JPS61230619A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61230619A JPS61230619A JP7298885A JP7298885A JPS61230619A JP S61230619 A JPS61230619 A JP S61230619A JP 7298885 A JP7298885 A JP 7298885A JP 7298885 A JP7298885 A JP 7298885A JP S61230619 A JPS61230619 A JP S61230619A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- layer
- lattice
- recording medium
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体に関する。
記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術
磁気ディスク状媒体は情報処理システムにおけるファイ
ル記憶の中心的な役割を果たしてきている。その技術進
歩を支えたもののひとつは記録密度の向上に対する磁気
記録媒体の改良であった。
ル記憶の中心的な役割を果たしてきている。その技術進
歩を支えたもののひとつは記録密度の向上に対する磁気
記録媒体の改良であった。
近年、その進歩も磁気記録層として、結合剤中に磁性微
粒子を分散して基板上に塗布、固定したいわゆる塗布磁
性層では限界がみえはじめ、強磁性金属薄膜を磁気記録
層として実用化することが急務と認識されるに至ってい
る。この実用化にとって重要なことは、新しいヘッド・
媒体のインタフェイス上の問題を解決することであり、
現状では、保護膜の利用が主流となっている。
粒子を分散して基板上に塗布、固定したいわゆる塗布磁
性層では限界がみえはじめ、強磁性金属薄膜を磁気記録
層として実用化することが急務と認識されるに至ってい
る。この実用化にとって重要なことは、新しいヘッド・
媒体のインタフェイス上の問題を解決することであり、
現状では、保護膜の利用が主流となっている。
第３図は磁気ディスクの断面図である。第３図で１は基
板で２は下地層、３は磁気記録層、４は保護膜である。
板で２は下地層、３は磁気記録層、４は保護膜である。
ここで４の保護膜としては例えば０．０８μｍのＳｉＯ
２スパッタ膜が挙げられる。
２スパッタ膜が挙げられる。
〔例エバ、電子通信学会誌ｖＯ℃、６７、ｌＪＱ、１１
１１８４−１１９０頁（１９８４） 、 ＩＥＥＥ
Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎＭａｇｎｅｔ ｉ ｃ
ｏ 、 Ｖｏｊ２ 、ＭＡＧ”２０ 、ＮＯ，５、８３
０〜８３２頁（１９８４）等〕 発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、保護膜によるスペ
ーシング損失が、高密度磁気記録時には大きくなるので
、十分な信号対雑音比（以下Ｓ／Ｎと記す）を得ること
が出来ないという問題点を有していた。
１１８４−１１９０頁（１９８４） 、 ＩＥＥＥ
Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎＭａｇｎｅｔ ｉ ｃ
ｏ 、 Ｖｏｊ２ 、ＭＡＧ”２０ 、ＮＯ，５、８３
０〜８３２頁（１９８４）等〕 発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、保護膜によるスペ
ーシング損失が、高密度磁気記録時には大きくなるので
、十分な信号対雑音比（以下Ｓ／Ｎと記す）を得ること
が出来ないという問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、基板形状を改良す３１．７
ることにより、保護膜を薄くして、高密度磁気記録での
Ｓ／Ｎを改良した磁気記録媒体を提供するものである。
Ｓ／Ｎを改良した磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するだめに本発明の磁気記録媒体は格
子状の隆起を有する高分子成形物基板上に強磁性金属薄
膜を磁気記録層として配したものである。
子状の隆起を有する高分子成形物基板上に強磁性金属薄
膜を磁気記録層として配したものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、隆起の形状効果により
、磁気ヘッドとの高速摺接での摩擦抵抗が著しく小さく
なり、保護膜を薄くしても磁気記録層が傷つくことがな
いので、ドロップアウトが増大することも起らない上に
、保護膜によるスペーシング損失を小さくできるので、
高密度磁気記録再生で信号出力が大きくなるのと、磁気
ヘッドの摺接状態がなめらかで安定なことから雑音も小
