JPS61231561A - 光導電部材用の支持体及び該支持体を有する光導電部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気乃至電子デバイスの構成部材、特に電子写
真感光体等光導電部材の基体として利用し得る表面処理
金属体、この製造法及びこの表面処理金属体を用いた光
導電部材に関する。

〔従来の技術〕

金属体表面には、用途に応じた表面形状を付与するため
、各種切削乃至研摩加工が施される。

例えば電子写真感光体等の光導電部材の基体（支持体）
として、板状、円筒状、無端ベルト状等の金属体が用い
られ、支持体上に光導電層等の層を形成するため、鏡面
化切削加工等により表面を仕上げられる０例えば、旋盤
、フライス盤等を用いたダイヤモンドバイト切削により
、所定範囲内の平面度にされたり、場合によっては、干
渉縞防止のため所定形状乃至は任意形状の凹凸表面に仕
上げられる。

ところが、切削によりこの様な表面を形成すると、金属
体の表面近傍に存在する硬質の合金成分、酸化物等の微
細な介在物や空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ　）にバイトが当り
、切削の加工性が低下すると共に、切削により介在物等
に起因する表面欠陥が顕現し易いといった不都合を生ず
る０例えば支持体に用いる金属体として、アルミニウム
合金を用いた場合、アルミニウム組織中に５ｉ−ＡＩ−
Ｆｅ系、Ｆｅ−Ａｌ系、ＴｉＢ２等の金属間化合物、Ａ
Ｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｓ　ｔ、Ｆｅの酸化物などの硬い介在
物やＨ２による空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ）が存在すると共
に、結晶方位の違う近隣ＡＩ組織間で生起する粒界段差
といった表面欠陥が生起される。この様な表面欠陥のあ
る支持体により例えば電子写真感光体を構成すると、成
膜の均一性が悪くなり、延いては、電気的、光学的、光
導電的特性の均一性が損われ、美麗な画像が提供できな
くなり、実用に耐えないものとなる。

また、切削によれば、切粉や切削油の費消、切粉処分の
煩雑性、被切削面に残存する切削油の処理といった別の
問題点も生ずる。

また、切削とは別に、サンドブラストやショツトブラス
ト等旧来の塑性変形を生起させる手段により金属体表面
の平面度や表面粗さを調整することが行なわれているが
、これらの手段によっては金属体表面に付与される凹凸
形状、精度等を正確に制御することができない。

〔発明の目的及び概要〕

本発明の第１の目的は、新規な方法により表面仕上げ乃
至は表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を提供する
ことにある。

本発明の第２の目的は、所望の使用特性を損なう表面欠
陥を生じ易い切削加工等を伴わずに、表面処理がなされ
た表面処理金属体を提供することにある。

本発明の第３の目的は、金属体表面を所望の程度の鏡面
あるいは非鏡面に仕上げ、乃至は金属体表面に所望形状
の凹凸を付与することのできる表面処理°金属体の製造
法を提供することにある。

本発明の第４の目的は１表面欠陥等を顕現せずに所望の
表面仕上げや表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を
支持体として用いることにより、成膜の均一性、電気的
、光学的、光導電的特性の均一性に優れた光導電部材を
提供することにある。

本発明の第５の目的は、画像欠陥が少なく、高品質な画
像を得ることができる電子写真用の光導電部材を提供す
ることにある。

上記第１及び第２のの目的は、表面に複数の球状痕跡窪
みによる凹凸を形成した金属体から成ることを特徴とす
る本発明の表面処理金属体によって達成される。

上記第３の目的は、金属体表面に複数の剛体真球を自然
落下させて前記金属体表面に前記剛体真球の痕跡窪みに
よる凹凸を形成せしめるいことを特徴とする本発明の表
面処理金属体の製造法によって達成される。

上記第４及び第５の目的は、支持体上に光導電層を有す
る光導電部材において、前記支持体が。

表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を形成した金属体
から成ることを特徴とする本発明の光導電部材によって
達成される。

