JPS61222903A - 水素及び炭素酸化物類を含むガス流の製造方法及びそのための装置 - Google Patents

水素及び炭素酸化物類を含むガス流の製造方法及びそのための装置

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JPS61222903A JP61048197A JP4819786A JPS61222903A JP S61222903 A JPS61222903 A JP S61222903A JP 61048197 A JP61048197 A JP 61048197A JP 4819786 A JP4819786 A JP 4819786A JP S61222903 A JPS61222903 A JP S61222903A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭素酸化物類及び水素を含むガスを製造するた
めに炭化水素類をスチームリホーミングする方法に関し
、またそのスチームリホーミング方法を実施するための
反応器アセンブリーに関する。
従来提案されまたは工業的に使用されている諸スチーム
リホーミング方法の大部分において1式%式% で典型的に示される吸熱的スチーム・炭化水素反応が、
燃焼炉内で外部加熱された管内に床の形に配置された触
媒上で行なわれ、熱はスチーム発生により回収される。
しかし、古くから知られ場合により工業的に使用されて
いる一方法においては。
触媒床を去る高温のリホーミング済のガスは、触媒床内
の内管全通して取り出されるので、熱はその高温ガスと
、触媒上で反応中の反応体との1間で熱交換される。こ
のような方法の例は、英国特許第330872号、米国
特許第4271080号、及び我々の欧州特許第124
226号明細書に記載されている。このような反応帯域
の配列は、一般に「パイヨネット・チューブ」あるいは
「フィールド・チューブ」あるいは「ダブル・パス」1
次リホーマ−と称されるものであるが、有用な熱回収を
与える点及び熱膨張差による構造上の問題を回避する点
において明らかな長所をもつものである。
ここに我々は、「ダブル・ノス」式のりホーマーの熱移
動特性は、熱源がリホーミング段階から独立していない
場合に殊に有利となるある方式で改善されうろことを知
った。
本発明はその第1の態様において、炭化水素原料とスチ
ーム及び/または二酸化炭素とを含む反応体流を、細長
い外部加熱式帯域中に配置した触媒上に通し、そして該
帯域内の管を介して、かつ該触媒上の反応体流と向流関
係に生成ガス流を取り出すことによる炭化水素原料とス
チーム及び/または二酸化炭素との不完全接触反応によ
り、水素と炭素酸化物類とを含む生成ガス流を製造する
に際して、該生成ガス流取出管の壁を介しての生成ガス
流と反応体流との間の熱交換を、導管を去る生成ガス流
の温度が該細長い帯域を去るガス流の温度よりも高々1
00℃だけ低くなるように制限することを特徴とする、
水素と炭素酸化物類とを含む生成ガス流の製造方法を提
供する。
生成ガス流と反応体との間の熱交換を制限する効果は、
細長い帯域の両端の間の領域において、反応体の温度が
(もしもそのような熱交換が制限を受けずに行なわれた
とした場合よりも)低く、従って、反応体と細長い帯域
の外側の加熱用媒体との間の温度差が(もしもそのよう
な熱交換が制限を受けずに行なわれたとした場合よりも
)大きいことである。従って加熱用媒体と反応体との間
の熱移動は一層効率的であり、また所定量の供給原料を
処理するのに必要とされる反応帯域の数及び/または長
さは少なく(小さく)、以下に述べるように、この熱移
動をさらに促進するために個個の方策を使用できる。
本発明方法は、該細長い反応帯域が2次リホーマ−ガス
(すなわち生成ガス流を遊離酸素含有ガスと断熱触媒帯
域中で反応させることによりさらに炭化水素を反応させ
て炭素酸化物類及び水素とすることにより得られる高温
ガス)によって加熱される場合に特に有利である。
本発明方法においては、先行技術の「ダブル・パス」リ
ホーマ−の使用の場合と異なり、生成ガス流と反応体と
の間の内部熱交換は利用できない。
しかし、そのような内部熱交換と同等の熱回収は、細長
い反応帯域の外部加熱用媒体が前述のような2次リホー
マ−ガスであるときには、得られる。
生成ガス流と反応体との間での内部熱回収はないけれど
も、この方法は、燃料燃焼生成物や高温ヘリウム核反応
炉冷媒のようなその他の熱源を用いる場合には、なお有
用でありうる。
好ましくは、細長い帯域の外部加熱用媒体は、5〜80
絶対パルの範囲内の圧力の気体である。
なんとなればこのようにすると慣用リホーマ−炉と比較
して熱移動係数を向上させることが可能であり、また独
立の燃料が燃焼される場合にはその燃焼生成物をエンジ