さくなり、Ｓ／Ｎの良好な磁気記録媒体を得ることが出
来ることとなる。
、磁気ヘッドとの高速摺接での摩擦抵抗が著しく小さく
なり、保護膜を薄くしても磁気記録層が傷つくことがな
いので、ドロップアウトが増大することも起らない上に
、保護膜によるスペーシング損失を小さくできるので、
高密度磁気記録再生で信号出力が大きくなるのと、磁気
ヘッドの摺接状態がなめらかで安定なことから雑音も小
さくなり、Ｓ／Ｎの良好な磁気記録媒体を得ることが出
来ることとなる。
実施例
以下、本発明の実施例の磁気記録媒体について図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大断面図を
示すものである。第１図に於て５は高分子成形物基板で
、基材６と塗布層７とから成っている。塗布層７は隆起
が格子状に配列された状態にあることを特徴とするもの
である。
示すものである。第１図に於て５は高分子成形物基板で
、基材６と塗布層７とから成っている。塗布層７は隆起
が格子状に配列された状態にあることを特徴とするもの
である。
この様子は第２図に平面図で示したようなものである。
第２図に隆起部が格子状に配列されていることが示され
ている。格子状配列は概略そうであれば良く厳密な格子
状でなくていいのは勿論である。
ている。格子状配列は概略そうであれば良く厳密な格子
状でなくていいのは勿論である。
８は軟磁性層で９は垂直磁化層、１０は保護膜である。
第１図において基材６としては厚み２６μｍのポリエチ
レンテレフタレートを用いた。
レンテレフタレートを用いた。
この表面に水溶性高分子としてメチルセルロー、スを用
いて格子状の隆起を設けた。
いて格子状の隆起を設けた。
第２図に示したような形状を得るのに、上記した水溶性
高分子を基材６上に塗布乾燥、延伸を２６ベーノ 回はぼ直角方向の延伸方向をとって、隆起部１１の頂部
と底部１２との間の高さを約２０ＯＡとなるものを構成
した。格子の平均間隔は４μｍと１μｍの２種類を実施
した。
高分子を基材６上に塗布乾燥、延伸を２６ベーノ 回はぼ直角方向の延伸方向をとって、隆起部１１の頂部
と底部１２との間の高さを約２０ＯＡとなるものを構成
した。格子の平均間隔は４μｍと１μｍの２種類を実施
した。
このように構成した基板５を用いて、高周波スパッタリ
ング法により、軟磁性層８として０．４μｍのパーマロ
イ薄膜を形成し、その上に０．１μｍのＣｏＣｒ垂直磁
化膜９を形成した。
ング法により、軟磁性層８として０．４μｍのパーマロ
イ薄膜を形成し、その上に０．１μｍのＣｏＣｒ垂直磁
化膜９を形成した。
更に保護膜としてＳ ｉ ０２スパツタ膜を０．０１μ
ｍ形成した。
ｍ形成した。
比較例として、格子状の隆起をもたない、平均粗さ３５
Ａの超平滑な厚さ２６μｍポリエチレンテレフタレート
フィルムを基板として、実施例と同じ軟磁性層、垂直磁
化層を形成しその上に保護膜としテＳ ｔ ０２膜を０
．０１．ｃ＋ｍと０．０８膜ｍ （７） ２種類形成し
たものを準備した。
Ａの超平滑な厚さ２６μｍポリエチレンテレフタレート
フィルムを基板として、実施例と同じ軟磁性層、垂直磁
化層を形成しその上に保護膜としテＳ ｔ ０２膜を０
．０１．ｃ＋ｍと０．０８膜ｍ （７） ２種類形成し
たものを準備した。
実施例と比較例のＳ／Ｎを初期と１万パス後、１ｏ万パ
ス後、１００万バス後調べた。記録密度は、１０ビツト
／ｃｒ／ｌでビット長は０．２μｍで、記録再生ヘッド
は、Ｃｏ−Ｂ系非晶質合金のリターンバ６ ・＼ ／ スを有する薄膜ヘッドで行い、環境条件は２０℃ｅ ａ
％ ＲＨとした。得られた結果は次表に示した。
ス後、１００万バス後調べた。記録密度は、１０ビツト
／ｃｒ／ｌでビット長は０．２μｍで、記録再生ヘッド
は、Ｃｏ−Ｂ系非晶質合金のリターンバ６ ・＼ ／ スを有する薄膜ヘッドで行い、環境条件は２０℃ｅ ａ
％ ＲＨとした。得られた結果は次表に示した。
以上のように、本実施例によれば、格子状隆起を設けた
基板を用いることによりＳ／Ｎが良好な点とそのＳ／Ｎ
が１００万パス後においても保たれることがわかる。
基板を用いることによりＳ／Ｎが良好な点とそのＳ／Ｎ
が１００万パス後においても保たれることがわかる。
この傾向は、６℃８０％ＲＨ，４０℃９０％ＲＨの環境
でもほぼ同一であり、本発明の磁気記録媒体の高密度磁
気記録再生に於ける有用性がわかる。
でもほぼ同一であり、本発明の磁気記録媒体の高密度磁
気記録再生に於ける有用性がわかる。
なお本実施例として、基材６はポリエチレンテレフタレ
ートとしたが、他に、ポリイミド、ポリアミドイミド、
ポリエーテルスルフォン等としても良い。
ートとしたが、他に、ポリイミド、ポリアミドイミド、
ポリエーテルスルフォン等としても良い。
隆起を設けるのに用いた水溶性高分子としてメチルセル
ロースとしたが他にゼラチン、カルボキシメチルセルロ
ース、ポリビニルアルコール、アラビアゴム、カゼイン
