JPS6174129A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6174129A JPS6174129A JP19490984A JP19490984A JPS6174129A JP S6174129 A JPS6174129 A JP S6174129A JP 19490984 A JP19490984 A JP 19490984A JP 19490984 A JP19490984 A JP 19490984A JP S6174129 A JPS6174129 A JP S6174129A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- layer
- tin oxide
- film
- magnetic recording
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
この発明は、磁気ディスク、@気カード、磁気テープ等
の磁気記録媒体に関するものであり、とりわけ強磁性金
属j吊を磁気記録層とする媒体の改良に関する。
の磁気記録媒体に関するものであり、とりわけ強磁性金
属j吊を磁気記録層とする媒体の改良に関する。
(発明の技術的背景)
近年、従来の塗布型磁気記録媒体とは異なり、蒸着、ス
パッタリング法や湿式めっき法°のように、非磁性基体
上に直接、強磁性層を形成する方法C二より、磁気記録
媒体を製造する方法が検討されている。このようにして
得られた磁気記録媒体は、従来の塗布型のものに比べて
極めて高い記録密度が達成される。中でも最も注目!あ
つめているのが垂直磁化記録方式である。この方式C二
おいては媒体の膜面C二垂直な方向が磁化容易軸である
垂直記録媒体が必要となる。このような媒体に信号を記
°録すると残留磁化は媒体の膜面(二装置方向を向き、
従って信号が短波長になる程媒体内反磁界は減少して、
優れた再生出力が得られる。垂直記録媒体を求高分子材
料や非磁性金属等の非磁性材料から成る基板上C二、例
えばCo −Crより成る磁性層!蒸着法あるいはスパ
ッタリング法により形成したものである。また、基板と
Co −Cr垂直磁性層の間に、信号記録再生の効率全
土げる等の為に、膜内面に磁化容易軸を有するパーマロ
イ等より成る磁性1−!設けた構造!とることもある。
パッタリング法や湿式めっき法°のように、非磁性基体
上に直接、強磁性層を形成する方法C二より、磁気記録
媒体を製造する方法が検討されている。このようにして
得られた磁気記録媒体は、従来の塗布型のものに比べて
極めて高い記録密度が達成される。中でも最も注目!あ
つめているのが垂直磁化記録方式である。この方式C二
おいては媒体の膜面C二垂直な方向が磁化容易軸である
垂直記録媒体が必要となる。このような媒体に信号を記
°録すると残留磁化は媒体の膜面(二装置方向を向き、
従って信号が短波長になる程媒体内反磁界は減少して、
優れた再生出力が得られる。垂直記録媒体を求高分子材
料や非磁性金属等の非磁性材料から成る基板上C二、例
えばCo −Crより成る磁性層!蒸着法あるいはスパ
ッタリング法により形成したものである。また、基板と
Co −Cr垂直磁性層の間に、信号記録再生の効率全
土げる等の為に、膜内面に磁化容易軸を有するパーマロ
イ等より成る磁性1−!設けた構造!とることもある。
強磁性層には、Co −Crの他、Co−Ni、Co。
Co −0等蒸着やスパッタリング法により形成できる
膜やCo−P 、Co−Ni P、Co−Ni −Mn
−P。
膜やCo−P 、Co−Ni P、Co−Ni −Mn
−P。
Co−Re −Nl −P等めっき膜が用いらnる。
(背景技術の問題点ン
以上の扁密度特性!有する媒体!実用化する際の問題と
して、腐蝕、摩耗からいかに強磁性層を保護するかとい
うことがあった。
して、腐蝕、摩耗からいかに強磁性層を保護するかとい
うことがあった。
この為に保護層として種々の(財)料を強磁性層上(二
形成する試みがなされてきた。これまでに、S盈0.
、 TIO,、S輸N、、WC,SムC、BN、 AJ
ffiO,等が検討されてきた。しかしながら、これら
の物質は硬度は高いが潤滑性が悪いため、保護膜上Cユ
わずかな突起があると、記録・再生の磁気ヘッドとの間
の摺接により、そこで保護層の剥離が生じ、更C二は磁
性層が)!かれてノイズが発生したり、記録、再生が不
能となるような実用上致命的な欠陥が発生する場合があ
った。@頂層として満たさなければならない制約、即ち
■短波長記録におけるスペーシングロスの制約からの厚
みの制限、■表面性の良好なことを有しかつ酸化や水酸
化C二よる経時変化のない材料の出現が望まれていた。
形成する試みがなされてきた。これまでに、S盈0.