ン中で膨張させることによシ有用なエネルギー回収が可
能となるからである。
炭化水素供給原料は、原則として、気化可能であり、ま
たスチームとの触媒反応を可能とするに足るに充分な脱
硫が可能であるものならばいずれであってもよい。普通
は、その供給原料は220℃以下の沸点を有し、そして
好ましくは通常は気状であり、天然ガスが非常に適当で
ある。所望ならば、使用される反応体混合物は、メタン
よりも高級な炭化水素を水素と断熱条件中で反応させて
メタンに富むガスを作る方法の生成物であっても、ある
いはそれを含むものでもよい。
(スチーム+C02)と供給原料中の炭化水素の炭素原
子とのモル比は、典型的には2〜5の範囲内である。
細長い帯域の出口(すなわち生成ガスが管に入る所)で
の生成ガス流の圧力は、典型的には25〜80絶対バー
ルの範囲内であり、好ましくは細長い帯域の外側と5バ
一ル未満の差である。
細長い帯域の反応体入口温度は典型的には200〜60
0℃、殊に350〜450℃の範囲であり、管を去る生
成ガス流との熱交換によりこのような温度にするのが都
合がよく、あるいは、生成ガス流を前述のような2次リ
ホーミングに付し、そして2次リホーマ−ガスを細長い
帯域の外部加熱用媒体として使用する場合には、冷却さ
れた2次リホーマ−ガス(すなわち外部加熱媒体として
使用後のもの)との熱交換により上記入口温度とするの
が好都合である。
生成ガス流が細長い帯域を去りそして管に入るときの温
度は、典型的には650〜850℃、殊に700〜80
0℃の範囲である。
(スチーム+C02)比、圧力及び温度条件の組合せは
、生成ガスが乾燥基準で15〜30%(v/V)のメタ
ンを含むような組合せであるのが好ましい。
管壁を介しての熱交換の制限は、細長い帯域を去った後
の反応ガス流が管に沿って移動中に30℃より大きな巾
で冷却されないようなものであるのが好ましく、このよ
うな制限は管の内側及び/または外側の断熱により行な
われ、従って管にフィンを付けたシ、管の内側に乱流板
を設けたり、管を長くすること等の方策手段は、先行技
術の場合とは異なり、本発明にとっては不適当である。
細長い帯域が2次リホーマ−ガスで加熱される場合には
、好ましくは生成ガス流は細長い帯域の出口から、管を
経て、2次リホーマ−へ、実用的に可能な限り熱損失を
少なくなるようにして(好ましくは50℃未満の温度降
下で)、供給される。
2次リホーマ−において、生成ガス流、及び場合により
さらに追加された供給原料は、遊離酸素を含む気体(好
ましくは空気、中度に強化された空気、例えば35%v
/vまでの0□で強化された空気、あるいは酸素を15
%v/v  にまでの濃度に除いた空気)と反応させら
れる。通常実施されるとき、この反応は初期に炎を発生
させるが、その後はその生成ガス中のメタンがスチーム
及びCO2と吸熱的に反応するにつれて温度が下ってく
る。
しかし、炎を発生させない触媒反応を使用することもで
きる。2次リホーマ−ガスの出口温度は典型的には95
0〜1050℃の範囲内である。
2次リホーマ−への酸化剤ガス混合物の供給速度は、乾
燥基準で5%v/v  以下、例えば0.01〜1%V
/V  のメタン含量の2次リホーマ−ガスを与えるよ
うな供給速度であるのが好ましい。
本発明のリホーミング法は、遊離酸素含有ガスとして空
気を用いて実施される2次リホーミングを併せて、アン
モニア合成ガスを製造する際に殊に有用である。アンモ
ニア合成のためには、・通常は2次リホーマ−ガスは、
シフト反応、二酸化炭素除去処理、及び残留炭素酸化物
類除去のためのメタン化処理に付される。慣用諸法にお
いて、2次リホーミングに用いられる空気量は、「水素
子一酸化炭素」:「窒素(空気から導入される)」のモ
ル比が約3(またはメタン化中に消費される水素を見込
んでこれよりもわずかに高い値)である2次リホーマ−
ガスを与えるように制御されることが多い。しかし、本
発明の方法において、細長い帯域が2次リホーマ−ガス
で加熱され、そして2次リホーミングが、好ましい生成
ガスメタン含量及び好ましい2次リホーマ−ガスメタン
含量で、遊離酸素含有ガスとして空気を用いて実施され
る場合には、その空気必要量は、添加される窒素の量が
アンモニア合成に適当な量よりもかなシ埠剰であるよう
な量である。一般的にその空気必要量は、2次リホーマ
−ガスの前述の H2+GO の比が3.0以下、例えば1.0〜2.7の範囲内とな
るような量である。その空気に伴なって導入されるアル
ゴン及び何らかの未反応メタンを考慮に入れて、空気の
使用量及び2次リホーミング条件は、「水素子一酸化炭
素」:「メタン+アルゴン+窒素」のモル比が1.25
〜2.5、殊に1.4〜2.1の範囲であり、かつ「メ
タン+アルゴン+窒素」の少なくとも90%v/v  