〔発明の詳細な説明及び実施例〕

第１図に示した様に本発明の表面処理金属体１は１表面
２に複数の球状痕跡窪み４による凹凸を形成させている
ことを特徴とする。

即ち、例えば剛体真球３を表面２より所定高さの位置よ
り自然落下させて表面２に衝突させることにより１球状
痕跡窪み４を形成する。従って。

ほぼ同一径Ｒ′の複数の剛体真球３をほぼ同一高さｈよ
り落下させることにより、表面２にほぼ同一曲率Ｒ１同
一幅りの複数の球状痕跡窪み４を形成することができる
。

第２図及び第３図は、この様な場合に形成される痕跡窪
みを例示したものである。

第２図の例では、金属体１′の表面２′の異なる部位に
、ほぼ同一の径の複数の球体３′、３′・・・をほぼ同
一の高さより落下させてほぼ−の曲率及び幅の複数の窪
み４′、４′・−・を互いに重複しない程度に疏に生じ
せしめて凹凸を形成している。

第３図の例では、金属体１”の表面２″の異なる部位に
、ほぼ同一の径の複数の球体３″、３″舎・・をほぼ同
一の高さより落下させてほぼ同一の曲率及び幅の複数の
窪み４′′、４″拳・Φを互いに重複し合うように密に
形成して、第１図の例に比較して凹凸の高さく表面粗さ
）を小さくしている。なお、この場合、互いに重複する
窪み４″、４″ψψ・の形成時期、即ち球体３″、３″
の金属体１”の表面２″への衝突時期が、当然のことな
がら互いにずれる様に球体を自然下させる必要がある。

一方、第４図の例では、互いに異なる数種の径の球体３
″′、３″′をほぼ同一の高さ又は異なる高さから落下
させて金属体１″′の表面２″′にそれぞれ異なる曲率
及び幅の複数の窪み４”’、４”’・・拳を互いに重複
し合うように密に生じせしめて１表面に高さの不規則な
凹凸を形成している。

この様にすれば、剛体真球と金属体表面との硬度、剛体
真球の径、落下高さ、落下球量等の条件を適宜調節する
ことにより、金属体表面に所望の曲率、幅の複数の球状
痕跡窪みを所定密度で形成することができる。従って、
前記軟性を選択することにより、金属体表面を鏡面に仕
上げたり、あるいは非鏡面に仕上げるなど、表面粗さ、
即ち凹凸の高さやピッチ等を自在に調節できるし、また
、使用目的に応じて所望される形状の凹凸を形成するこ
ともできる。

更には、ポートホール管、あるいはマンドレル押出し引
抜きＡｉ管表面の表面状態の悪さを、本発明の方法を用
いる事によって修正し、所望の表面状態に仕上げること
が出来る。これは、表面の規則な凹凸が剛体真球の衝突
により塑性変形されることによるものである。

本発明の表面処理金属体の基材は、使用目的に応じたい
かなる種類の金属でもよいが、アルミニウム及びアルミ
ニウム合金、ステンレス、鋼鉄。

銅及び銅合金、マグネシウム合金などが実用的である。

また、金属体の形状は任意に選択することができるが、
例えば電子写真感光体の基体（支持体）としては、板状
、円筒状、柱状、無端ベルト状等の形状が実用的である
。

本発明で使用する球体は１例えばステンレス。

アルミニウム、鋼鉄、ニッケル、真鍮等の金属。

セラミック、プラスチック等の各種剛体球を使用するこ
とができ、とりわけ耐久性及び低コスト化の理由により
、ステンレス及び鋼鉄の剛体球が好ましい０球体の硬度
は、金属体の硬度よりも高くても低くてもよいが、球体
を繰返し使用する場合は、金属体の硬度よりも高くする
ことが好ましい。

本発明の表面処理金属体は、電子写真感光体等の光導電
部材の支持体、コンピューターメモリー用磁気ディスク
基板、レーザースキャン用のポリゴンミラー基体に適し
ている。また、従来、ダイヤバイトによる鏡面仕上げ１
円筒研削仕上げ、ラッピング仕上げ等の手段を用いて、
Ｒ＝　ａ　ｘ ｌｐｍ以下の表面粗さ、好ましくはＲ＝　ａ　ｘ Ｏ，０５ＩＬｍ以下の平面度に仕とげられる各種電気乃
至電子デバイスの構成部材として最適である。

