JPS61240435A - 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来の技術 磁気記録再生装置は年々高密度化しており、短波長記録
再生特性の優れた磁気記録媒体が要望されている。現在
では基板上に磁性粉を塗布した塗布型磁気記録媒体が主
に使用されており、上記要望を満足すべく特性改善がな
されているが、はぼ限界に近づいている。

この限界を越えるものとして金属薄膜型磁気記録媒体が
開発されつつある。金属薄膜型磁気記録媒体は真空蒸着
法、スパッタリング法、メッキ法等により作製され、優
れた短波長記録再生特性を有する。金属薄膜型磁気記録
媒体における磁性層としては、Ｃｏ、　Ｇｏ−Ｎｉ、　
Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ等の面内記録用薄膜、Ｇ　ｏ−Ｃｒ　、
　Ｇ　ｏ−Ｖ等の垂直記録用薄膜が有望である。

発明が解決しようとする問題点 このような従来の金属薄膜型磁気記録媒体は優れた短波
長記録再生特性を有しているが、磁気ヘッドをこのよう
な媒体に接触させて記録再生する際に傷が入り易く、耐
久性が悪いという問題点がある。

問題点を解決するための手段 本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法は。

基板上に金属薄膜磁性層が形成された磁気記録媒体の製
造に際し、基板上に前記磁性層と同程度の平均粒径の粒
子を塗布し、その上に前記磁性層を形成し、その後に前
記粒子上に形成された磁性層を除去し、更にその上に保
護層を形成することを特徴とする。

また５本発明は、基板上に下地層を介して金属薄膜磁性
層が形成された磁気記録媒体の製造に際し、基板上に前
記下地層と前記磁性層との総膜厚と同程度の平均粒径の
粒子を塗布し、その上に前記下地層および前記磁性層を
形成し、その後に前記粒子上に形成された下地層および
磁性層を除去し、更にその上に保護層を形成することを
特徴とする。

作用 この構成により、粒子として、例えばＳ　ｉ　Ｏ２゜Ａ
ｌ、０３等の硬い酸化物を用いることによって。

磁性層を磁気ヘッドでこすっても傷が入り難くなり、従
来に比べて耐久性が大幅に向上する。

実施例 以下、本発明の製造方法を具体的な実施例に基づいて説
明する。

第１図（ａ）〜（ｄ）は基板１上に金属薄膜磁性層３が
形成された磁気記録媒体の製造工程を示す。

まず、第１図（ａ）に示されるように、高分子材料ある
いはＡ１等より成る基板１上に、粒子２を塗布する。こ
こで粒子２の平均粒径としては、この後に真空蒸着法や
スパッタリング法で形成される金属薄膜磁性層３と同程
度とし、粒子２の材料としては、媒体の耐久性を向上さ
せるという点から、前記金属薄膜磁性層よりも硬度の高
いもの。

例えば酸化物であるＳｉＯ，、Ａｌ、Ｏ，あるいは炭化
物であるＳｉＣ等が適している。次に第１図（ｂ）のよ
うに、粒子２の塗布された基板１上に真空蒸着法やスパ
ッタリング法等で金属薄膜磁性層３を形成する。その後
、ラッピング等の方法により第１図（ｃ）のように粒子
２の上の磁性層３を除去する。この際、ラッピングの程
度により、磁性層３の膜厚を粒子２の粒径よりもわずか
、例えば数１０〜１００人程度薄く程度ことも可能であ
る。最後に、第１図（ｄ）のように、磁性層３の上、及
び表面の磁性層を除去された粒子２の上に、フッ素系樹
脂あるいはカーボン系薄膜等の保護層４を湿式処理法、
プラズマ重合法、真空蒸着法、スパッタリング法等によ
り数１０〜２００人程度形成程度ことにより金属薄膜型
磁気記録媒体が得られる。

以上は基板上に直接に金属薄膜磁性層を形成する場合に
ついて説明したが、基板上に下地層を介して金属薄膜磁
性層を形成する場合も、基板上１に塗布する粒子２とし
て、下地層と金属薄膜磁性層の総膜厚と同程度の平均粒
径のものを用いる以外は、上記と全く同様に製造される
。第２図は下地層が有る場合の磁気記録媒体を示し、５
は下地層である。