が窒素であるような空気使用前及びリホーミング条件で
あるのが好ましい。
このような2次リホーマ−ガスの組成は、それが欧州特
許第157480号明細書に記載の方法によシ処理され
てアンモニア合成ガスとされる場合に、特に適当である
。別法として、過剰窒素は、例えば英国特許第1156
002号明細書に記載されるようにアンモニア合成前に
、または例えば欧州特許第993号明細書に記載される
ように反応済のアンモニア合成ガスからアンモニアを分
離した後そのガスをアンモニア合成へ再循環される前に
、深冷法で除去できる。
本発明方法の別の応用においては、2次リホーマ−中の
酸化剤は実質的に純粋な酸素であってよく、このように
するとメタノールのような有機化合物の合成のために適
当な窒素不含有ガス流を作ることができる。本発明方法
の別の実施態様においては、加熱用媒体は、下流の段階
での廃ガス(例えば圧力変動吸着廃ガスまたは合成パー
ジガス)を燃焼させた生成高温ガスである。
どのような加熱用媒体が、細長い帯域との熱交換に用い
られても、そのような熱交換は非常に激しく、従って細
長い帯域を取囲みその長さの少なくとも主要部にわたっ
て延在しているおおいを通して、細長い帯域内の反応体
の流れに対して向流の方向に、加熱用媒体を通過させる
ことにより実施するのが好ましい。そのおおいの大きさ
く寸法)は、そのおおいと細長い帯域との間の空隙の横
断面積が、細長い帯域の壁とその内側に配置された管と
の間の空隙の横断面積の0.1〜1.0倍、殊に0.2
〜0.5倍となるような、大きさく寸法)とすべきであ
る。
別法として、あるいは追加的に、細長い帯域の外壁は、
少なくともその長さの主要部にわたって、例えば長手方
向またはらせん状のフィン、あるいは6鋲によって与え
られるような張り出した表面を有するのが好ましい。
おおいの長さ及び大きさ、ならびに張り出した表面の長
さ及び種類は、加熱用媒体から細長い帯域中への熱の流
れがその長さに沿って均等になされるように選択される
のが好ましい。
若干の場合に、おおい及び/または張り出した表面が細
長い帯域の出口端部のところまで延びているとするなら
ば、細長い帯域の出口端部領域の過熱の危険がおこりう
り、及び/またはおおい(このものは好ましくは薄手の
金属から作られる)が許容できない高温にさらされるこ
とがありうる。
従って好ましい装置では、細長い帯域の出口領域はおお
いを越えて先まで延在し、また同様に細長い帯域の張シ
出し表面は細長い帯域の出口端部の6     手前で
終っている。特に好ましい装置の一例においては、細長
い帯域の張り出し表mlは、細長い帯域の出口端部領域
においては、細長い帯域の出口端部に(おおいが達する
よりも)近い位置で終っている。このようにすると細長
い帯域の加熱は、細長い帯域のおおいがなくなりそして
細長い帯域が張り出し表面を有しない出口領域において
は、主として輻射により:細長い帯域のおおいがないが
細長い帯域が張り出し表面を有する出口端部の中間部分
では輻射と対流との混合により;そして細長い帯域がお
おいを有する領域では主に対流によシ;なされる。
細長い帯域のおおいを有しない出口端部領域は、細長い
帯域の長さの10〜30%をなし、他方細長い帯域の出
口端部のうちで張り出し表面を有しない部分は細長い帯
域の4〜20%をなすのが好ましい。
細長い帯域の入口領域にわたる熱の流れを促進するため
に、この領域において張シ出し表面を一層大きくするこ
とができ、例えば細長い帯域の長さのうちの最初の部分
(例えば最初の30〜6゜チの長さの部分)にわたって
フィンの数を増加させることにより、それを行うことが
できる。
上記の諸特徴によって、細長い帯域への平均熱流入を非
常に高くすることができ、例えば細長い帯域の外壁の内
表面積1rrL2 当り100KWを越える値とするこ
とができる。この平均熱流量は200 KW /m2 
 以上となることもあるが、典型的には120−150
 KW/m2  である。
細長い帯域を2次リホーマ−ガスで加熱する場合、2次
リホーマ−ガスは細長い帯域の外表面に沿って移動する
につれて、冷却される。そのような冷却中に(殊に、好
ましい温度及び圧力において)、下記のような望ましく
ない副反応を生じさせる強い力が生じる。
2CO→C+ CO2(ブービアール反応)Co + 
H2→C+ H2Q Co + 3H2→CH4+H20 これらの副反応は、ガスと接触する金属がこれらの反応
の触媒として作用し、及び/または炭化物を形成し、及
び/または固体炭素の形成反応に触媒作用または核化作
用することにより元素状炭素を除去する、場合に殊に進
行する。前記の激しい熱交換が生じる方法工程において
は、おおい及びフィンは、そのような副反応が発生する
特に大きな面積を与える。