、 TIO,、S輸N、、WC,SムC、BN、 AJ
ffiO,等が検討されてきた。しかしながら、これら
の物質は硬度は高いが潤滑性が悪いため、保護膜上Cユ
わずかな突起があると、記録・再生の磁気ヘッドとの間
の摺接により、そこで保護層の剥離が生じ、更C二は磁
性層が)!かれてノイズが発生したり、記録、再生が不
能となるような実用上致命的な欠陥が発生する場合があ
った。@頂層として満たさなければならない制約、即ち
■短波長記録におけるスペーシングロスの制約からの厚
みの制限、■表面性の良好なことを有しかつ酸化や水酸
化C二よる経時変化のない材料の出現が望まれていた。
(発明の目的)
本発明はuhの欠点(二鑑みなされたもので、薄い膜で
も平滑性(二優れ硬度も高い材料として酸化スズ膜を保
護層として、強磁性層上に形成した耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。
も平滑性(二優れ硬度も高い材料として酸化スズ膜を保
護層として、強磁性層上に形成した耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。
(発明の概要)
本発明にスズの酸化物、とりわけスパッタリング(:よ
り形成した膜が極薄の条件下でも緻艙な構造を有し、し
かも硬度、平滑性に優れている点に看目し、その目的を
達成したものである。
り形成した膜が極薄の条件下でも緻艙な構造を有し、し
かも硬度、平滑性に優れている点に看目し、その目的を
達成したものである。
まず、従来の記録媒体の耐久性試験の結果を調べた。理
想的t:、 it保護膜上≦二形成した潤滑j−中をヘ
ッドが移動する状態が好ましいが、実際には、基板の凹
凸やヘッドの重量の為にヘッドの一部は保護層と接して
移動していくと考えられる。保護層とヘッドの間の潤滑
層Cニム2があって薄い場合や潤滑層の無い部分では動
摩擦係数が著しく大きくなり媒体の摩耗全誘起した。従
って潤滑油)よ保護膜上にムラなく塗布される必要があ
る。換言すれば充分潤滑油が拡散するような表面状態t
もった材料を選ぶ必要がある。次にヘッドが保護層C二
接した場合には不必要な突起、凹凸があると保護層の破
壊がおこる。保護層の表面平坦性と堅さが必要であるこ
とがわかった。従来用いられてきたAJ!0 、は硬さ
の点でに優れているが平滑性、油のぬれ性において5n
01に省ることが実験から明らか(二なった。また81
3N41ti油のぬれ性は良いが平滑性、硬さにおいて
8nOIC労った。いずれもスパッタリング法(二より
形成した膜の物性を調べて目安とした。ぬれ性は油のぬ
れ状況を広がり時間で測定して比較しに。硬度は引っか
き試験(二より調べた。また平滑性は表面粗さを調べた
。これらの結果、従来多く用いら几た材料の内優牡てい
るとされた人1xo3* SI3N4 (電子技術総合
研究所・研究実用化報告第31巻第1号、P 287表
5.1982年)(:比べ耐摩耗性の点で8nO,が優
れていることが判った0 (発明の実施例) 以下、図面音用いて本発明の詳細な説明する。
想的t:、 it保護膜上≦二形成した潤滑j−中をヘ
ッドが移動する状態が好ましいが、実際には、基板の凹
凸やヘッドの重量の為にヘッドの一部は保護層と接して
移動していくと考えられる。保護層とヘッドの間の潤滑
層Cニム2があって薄い場合や潤滑層の無い部分では動
摩擦係数が著しく大きくなり媒体の摩耗全誘起した。従
って潤滑油)よ保護膜上にムラなく塗布される必要があ
る。換言すれば充分潤滑油が拡散するような表面状態t
もった材料を選ぶ必要がある。次にヘッドが保護層C二
接した場合には不必要な突起、凹凸があると保護層の破
壊がおこる。保護層の表面平坦性と堅さが必要であるこ
とがわかった。従来用いられてきたAJ!0 、は硬さ
の点でに優れているが平滑性、油のぬれ性において5n
01に省ることが実験から明らか(二なった。また81
3N41ti油のぬれ性は良いが平滑性、硬さにおいて
8nOIC労った。いずれもスパッタリング法(二より
形成した膜の物性を調べて目安とした。ぬれ性は油のぬ
れ状況を広がり時間で測定して比較しに。硬度は引っか
き試験(二より調べた。また平滑性は表面粗さを調べた
。これらの結果、従来多く用いら几た材料の内優牡てい
るとされた人1xo3* SI3N4 (電子技術総合
研究所・研究実用化報告第31巻第1号、P 287表
5.1982年)(:比べ耐摩耗性の点で8nO,が優
れていることが判った0 (発明の実施例) 以下、図面音用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の詳細な説明する図である。
基板(1)として50μm厚のポリイミドフィルムを用
い、基板(1)上に0.5μmのCo −C”r垂直磁
化膜(2)をマグネトロン方式のスパッタリング法(二
より形成する。