例えば、電子写真感光体ドラムの支持体として用いる場
合、アルミニウム合金等を通常の押出加工により得られ
るポートホール管あるいはマンドレル管を、更に引抜加
工して得られる引抜管に必要に応じて熱処理、調質等の
処理を加え、この円筒（シリンダー）を、例えば第５図
（正面図）及び第６図（縦断面図）に示した構成の装置
を用いて本発明方法を実施し、支持体を作成する。

第５図及び第６図において、１１は支持体作成用の例え
ばアルミニウムシリンダーである。シリンダー１１は予
め表面を適宜の平面度に仕上げられていてもよい、シリ
ンダー１１は、回転軸１２に軸支され、モータ等の適宜
の駆動手段１３で駆動され、ほぼ軸芯のまわりで回転可
能とされている０回転速度は、形成する球状痕跡窪みの
密度及び剛体真球の供給量等を考慮して適宜に決定され
、制御される。

１４は剛体真球（ボール）１５を自然落下させるための
落下装置であり、剛体真球１５を貯留し落下させるため
のボールフィーダー１６、フィーダー１６から剛体真球
１５が落下し易い様に揺動する振動機１７．シリンダー
に衝突して下する剛体真球１５を回収するための回収槽
１８１回収槽１８で回収される剛体真球１５をフィーダ
ー１６まで管輸送するためのボール送り装置１９、送り
装置１９の途中で剛体真球１５を液洗浄するための洗浄
装置ｔ２０、この洗浄装置２０にノズル等を介して洗浄
液（溶剤等）を供給する液だめ２１、洗浄に使用した液
を回収する回収槽２２などで構成されている。

フィーダー１６から自然落下する剛体真球の量は、落下
口２３の開閉度、振動機１７による揺動の程度等により
適宜調整される。

以下１本発明の光導電部材の構成例について説明する。

この様な光導電部材は、支持体上に例えば有機光導電物
質や無機光導電物質を含む感光層を設けて構成される。

支持体の形状は、所望によって決定されるが、例えば電
子写真用として使用するのであれば、連続高速複写にの
場合には、無端ベルト状又は前述した様に円筒状とする
のが望ましい、支持体の厚みは、所望通りの光導電部材
が形成される様に適宜決定されるが、光導電部材として
可撓性が要求される場合には、支持体としての機能が十
分発揮される範囲内であれば可能な限り薄くされる。し
かしながら、この様な場合にも、支持体の製造上及び取
扱い上、更には機械的強度等の点から、通常はｌＯＩＬ
ｍ以上とされる。

支持体表面は、水引により表面処理を施され。

鏡面とされ乃至は干渉縞防止等の目的で非鏡面とされ、
あるいは所望形状の凹凸が付与される。

例えば支持体表面を非鏡面化したり、表面に凹凸を付与
して粗面化すると、支持体表面の凹凸の合せて感光層表
面にも凹凸が生ずるが、露光の際にこれら支持体表面及
び感光層表面での反射光に位相差が生じ、シェアリング
干渉による干渉縞を生じ、あるいは反転現像時に黒斑点
あるいはスジを生じて画像欠陥を生ずる。この様な現象
は特に可干渉光であるレーザビーム露光を行なった場合
に顕著に現れる。

本発明においては、この様な干渉縞を、支持体表面に形
成される球状痕跡窪みの曲率Ｒと輻りとを調節すること
により防止することができる。

即ち、本発明の表面処理金属体を支持体とした場合、□
を０．０３５以上とすると各々の痕跡窪み内にシェアリ
ング干渉によるニュートンリングが０．５本以上存在し
、□を０．０５５以上とすると、この様なニュートンリ
ングが１本以上存在することになり、光導電部材全体の
干渉縞を各痕跡窪み内に分散して存在させることができ
、干渉防止が可能となる。

また、痕跡窪みの幅りは、５００ｐｍ以下。

更には２ＱＯ４ｍ以下、より更にはｌ　００　ｐ、ｍ以
下とされるのが望ましく、また光照射スポット径以下が
望ましく、特に、レーザービームを使用する場合には、
解像力以下とするのが望ましい。