我々は、そのような望ましくない副反応は、冷却のみを
受ける高温ガスを、金属形態であるか酸化物形態である
かに拘らず一酸化炭素の反応に対して触媒活性を実質的
に示さない1種またはそれ以上の金属製の表面のみと接
触させることにより、防止または制限できることを発明
した。
細長い帯域と熱交換しつつ冷却を受ける高温2次リホー
マ−ガスに接する金属は、酸化物が少なくとも塩化クロ
ム(II)と同程度に金属に還元されにくく、またその
酸化物がさらに金属が酸化されるのを実質的に防止す不
密着性不動態化層を形成するような金属類の1種または
それ以上であるのが典型的である。そのような金属は炭
化物や窒化物を容易に形成しないのが好ましい。適当な
金属の例としては、アルミニウム、チタン、ジルコニウ
ム、ニオブ及びタンタルならびにこれらの金属の合金で
あってこれらのもの以外の金属を10%y /w以上含
まないもの、を挙げることができる。
極めて適当には、そのような金属は、その他の金属を含
まないアルミニウム、または5%w/w 未満のクロム
を含むアルミニウムである。その融点が低いので(65
9℃)、アルミニウムは、本発明方法を実施するプラン
トの構造用金属としては不適当であるけれども、それは
、遭遇する温度に応じて鉄合金、例えば軟鋼、低クロム
鋼またはクロムニッケル鋼〔例えばAIS工 304 
 または316及びインコロイ(Incoloy))上
の拡散接合層の形で使用できる。拡散接合は、鉄合金の
明瞭に区別される相(例えば少なくとも20%vr/v
rのアルミニウムを含む鉄−アルミニウム合金)を形成
するように実施するのが好ましい。そのように処理され
た鉄系合金は、商標[アロナイズド(ALON工ZED
)の商品が標準的な単位量で市販されており、また設備
加工後のそのような拡散接合処理の操作も確立されてい
る。
細長い帯域中の触媒及び2次リホーマ−(使用する場合
)中の触媒は、それぞれ、耐火物担持ニッケルまたはコ
バルトのような、慣用の1次及び2次リホーミング触媒
であってよい。細長い帯域の触媒は、いわゆる「低温」
すなわち550〜650℃の範囲のリホーミング温度に
おいて比較的高い活性及び安定性を有するものであるの
が好ましい。それはランダム充填されてよいが、所望な
らば構造体の形であってもよい。
管を去った後(2次リホーミング段階がない場合)また
は細長い帯域の外側の空隙を去った後(2次リホーミン
グ段階があり、そこからの高温ガスが細長い帯域を加熱
するのに使用される場合)、そのガスを触媒シフト反応
に付して一酸化炭素を水素及び二酸化炭素に変えるのが
好ましい。
かかる触媒シフト反応は、例えば下記のような慣用方式
で実施しうる: 「高温法」二通常は酸化鉄/クロミア触媒上で300〜
400℃の入口温度及び400〜500℃の出口温度で
実施し、乾燥基準で2〜4 % v/vの範囲の出口一
酸化炭素含量を与える。
「低温法」二通常は金属銅、酸化亜鉛及び1種またはそ
れ以上のその他の難還元性酸化物(例:アルミナまたは
クロミア)からなる触媒上で、190〜230℃の入口
温度及び250〜300℃の出口温度で実施し、乾燥基
準で0.1〜1%v/v  の範囲の出口一酸化炭素含
量を与える。
「組合せ法」:高温シフト反応、間接熱交換による冷却
、及び低温シフト反応のシーケンスを使用する(所望な
らばいずれかのシフト反応工程の間に冷却工程を挿入し
てそのシフト反応工程を分割してもよい)。
別法として、「中温」シフト反応を使用することもでき
、この反応では入口温度が250〜350℃で1)、出
口温度が400℃以下である。これには適宜な組成の担
持銅触媒を使用することができ、そして出口一酸化炭素
含量は乾燥基準で2%v/v  以下である。
どのシフト反応法を用いるにしても、それは、冷媒(殊
に加圧水)と間接熱交換しながら実施す ′るのが好ま
しい。従って、触媒は水によって取巻かれた管中−また
は水を取巻いた管中に配置することができる。その水に
よって吸収された熱の利用は、例えば15〜50絶対バ
ールのスチーム発生によってなされ、そのスチームの使
用はシフト反応工程またはスチーム/炭化水素反応工程
への供給によってなされる。
得られるシフト済ガスは冷却して、未反応スチームを凝
縮除去する。それを圧力変動吸着(PSA )によって
さらに処理しようとする場合には、それを選択的酸化反
応またはメタン化反応に付して一酸化炭素を除去しうる
が、それを二酸イヒ炭素吸収液と接触させる必要はない
。シフト済ガスを深冷窒素除去に付そうとする場合には
、それを上記のような吸収液と接触させてから、メタン
化し、乾燥すべきである。このようないくつかの後処理
によって、走路生成物の所望の組成に応じて、存在する
窒素の一部分または全部を除去することができる。
また本発明は、 (a)  (1)  一端部を閉じられ、他端部に入口