次に本発明の製造方法により作られた各磁気記録媒体と
従来の磁気記録媒体の耐久性を比較する。

〔実験例・１〕 基板１として膜厚５０μｍのポリイミドフィルムを使用
し、この上に約３０００００個／ｍ”の密度で、平均粒
径０．２μｍのＳｉｎ、粒子２を塗布した。この上に金
属薄膜磁性層３として真空蒸着法で、　膜厚０．２μ田
のＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成し、その後にラッ
ピングテープによりラッピングしてＳｉｎ、粒子２上の
磁性層３を除去した。さらにこの上に保護層４としてプ
ラズマ重合法により膜厚７０人のカーボン膜を形成した
。

この媒体をフロッピーディスクドライブにて。

Ｍｎ−Ｚｎフェライトのリングヘッドで記録再生を行な
ったが、３００万パス以上の耐久性を示した。

これに対し、ＳｉＯ□粒子を塗布しないで、ポリイミド
フィルム上に直接にＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成
した媒体は、上記と同じ評価方法で。

１万バスを越えると表面に傷が入り、使用不可能となっ
た。

〔実験例・２〕 基板１として膜厚１２μ璽のポリイミドフィルムを使用
し、この上に約３０００００個／■２の密度で、平均粒
径０．２５μ厘のＳｉｎ、粒子２を塗布した。この上に
下地層５として、真空蒸着法で膜厚０．０３μｍのＴｉ
膜を形成し、さらにその上に、磁性層３として真空蒸着
法で膜厚０．２２μ諺のＣ６−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を
形成した。その後にラッピングテープによりラッピング
してＳｉｎ２粒子２上の下地層５及び磁性層３を除去し
た。さらにこの上に保護Ｍ４として湿式法により膜厚１
００人のフッ素系樹脂を塗布した。

この媒体を８＋ａｍビデオデツキにかけてスチル再生を
行なったが、１０分以上経過しても充分な再生出力が得
られた。

これに対して、ＳｉＯ□粒子２を塗布しないで、ポリイ
ミドフィルム上に直接にＴｉ及びＧ　ｏ−Ｃｒ垂直磁気
異方性膜を形成した媒体は、上記と同じ評価方法で、２
０〜３０秒で表面に傷が入り再生出力が出なくなった。

発明の詳細 な説明のように本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の製造
方法は、基板上に直接に金属簿膜磁性層が形成された磁
気記録媒体の製造では、基板上に前記磁性層と同程度の
平均粒径の粒子を塗布し、基板上に下地層を介して金属
薄膜磁性層が形成された磁気記録媒体の製造では、基板
上に前記下地層と磁性層との総膜厚と同程度の平均粒径
の粒子を塗布し、このように基板上に粒子を塗布した後
、粒子上の磁性層、あるいは磁性層と下地層を除去した
後に保護層を形成するため、前記粒子が塗布されていな
い従来のものよりも耐久性が向上し、短波長記録再生特
性および耐久性ともに優れた金属薄膜型磁気記録媒体を
提供できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法の過程を示す断面図、第２図
は本発明の製造方法により完成した別の磁気記録媒体の
断面図である。 １・・・基板、２・・・粒子、３・・・金属薄膜磁性層
、４・・・保護層、５・・・下地層 代理人　　　森　　本　　義　　弘 第２図 ５−　下虎層 第１図 １−縁 ２−粒） 今−塚Ｍ 〆

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に金属薄膜磁性層が形成された磁気記録媒体
   の製造に際し、基板上に前記磁性層と同程度の平均粒径
   の粒子を塗布し、その上に前記磁性層を形成し、その後
   に前記粒子上に形成された磁性層を除去し、更にその上
   に保護層を形成する金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法
   。 ２、粒子の硬度を、磁性層の硬度よりも高くしたことを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の金属薄膜型磁気
   記録媒体の製造方法。 ３、粒子を酸化物あるいは炭化物としたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の金属薄膜型磁気記録媒体
   の製造方法。 ４、基板上に下地層を介して金属薄膜磁性層が形成され
   た磁気記録媒体の製造に際し、基板上に前記下地層と前
   記磁性層との総膜厚と同程度の平均粒径の粒子を塗布し
   、その上に前記下地層および前記磁性層を形成し、その
   後に前記粒子上に形成された下地層および磁性層を除去
   し、更にその上に保護層を形成する金属薄膜型磁気記録
   媒体の製造方法。 ５、粒子の硬度を、磁性層の硬度よりも高くしたことを
   特徴とする特許請求の範囲第４項記載の金属薄膜型磁気
   記録媒体の製造方法。 ６、粒子を酸化物あるいは炭化物としたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第４項記載の金属薄膜型磁気記録媒体
   の製造方法。