例えば、支持体上に有機光導電体から成る感光層を設け
る場合、この感光層を電荷発生層と電荷輸送層とに機能
分離させることができる。また。

これら感光層と支持体との間には、例えば感光層から支
持体へのキャリア注入を阻止するためや感光層と支持体
との接着性を改良するために１例えば有機樹脂から成る
中間層を設けることができる。電荷発生層は１例えば、
従来公知のアゾ顔料、キノン顔料、キノシアニン顔料、
ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール
顔料、キナクドリン顔料、特開昭５７−１８５２６３号
に記載されたアズレン化合物、無金属フタロシアニン顔
料（ｍｅｔａｌ−ｆｒｓｅ　ｐｈｔｈａｌａｃｙａｎｉ
ｎｅ）、金属イオンを含むフタロシアニン顔料等の１種
もしくは２種以上を電荷発生物質とし、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリビニールブチラール、ポリビニール
ピロリドン、メチルセルロース、ポリアクリル酸エステ
ル類、セルロースエステルなどの結着剤樹脂中に有機溶
剤を用いてに分散し、塗布して形成される０組成は１例
えば電荷発生物質１００重量部に対して、結着剤樹脂２
０〜３００重量部とされる。電荷発生層の層厚は、０．
０１〜１．０涛ｍの範囲が望ましい。

また、電荷輸送層は１例えば主鎖又は側鎖にアントラセ
ン、ヒレン、フェナントレン、コロネンなどの多環芳香
族化合物、又はインド−′ル、オキサゾール、インオキ
サゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オ
キサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、ドリア
プールなどの含窒素環式化合物を有する化合物、ヒドラ
ゾン化合物等の正孔輸送物質をポリカーボネート、ポリ
メタクリル酸エステル類、ボリアリレート、ポリスチレ
ン、ポリエステル、ポリサルホン、スチレン−７クリロ
ニトリルコポリマー、スチレン−メタクリル酸メチルコ
ポリマーなどの結着剤樹脂中に有機溶剤を用いて分散し
、塗布して形成される。

電荷輸送層の厚みは、５〜２０４ｍとされる。

又、前記電荷主層と電荷輸送層とを積層させる場合、層
順は任意であり、例えば支持体側から、電荷発生層、電
荷輸送層の順で積層させることができるし、あるいは、
これとは逆の層順とすることもできる。

又、前述の感光層としては１以上に限らず１例えば、Ｉ
　Ｂ　Ｍ　　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｒｅ５ｅ
ａｒｃｈ　ａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ　、　１９７
１年１月、ｐｐ７５〜８９に開示されたポリビニールカ
ルバゾールとトリニトロフルオレノンからなる電荷移動
錯体、米国特許第４３９５１８３号、同第４３２７１６
９号公報などに記載されたピリリウム系化合物を用いた
感光層、あるいはよく知られている酸化亜鉛、硫化カド
ミウムなどの無機光導電物質を樹脂中に分散含有させた
感光層や、セレン、セレン−テルルなどの蒸着フィルム
、あるいはケイ素原子を含む非晶質材料から成る膜体等
を使用することも可能である。

このうち、感光層としてケイ素原子を含む非晶質材料か
ら成る膜体を用いた光導電部材は、前述した様な本発明
に係る支持体上に、例えば電荷注入阻止層、感光層（光
導電層）、及び表面保護層を順次積層した構成を有する
。

電荷注入阻止層は、例えば水素原子及び／又はハｅｌ／
７’ン原子を含有するアモルファスシリコン（ａ−５ｉ
）で構成されると共に、伝導性を支配する物質として、
通常半導体の不純物として用いられる周期率表第１ＩＩ
族乃至は第Ｖ族に属する元素の原子が含有される。電荷
注入阻止層の層厚は、好ましくは０．０１〜１０４ｍ、
より好適には０．０５〜８＃Ｌｍ、最適には０．０７〜
５トｍとされるのが望ましい。

電荷注入阻止層の代りに、例えばＡｔ２０３．５ｉ０２
．Ｓｉ３Ｎ４．ポリカーボネート等の電気絶縁材料から
成る障壁層を設けてもよいし、あるいは電荷注入阻止層
と障壁層とを併用することもできる。

感光層は、例えば水素原子とハロゲン原子を含有するａ
−３ｉで構成され、所望により電荷注入阻止層に用いる
のとは別種の伝導性を支配する物質が含有される。感光
層の層厚は、好ましくは１〜ｌ　００　ｐｍ、より好適
には１〜８０ｐｍ、最適には２〜５０ＩＬｍとされるの
が望ましい。