を備えた第1の管及び (11)第1の管内に配置され第1の管に沿って延びて
いる第2の管を有し、かくして第1の管と第2の管との
間に触媒を収容するための空隙を備えておシ、第2の管
の内側が第1の管の閉端部において該第1の管と第2の
管の間の空隙と連通しており、そして第2の管が第1の
管の入口端部において出口を有している、 管状反応器及び (b)  第1の管の外表面に加熱用流体を供給するた
めの装置手段、 を備えた吸熱的触媒反応用装置であって、第2の管が内
側もしくは外側またはその両側に断熱層を担持している
ことを特徴とする上記反応用装置をも提供する。
さらに詳しくは、この装置は、そのような管状反応器の
第1の管と熱交換関係にされる流体のだめの入口及び出
口を有する外殻内に複数のそのような管状反応器を含ん
でいるアセンブリー(以下「反応器アセンブリー」と称
することがある)の一部分をなすものである。そのよう
な外殻は5〜80絶対バールの圧力に耐えるように構成
されており、従って熱交換流体は大気圧以上の圧力であ
ってよく、従って適当であるならば、動力回収エンジン
において利用することができ、従ってそのアセンブリー
中の管状反応器の第1の管は比較的薄手の金属から作る
ことができる。
この反応器アセンブリーは熱交換流体源と結ばれうる。
例えばそのような熱交換流体源は、高温燃焼ガスを与え
る外部の炉、あるいは高温加圧ヘリウムを与える粒反応
炉、ある1へは(管状反応器が本発明方法のスチーム・
炭化水素反応の細長い帯域を有していて、その加熱用媒
体が2次ホーマーガスである場合には)酸化反応2次リ
ホーマー、であってよい。
従って本発明は、遊離酸素含有ガスを導入するための手
段を備えた2次リホーマ−と組合せた反応器アセンブリ
ーをも提供するものであり、そのアセンブリーは、その
2次リホーマ−の出口を外殻の入口に連絡する第1の導
管手段、外殻の外側からガス流を管状反応器中へ供給す
るために管状反応器の入口と連通している第2の導管手
段、及び管状反応器を通過後のガス流を送るために各管
状反応器の出口を2次リホーマ−へ連通している第3の
導管手段、を含んでいる。
別の一態様として、反応器アセンブリーは同じ外殻内に
、そのような燃焼または酸化反応リホーミングを行なわ
せるための追加の部門を含んでいてもよい。
この組合せの熱交換装置を完成するには、別の熱交換器
を備えるのが好ましく、この別の熱交換器の高温側は、
外殻からの熱交換流体のための出口と連通しておシ、ま
た低温側は管状反応器の入口と連通している。
反応器アセンブリーは、管状反応器の第1の管の表面に
おける熱移動を促進するのに効果的な流体流れ案内を含
むのが好ましい。そのような案内手段はバッフルからな
シうるが、好ましくは、前述のように各反応管を取り巻
きそして各反応管の長さの少なくとも主要部にわたって
延在しているおおい、及びそのようなおおい内以外のと
ころを流れる流体の流れを妨害または防止する手段、か
らなるのが好ましい。各おおいとそれに関連した管状反
応器との間の横断面積は当該反応器の第1の管と第2の
管との間の空隙の横断面積の0.1〜1.0倍、特に0
.2〜0.5倍であるのが好ましい。
前述のように、おおいは、それに関連する第1の管の閉
端部よりも手前で終シ、その閉端部において第1の管の
10〜30%の長さの部分がおおいを有しないようにす
るのが好ましい。
そのような熱交換をさらに促進するには、第1の管は、
前述のようにその長さの少なくとも主要部にわたって、
張シ出した外表面を有するのが好ましい。張り出し外表
面が無い場合に、その外表面が、張り出し外表面の断面
の最小半径に等しい半径の円筒であるとすれば、張り出
し表面を有しない部分にわたって、第1の管の外表面積
は、該円筒の曲面の面積の1.5〜10倍であるのが好
ましい。
前述の理由のために、張り出し表面は第1の管の閉端部
の手前で終るのが好ましい。従って第1の管は、張り出
し表面を有する部分と閉端部との間に円筒状部分を有す
るのが好ましく、この円筒状部分は第1の管の長さの4
〜20%をなすのが好ましい。
張り出し表面は、例えばフィン、6鋲によシ、あるいは
波形断面の第1の管を用いることにより与えることがで
きる。
第2の管の断熱は、少なくとも10〜30%にわたって
延在する領域を占める第2の管の部分、殊に第1の管の
入口から測定して第1の管の長さの少なくとも5〜50
%にわたって延在する領域に、関連して施されるのが好
ましい。
断熱は、第1の管内にある第2の管の長さの実質上全体
にわたって延在するのが好ましい。断熱は、例えば耐火
性酸化物被覆、または気体空隙を与えるスリーブ、また
は固体または繊維状耐火性酸化物を内包したスリーブ、
によって与えることができ、輻射反射層を含ませること
ができる。