等を用いても全く効果ハ変ることのないことが確かめら
れている。
ロースとしたが他にゼラチン、カルボキシメチルセルロ
ース、ポリビニルアルコール、アラビアゴム、カゼイン
等を用いても全く効果ハ変ることのないことが確かめら
れている。
磁気記録層は垂直磁化膜、面内磁化膜いずれでもよく、
本実施例としてパーマロイとＣｏ−Ｃｒの２層膜を挙げ
たが、他にＣｏ −Ｔ ｉ 、 Ｃｏ −Ｗ、 Ｃｏ
−Ｍｏ 。
本実施例としてパーマロイとＣｏ−Ｃｒの２層膜を挙げ
たが、他にＣｏ −Ｔ ｉ 、 Ｃｏ −Ｗ、 Ｃｏ
−Ｍｏ 。
Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−８ｍ、Ｃｏ−
８ｂ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−０等
についても適用できるのは勿論である。
８ｂ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−０等
についても適用できるのは勿論である。
保護膜としてはＳｉｏ２の他に、Ｓｉ○、Ｔｉｅ。
Ｔ ｉ０２ 、ＷＯ３＋ ＷＣ、Ｔ ｔ Ｃ、Ｔ Ｉ
Ｎ 、 Ｃ、の無機膜、ポリイミド等の有機膜、プラズ
マ重合膜等いずれでもよく、脂肪酸等との併用でも良い
のは勿論である○ 発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度磁気記録再生に於
て優れたＳ／Ｎを示すことができ、且つその優れた性能
を長時間使用に於ても保持することができるといったす
ぐれた効果を得ることができる。
Ｎ 、 Ｃ、の無機膜、ポリイミド等の有機膜、プラズ
マ重合膜等いずれでもよく、脂肪酸等との併用でも良い
のは勿論である○ 発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度磁気記録再生に於
て優れたＳ／Ｎを示すことができ、且つその優れた性能
を長時間使用に於ても保持することができるといったす
ぐれた効果を得ることができる。
第１図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図、第２図は
本発明の高分子成形物基板の半面図、第３図は従来の磁
気記録媒体の拡大断面図である。 ６・・・・・・高分子基材、７・・・・・・隆起を有す
る塗布層、１ｏ・・・・・保護膜、１１・・・・・・隆
起部、１２・・・・・平坦部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ｃＯ
−μ 刹［罷
本発明の高分子成形物基板の半面図、第３図は従来の磁
気記録媒体の拡大断面図である。 ６・・・・・・高分子基材、７・・・・・・隆起を有す
る塗布層、１ｏ・・・・・保護膜、１１・・・・・・隆
起部、１２・・・・・平坦部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ｃＯ
−μ 刹［罷
Claims (1)
- 格子状の隆起を有する高分子成形物基板上に強磁性金属
薄膜を配して成ることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7298885A JPS61230619A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7298885A JPS61230619A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230619A true JPS61230619A (ja) | 1986-10-14 |
Family
ID=13505283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7298885A Pending JPS61230619A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61230619A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59182820A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-17 | Toray Ind Inc | 被覆フイルム |
-
1985
- 1985-04-05 JP JP7298885A patent/JPS61230619A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59182820A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-17 | Toray Ind Inc | 被覆フイルム |
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