表面保護層は、例えばＳｉＣ、ＳｉＮ　　等でｘ　　　
　　　　　　　　ｘ 構成され、層厚は、好ましくは０．０１−１０Ｂｍ、よ
り好適には０．０２〜５ｐｍ、最適には０．０４〜５Ｉ
Ｌｍとされるのが望ましい。

本発明において、ａ−３ｉで構成される光導電層等を形
成するには１例えばグロー放電法、スパッタリング法、
あるいはイオンブレーティング法等の従来公知の種々の
放電現象を用する真空堆積法が適用される。

次に、グロー放電分解法による光導電部材の製造法の１
例について説明する。

第７図にグロー放電分解法による光導電部材の製造装置
を示す、堆積槽ｌは、ベースプレート２と槽壁３とトッ
ププレート４とから構成され、この堆積槽ｌ内には、カ
ソード電極５が設けられており、ａ−３ｉ堆積膜が形成
される例えばアルミニウム合金製の本発明に係る支持体
６はカソード電極５の中央部に設置され、アノード電極
としての役割も兼ねている。

この製造装置を使用してａ−３ｉ堆積膜を支持体上に形
成するには、まず、原料ガス流入バルブ７及びリークバ
ルブ８を閉じ、排気バルブ９を開け、堆積槽１内を排気
する。真空計１０の読みがｓｘｔｏ　　ｔｏｒｒになっ
た時点で原料ガス流入バルブ７を開いて、マスフローコ
ントロチ−１１内で所定の混合比に調整された、例えば
ＳｉＨ。

ガス、Ｓｉ２Ｈ６ガス、ＳｉＦ４ガス等を用いた原料混
合ガスを堆積槽１内の圧力が所望の値になる様に真空計
ｌＯの読みを見ながら排気バルブ９の開口度を調整する
。そしてドラム状支持体６の表面温度が加熱ヒータ１２
により所定の温度に設定されていることを確認した後、
高周波電源１３を所望の電力に設定して堆積槽１内にグ
ロー放電な生起させる。

また、層形成を行なっている間は、層形成の均一化を図
るためにドラム状支持体６をモータ１４により一定速度
で回転させる。このようにしてドラム状支持体６上にａ
−３ｉ堆積膜を形成することができる。

以下、本発明を試験例、実施例に基きより詳細に説明す
る。

試験例　１ 径２ｍｍのＳＵＳステンレス製剛体真球を用い、第５図
及び第６図に示した装置を用い、アルミニウム合金製シ
リンダー（径　６０ｍｍ、長さ２９８　ｍｍ）の表面を
処理し、凹凸を形成させた。

真球の径Ｒ′、落下高さｈと痕跡窪みの曲率Ｒ１幅りと
の関係を調べたところ、痕跡窪みの曲率Ｒと幅りとは、
真球の径Ｒ′と落下高さｈ等の条件により決められるこ
とが確認された。また、痕跡窪みのピッチ（痕跡窪みの
密度、また凹凸のピッチ）は、シリンダーの回転速度、
回転数乃至は剛体真球の落下量等を制御して所望のピッ
チに調整することができることが確認された。

実施例　１〜６、比較例　１ 例１と同様にアルミニウム合金製シリンダーの表面を処
理し、これを電子写真用光導電部材の支持体として利用
した。

その際、各表面処理シリンダーについて、表面処理後に
生じている表面欠陥（エグレ状の傷。

ひび割れ、スジ状キズ等）を目視及び金属顕微鏡により
検査した。結果を表に示した。

次に、これらの表面処理を施したアルミニウム合金製シ
リンダーのそれぞれの上に、第７図に示した光導電部材
の製造装置を用い、先に詳述したグロー放電分解法に従
い、下記の条件により光導電部材を作製した。

堆積膜の積層順序　使用原料ガス　膜厚（ｘｍ）■電荷
注入阻止層　ＳｉＨ４／　　　０．６Ｂｚ　Ｈら ■光導電層　　　　ＳｉＨ４２０ ■表面保護層　　　Ｓ　ｉＨａ　／　　　０　、１２Ｈ
４ こうして得られた各光導電部材を、キヤノン（株）製レ
ーザービームプリンターＬＢＰ−Ｘに設置して画出しを
行ない、干渉縞、黒ポチ１画像欠陥等の総合評価を行な
った。結果を第１表に示した。