気体空隙、または繊維状(殊にセラミック繊維)断熱材
を内包する金属スリーブは興味のあるものであるが、反
応器が長尺であること、及び断熱材を介して生じる可成
りの温妾差の結果として問題が生じる。従って第2の管
とそのスリーブとの間の熱膨張差がいくつかの問題を引
き起こす。
好ましい形態の構成は、スリーブの一端部を第2の管に
固定し、スリーブの他端部を第2の管に固定せずに膨張
または収縮が自由であるようにす、  ることである。
若干の場合に、第2の管及びスリーブをいくつかの管部
材の形に加工し、次いでこれらの部材同志を一体に溶接
するのが望ましいことがある。そのような場合に、少な
くとも2つの隣接部材のそれぞれは一つのスリーブを有
し、各スリーブの一端部をそれに関連する部材に固定し
、他端部を膨張または収縮が自由であるようにしておき
、隣接するスリーブの一方のものの自由端部は該一方の
部材に隣接した部材上のスリーブの固定端部に隣接する
ようにするのが好ましい。そのような場合に、隣接部材
のスリーブの寸法は、運転温度で完全に膨張したときに
、一方のスリーブ付き部材がその部材と隣の部材との間
のギャップの実質上すべてにわたって延在して、少なく
ともそのようなギャップ内の固定気体によって絶縁が与
えられるような寸法とするのが好ましい。実用可能であ
るならば、繊維状絶縁材を膨張するスリニブと共に延在
させてもよい。
それらの各スリーブはその第20管またはその部材に対
して、管または部材の上流側端部において固定されるの
が好ましい。この場合に、絶縁は、固定端部における気
体の圧力よりも低い自由端部における気体の圧力にある
ので、スリーブの破損は、スリーブを引き離すよりもむ
しろ、スリーブをセラミック断熱材上へ押し付けるよう
にするであろう。その結果として、要するにスリーブは
管によって構造的に支持され、従って薄手の金属で作ら
れるものであればよい。第1の管と第2の管との間には
触媒が入れられ、その触媒はランダム充填状態であるこ
ともあるので、断熱構造は第2の管(すなわち内側の管
)の内側になるようにして触媒単位体が比較的低いスリ
ーブではなく構造用金属にもたれかかるようにするのが
好ましい。
本発明を図面を参照して説明する。
第1図の反応器アセンブリー10は、上方部分12及び
下方部分14を有し、これらはフランジ16$18で係
合している。アセンブリーlOはインサート20をも有
する。下方部分14は、金属製耐圧外殻22(断熱材と
しての耐火コンクリート24の内張りを付けられている
)を有し、まだ2次リホーマ−ガスの入口26及び出口
28をそれぞれ備えている。外殻22の下方部分の周囲
にはジャケット30が取付けられており、このジャケラ
)30には孔32から水が供給でき、孔34からスチー
ムが取り出せるようになっている。
ジャケラ)30は外殻を所望の温度、例えば100℃に
維持するように機能する。
アセンブリー10の上方部分12は、断熱材としての耐
火コンクリート38で内張りされた金属製外殻ドーム3
6を有し、また反応体入口及び出口孔40.42をそれ
ぞれを備えている。
インサー)20は、下方部分14の耐火コンクリート内
張り24の頂部の凹部46中に係合するフランジ44に
よって下方部分14中に配置されている。インサート2
0は、インサート20の熱膨張を許容する距離だけコン
クリート内張り24の内壁から隔てられた薄手金属製ス
カート50(図面では一部切欠いて示しである)内に配
置された複数の金属製管状反応器48を含んでいる。
典型的には50本から100本またはそれ以上の反応器
48が設けられるが、第1図では簡明のため4本だけ示
しである。
各反応器48は、その表面積を増すためにその表面にフ
ィン54を設けた閉管52を有し、おおい56よりも先
まで延びている。各反応器48は、それら相互に関し、
及びスカート50に関して、小ゲージの水平金属線また
は帯状片枠組み(図示せず)によって位置決めされてい
る。
インサート20は、熱膨張を許容する蛇腹60を経て上
方部分12の孔40へ接続された反応体導入パイプ58
を有する。パイプ58には断熱62が施されている。反
応器48のそれぞれは、上方部分12内の空隙66を介
して、反応体出口孔42と連通している反応体出口64
を有する。
インサート20は下方部分14中の出口孔28を介して
インサート20から延びる2次リホーマ−ガス出口バイ
ブ68をも有する。
アセンブリー10を組立て可能とするために、バイブロ
8はインサート20に対して密閉されないが、それに滑
入保合してバイブロ8が孔28を通して引き出せるよう
にし、かくしてインサート20が下方部分14(それか
ら上方部分12を取り外した後に)から引き上げ取り出
せるようにしである。
インサート20の構造は第2及び3図にさらに詳しく示
