
を反応系内へ供給するため、あらかじめ反応器内へ溶媒
を仕込んでおく必要がある。
適当な溶媒としては1例えばベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水
素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類等が挙
げられる。
溶媒量としては、特に制限はないが反応効率1 を考慮
した場合、シアノピリジン類に対し0.5〜5倍(重量
)の範囲が好ましい。
本発明嘗こ用いる水素化触媒としては、通常使用される
水素化触媒が挙げられるが、具体例としては、ラネーニ
ッケルやラネーコバルト触媒などが挙げられる。水素化
触媒の使用量は、シアノピリジン類に対し2〜50%の
範囲が反応効率、触媒効率などの面から好ましい。
アンモニアは必ずしも必要ではないが、存在することは
副反応を抑える効果があり、通常シアノピリジン類に対
し同量(重量)以下で十分で反応は好適に進行する。
反応は通常室温〜200℃好ましくは70〜150℃に
て好適に進行し、反応圧としては常圧以上、好ましくは
5〜50気圧が好適である。
一般に上記のような条件で反応は0.5〜5時間トイう
短時間で終了し、未反応シアノピリジン類もほとんど残
らない。
上記方法にて得られるアミノメチルピリジン類は一般的
な単離、精製手段、例えば反応液から濾過により水素化
触媒を除去し、P液を蒸留精製することなどにより極め
て容易に高純度の目的物ができる。本発明の方法による
と高品質のアミノメチルピリジン類が極めて容易に収率
良く、シアノピリジン類を出発原料として得られる。
(発明の効果) 本発明と従来の方法を比較した場合、2−アミノメチル
ピリジンの合成においては、従来法では例えば比較例−
1に示した様に原料の2−シアノピリジン、溶媒、アン
モニア及び触媒を一度に仕込んだ場合、収率は68%で
ある。本発明では実施例−2に示した様に2−シアノビ
リジン会反応の進行に従ってオートクレーブ内に供給す
ることにより°収率は96%と非常に高、くなる。従来
法では、反応中シアノピリジン類と7ミノメチルピリジ
ン類とが共存しているため、シアノピリジン類同志、及
びシアノピリジン類とアミ多チルピリジン類などの副反
応が起こり題辞9点物が生成しやすく、そのため収率が
低下するものと考えられる。事実、比較例の方法による
と不明の高沸点生成物が多く生成した。
しかし本発明の方法においては、原料シアノピリジン類
を反応の進行に合せて供給しながら接触還元反応を行う
ため、上記のような副反応が起こらず高収率でアミノメ
チルピリジン類が得られる。
また本発明においては、副反応がほとんど起こらないた
め、従来法に比べ精製が非常に容易であり、例えば簡単
な蒸留により非常に純度の高いアミノメチルピリジン類
が得られる。
次に本発明の方法を実施例により説明するが本発明はそ
れらに限定されるものではない。
実施例−1 容fil/の電磁攪拌式オートクレーブにベンゼン70
0 y1展開したラネーニッケル140 P2体アンモ
ニア7(lを仕込み、これに水素を導入して90℃ 4
5気圧まで昇温昇圧する。反応器内温が90℃に達した
後2−シアノピリジン700りを8時間かけて高圧定量
ポンプにてオートクレーブ内に供給した。反応の進行に
より水素が消費されるので逐次水素を追加し圧力を保っ
た。
2−シアノピリジンの供給を止めると、同時に水素の消
費も止まり反応は終了した。反応液を冷却、濾過して触
媒を炉別し、P液を蒸留して89mHf  で182℃
の沸点の2−アミノメチルピリジン646y(GO純度
99%、収率88%)及び副生成物のビス−2−ピコリ
ルアミン601(収率9%)を得た。
実施例−2 容量3I!の電磁攪拌式オートクレーブにベンゼン70
05’、展開したラネーコバルト140S’、液体アン
モニア701を仕込みこれに水素を導入して180℃、
45気圧まで昇温昇圧する。反応器内温が180℃に達
して直ちに2−シアノピリジン7009を8時間かけて
高圧定量ポンプにてオートクレーブ内に供給した。反応
の進行により水素が消費されるので逐次水素を追加し圧
力を保った。
2−シアノピリジンの供給を止めると同時に水素の消費
も止まり反応は終了した。以下実施例−1と同様に処理
して、2−アミノメチルピリジン705y(GO純度9
9%、収率96チ)および副生成物のビス−2−ピコリ
ルアミン18り(収率2チ)を得た。
実施例−3 実施例−1と同様にして2−シアノピリジンの代わりに
3−シアノピリジン7002を使用し、同様に反応、処
理してs o mEIy で沸点138℃の3−アミノ
メチルピリジンrx2f(GOHK99q6、収率97
%)を得た。
実施例−4 実施例−2と同様にして、2−シアノピリジンの代わり
に4−シアノピリジン700Fを使用し、同様に反応、
処理して15111HPで沸点114℃の4−アミノメ
チルピリジン6909(GO純度99チ、収率94%)
を得た。
実施例−5 実施例−1と同様に2−シアノピリジンの代わりに、6
−メチル−2−シアノピリ、ジン7002を使用し、同
様に反応、処理して40■Hグで沸点117℃の6−メ
チル−2−アミノメチルピリジン651y(QC!M度
99チ、収率90%)を得た。
比較例−1 容量azの電磁攪拌式オートクレーブに、2−シアノピ
リジン7009、ベンゼン7002、展開したラネーコ
バルト14(1%液体7 ン% ニー770yを仕込み
、これに水素を導入して90℃45気圧で反応させた。
水素を追加しながら反応し、8時間で反応は終了した。
以下実施例−1と同様に処理して2−アミノメチルピリ
ジン499P(GO純度99チ、収率68チ)及びビス
−2−ピコリルアミン80y(収率12チ)を得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シアノピリジン類を水素化触媒の存在下、接触還元反応
    させて、アミノメチルピリジン類を製造するに当り、溶
    媒の存在下反応系内に原料シアノピリジン類を供給しな
    がら反応することを特徴とするアミノメチルピリジン類
    の製造法。
JP60093353A 1985-04-30 1985-04-30 アミノメチルピリジンの製造法 Expired - Fee Related JPH06749B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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