い、基板(1)上に0.5μmのCo −C”r垂直磁
化膜(2)をマグネトロン方式のスパッタリング法(二
より形成する。
更C二200 Xの酸化スズ層(3)をやはリマグネト
ロンスパッタリング法により200^積層形成する。q
の記録媒体に潤滑油を100 X厚f二塗布した後ヘッ
ドを装着したところ、従来の記録媒体でに200万バス
位で信号出力が低下するが、本実施例では450万パス
を越えても信号出力の低下に認められ無かった。
ロンスパッタリング法により200^積層形成する。q
の記録媒体に潤滑油を100 X厚f二塗布した後ヘッ
ドを装着したところ、従来の記録媒体でに200万バス
位で信号出力が低下するが、本実施例では450万パス
を越えても信号出力の低下に認められ無かった。
第2四絋本発明の別の実施例を説明する図である。基板
1υとして70μm 厚のポリエチレンテレフタレート
!準備し、マグネトロン方式のスパッタリングC二より
0.5μmのパーマロイ膜住りを形成、続いて0.6μ
mのCo −Cr垂直磁化膜任3を形成する。
1υとして70μm 厚のポリエチレンテレフタレート
!準備し、マグネトロン方式のスパッタリングC二より
0.5μmのパーマロイ膜住りを形成、続いて0.6μ
mのCo −Cr垂直磁化膜任3を形成する。
更(二200人の酸化スズI―α滲をやはリマグネトロ
ンスパッタリングにより形成した。この記録媒体(二上
述の実施例と同様に潤滑油を塗布し、ヘッドシニ装看し
たところ、従来の記録媒体では200万バス位で信号出
力が低下するが1本実施例では450万バスを越えても
信号出力の低下は認められなかった。
ンスパッタリングにより形成した。この記録媒体(二上
述の実施例と同様に潤滑油を塗布し、ヘッドシニ装看し
たところ、従来の記録媒体では200万バス位で信号出
力が低下するが1本実施例では450万バスを越えても
信号出力の低下は認められなかった。
(発明の効果)
以上の通り本発明によnば保護層として酸化スズ!用い
たことにより耐久性を同上させた磁気記録媒体を得るこ
とができる。
たことにより耐久性を同上させた磁気記録媒体を得るこ
とができる。
第1図は本発明の実施例を示す図、第2因#2本発明の
別の実施例を示す図である。 (1) 、 (111・・・基板 +21 、
(131−・・垂直磁化膜@・・・パーマロイ膜
(3)、■・・・酸化スズ膜。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第2図
別の実施例を示す図である。 (1) 、 (111・・・基板 +21 、
(131−・・垂直磁化膜@・・・パーマロイ膜
(3)、■・・・酸化スズ膜。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第2図
Claims (1)
- 非磁性基板上に強磁性層を有し、かつ前記強磁性層上に
酸化スズよりなる保護層を有する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19490984A JPS6174129A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19490984A JPS6174129A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6174129A true JPS6174129A (ja) | 1986-04-16 |
Family
ID=16332352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19490984A Pending JPS6174129A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6174129A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62107432A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-18 | Teijin Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-09-19 JP JP19490984A patent/JPS6174129A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62107432A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-18 | Teijin Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
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