されており、これは上方及び下方の管プレー)70.7
2をそれぞれ有しこれらの管プレートは環状壁74及び
フランジ44と共に室76を形成しており、この室76
に反応体入口バイブ58を経て反応体が供給される。
各外側反応器管52は、下面に断熱層78を有する下方
の管プレート72から懸は下げられており、他方、内側
反応器管80のそれぞれは、その内面に断熱層82を担
持しており、上方の管プレート70の上から室76を経
て、それに関連した外側管52の内側を下方へ延びて、
第3図に示すように外側層の閉端部84近くで終ってい
る。
簡明のために図面では、上方管プレート70は環状壁7
4及び下方管プレート72と一体であるように示しであ
るが、実際には上方管プレート70は環状壁74及び/
または下方管プレート72から分離させ、触媒の装入お
よび排出ができるようにそれぞれの外側管52内に内側
管80を残こすこともできる。触媒粒子は各外側管52
の閉端部40の近くの孔あき格子88によって支持され
、内側管80と外側管52との間の空隙内に、点線92
で示した水準付近まで装入される。
室76の環状壁74から金属製幕状物94が下方へ延び
てスカート50にその下端部が固定されている。反応管
52を取巻く各おおい56はスカート50と一体の薄い
プレート96から懸下している。プレート96は、かく
して、幕状物94及び下方管プレート72で境界付けら
れた室98の下面を限定している。室98は、おおい5
6とそれに関連した管52との間の空隙100と連通し
ており、室98の出口は幕状物94の壁にあるスリーブ
102であり、これを通して2次リホーマ−ガス出口バ
イブ68が滑入保合されている。
各外側反応管は、典型的には数mの長さ、例えば5〜1
5mである。第3図で、下方管プレート72から触媒支
持格子88までの外側管52の長はLo である。各外
側反応管52上のフィン54は、下方管プレート72の
下から距離L2 のところから出発して距離L1  に
わたって延在している。
おおい56はプレート96から距離L3 にわたシ延在
しており、プレート96は管プレート72の下から距離
L4  のところに位置している。
かかる配置において、触媒を有する細長い帯域90は、
はとんどり。に等しい長さを有している。
おおい56は管52の閉端部84よりも手前で終ってお
り、従って管52のおおいがされていない部分の長さL
5 はり。−(L3+L4)に等しい。L5がり。の1
0〜30%であるのが好ましい。同様にフィン54は管
52の閉端部84よりも手前で終っており、管52の閉
端部の方の触媒を含む細長い帯域のうちで張り出た表面
(すなわちフィン)を有しない領域の長さL6はり。−
(L□+L2)に等しい。L6がL5より小さいこと、
及びL6がり。の4〜20%であることが好ましい。
空隙90の横断面積は A・== 、(D 、2−1)22 )で、fJ、 、
:、(D、及びD2  はそれぞれ管52の内径及びV
80の外径である)。
フィン54によって占められる横断面積を無視すれば、
空隙100の横断面積は である(D3 及びD4 はそれぞれおおい56の内径
及び管52のフィン付きでない表面の外径である)。
A2がA1の0.1〜1.0倍、特に0.2〜0.5倍
であるのが好ましい。
フィン54は管52のフィン付き部分に張シ出した表面
を与える。フィンの高さをhとし、管52のフィン付き
部分の長さをQとすれば、この張シ出し表面は下記のA
3  なる面積を有する。
A3==πD4Q+2NhQ (Nはフィンの数である)。典型的には6管に20〜1
00条のフィンが付けられる。図面には示されていない
が、下方管プレート72近くの管52のフィン付き部分
は、それよりも遠くのフィン付き部分のフィンの数より
も多くの数Nl  のフィンを有してもよい。プレート
72から遠くのフィン付き部分がN2条のフィンを有す
るとすれば、管52のフィン付き部分の単位長さ幽シの
平均張り出し表面の面積は、 A4==πD4Q+−i、(NIQ1+N2Q2)h 
である(Ql及びQ2はN1及びN2条のフィンを有す
るそれぞれの部分の長さである)。
A4=1.5XπD4Q  ないし10πD4Qである
のが好ましい。
第4図に示したように、管52%管80ならびにおおい
56で構成された管状反応器群は、正三角形配列で配置
されるのが好都合である。相隣れる反応器のおおい同志
の間の空隙104中ではガス流動はなされないので、反
応器同志は、工学的見地から便宜であるように接近した
距離で配置しうる。
各反応器の内側管80には、前述のように、断熱82が
与えられている。第3図において、断熱は管80の全長
にわたって延在するように示されている。しかし、それ
が管80の全長にわたって延在することはいつも必要で
あるとは限らない。
第5図において(第5図は第3図に対応するがおおい5