なお、比較として、従来のダイヤモンドバイトにより表
面処理されたアルミニウム合金製シリンダーを用いて光
導電部材を作製し、同様に総合評価した。

第　　　　１　　　表 第　　１　　表（続き） （ネ）：×　　実用不能 Δ　実用に向かない ０　実用性良好 Ｏ実用性特に良好 なお、実施例１〜６の光導電部材の支持体におけるＤは
、何れも５００　ＩＬｍとした。

実施例　７，８ 層構成を以下のとおりとした以外は、実施例１〜６と同
一の光導電部材を作製した。

なお、この際、アルミニウム合金製シリンダーの表面の
□を０．０５（実施例７）。

Ｏ，０７（実施例８）とした２つの光導電部材を作製し
た。

まず、共重合ナイロン樹脂を溶剤に溶解した塗布液を用
いて層厚ＩＩＬｍの中間層を形成した。

次いで、発型銅フタロシアニン、結着剤樹脂としてブチ
ラール樹脂を含む塗液を中間層上に塗布して、層厚０．
１５ｇ、ｍの電荷発生層、次いで、ヒドラゾン化合物、
結着剤樹脂としてスチレン−メタクリル酸メチル共重合
樹脂を含む塗液を電荷発生層上に塗布して、層厚１Ｂｇ
ｍの電荷輸送層を順次形成して光導電部材を作製した。

かくして得られた光導電部材を実施例１〜６と同一の総
合評価により評価したところ、実施例７及び実施例８共
に、実用的であり、とりわけ実施例８の光導電部材が優
れていることが判った。

〔発明の効果〕

水引の表面処理金属体によれば、所望の使用特性を損う
表面欠陥を生じやすい切削加工を伴わずに表面処理がな
され、例えば、この金属体を光導電部材の支持体として
用いると、成膜の均一性、電気的、光学的乃至は光導電
的特性の均一性に優れた光導電部材が得られ、特に、電
子写真感光用として用いた場合、画像欠陥が少なく、高
品質の画像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至は第４図は、本発明により形成される金属体
表面の凹凸の形状を説明するための模式図である、第５
図及び第６図は、それぞれ本発明の表面処理金属体の製
造法を実施するための装置の一構成例を説明するための
正面図及び縦断図、第７図はグロー放電分解法による光
導電部材の製造装置を示した模式図である。 １．１’、ｌ”、１”’ ・＠Φ表面処理金属体、 ２．２’、２″、２”’ ・・・表面、 ３．３’、３”、３”’ ・・令剛体真球、 ４．４’、４”、４”’ ・・・球状痕跡窪み。 代理人　弁理士　山　下　穣　平 ４“　第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を形成した
   金属体から成ることを特徴とする 表面処理金属体。 （２）凹凸がほぼ同一の曲率及び幅の窪みにより形成さ
   れている特許請求の範囲第（１） 項記載の表面処理金属体。 （３）金属体表面に複数の剛体真球を自然落下させて前
   記金属体表面に前記剛体真球の痕 跡窪みによる凹凸を形成せしめることを特 徴とする表面処理金属体の製造法。 （４）ほぼ同一径の剛体真球をほぼ同一高さから落下さ
   せる特許請求の範囲第（３）項記 載の表面処理金属体の製造法。 （５）支持体上に光導電層を有する光導電部材において
   、前記支持体が、表面に複数の球 状痕跡窪みによる凹凸を形成した金属体か ら成ることを特徴とする光導電部材。 （６）凹凸がほぼ同一の曲率及び幅の窪みにより形成さ
   れている特許請求の範囲第（５） 項記載の光導電部材。 （７）窪みの曲率Ｒと幅Ｄとが、 ０．０３５≦Ｄ／Ｒ を満足する値をとる特許請求の範囲第 （６）項記載の光導電部材。 （８）窪みの幅Ｄが５００μｍ以下である特許請求の範
   囲第（６）項又は第（７）項記載 の光導電部材。