6、プレート96及びフィン54が省略されている)、
断熱は距離L7 のところから出発し、距離L8のとこ
ろで終っていることが示されている。L7 がLoの1
0%以下、特に51以下であシ、L8がり。の少なくと
も30%、特に少なくとも50チであるのが好ましい。
断熱82は管80の内壁に隣接して配置されたセラミッ
ク繊維材料であるのが好適である。それは薄手の金属製
管状カバー106によって定位置に保持するのが好適で
ある(第6図参照)。断熱82の結果として、使用の際
に、カバー16内のガス温度は管80の外側の温度より
も著しく高くなり、管80とカバー106の長手方向の
熱膨張に著しい差が出やすい。これを相殺するには、第
6図に示した構成を採用するのが好ましい。管8oの下
端部において、カバー106は管8oの内面に108で
溶接されている。カバー106の上端部110は管80
の壁に固定されておらず、膨張及び収縮が自由である。
カバー106の自由端部110は張り開かれる(フレヤ
一式とする)のが好ましい。
管80をいくつかの部材(セクション)の形で作シ、こ
れらの部材の端と端とを溶接するのが便宜であることが
多い。第6図では、二つの部材80aと80bとの間に
溶接部112が示されている。各部材には、それ自体の
断熱層82a。
83b、及びカバー106a、106bがそれぞれ設け
られている。各部材の下端部において、カバー(例えば
106b)が、その管(例えば80b)の内表面に、例
えば108bのところで溶接されている。相隣れる部材
のカバー106aのフレヤ一端部110aの寸法は、第
6a図に示されるように、高温状態すなわち膨張した状
態では、7レ一ヤ一端部110aが隣の部材のカバー1
06aの溶接下端部108bを越えて伸びるような寸法
とされる。このようにすると、固定された状態のガスを
含む空隙14が、一方の部材の断熱82aの端部と次の
部材の断熱82bの開始部との間の断熱として与えられ
る。使用中の管80とカバー106との間の温度差は管
の断熱部分の下端部から上端部にかけて管80の長さに
沿って増大するから、管80がいくつかの部材から作ら
れている場合には、カバー106aの端部110aと管
sobの溶接端部108bとの間の距離は、冷えた状態
においては、管80の断熱部分の下端部から上端部へ向
けての連続的な接合のためには、増大するのが好ましい
断熱82は複数の層であってもよく(図示せず)。
その各層が管80の壁に近い表面上に金属箔層を有して
いてもよい(図示せず)。
カバー106の下端部は固定され、その上端部は固定さ
れずに自由であシ、またガス流動は管80の中で上向き
であるので、カバー106の上端部におけるガス圧力は
その下端部におけるガス圧力よりも低く、従ってカバー
106の破損によシ、内部への破損ではなく断熱材82
へ向けて曲がシ付くようになる。
管80の下端部において約40絶対バールの圧力及び8
00℃の温度で運転されるべき反応器についての典型的
な諸寸法(単位mm)は下記の通シである。
管80 外径       31 管80 壁厚        1,65カバー106 
厚     0.5 カバー106 内径    22 セラミック繊維断 熱層、各層の厚さ     約1 管80内でのガス流動のために利用できる有効内部横断
面積は、もしガスの流れが反転されたならば管80及び
管52間の空隙90中の触媒粒子が吹き出されうるよう
な、充分な圧力降下を与えるように選択できる。このよ
うにすると、触媒の排出をしたいときに管80の出口端
部60に加圧ガス源を接続することにより触媒の排出が
容易になしうるようになる。
バイブロ8とスリーブ102との間の屑入接合は気密性
でないであろうから、スカー)50の寸法を、高温状態
においてはスカート50の外表面とコンクリート内張シ
24との間の2次リホーマ−ガスの流れを制限するよう
にスカートが充分に膨張するような、寸法とするのが好
ましい。このようにすると、おおい56と管52との間
の空隙100を迂回する2次リホーマ−ガスの量を最少
化できる。
2次リホーマ−ガスが管52を流れつつ冷却されるとき
にそのガスからの炭素沈着を少なくするには、少なくと
も管52の外表面、フィン54及びおおい56の内表面
は、アルミニウムの拡散接合層を有するステンレス鋼製
であるのが好ましい。
またプレート96の上側表面、幕状部94の内壁及びバ
イブロ8は同様な構成であってよい。
第7図には、わずかに改変した反応器アセンブリーが略
図で示されている。その構成は第1図の反応器アセンブ
リー10のそれと類似であるが、2次リホーマ−ガス出
口28アセンブリーの上方部分12に位置され、ビーム
116が上に設けられ上方管プレート70へ密封されて
空隙66を形成し、その空隙から1次リホーマ−ガスが
パイプ118(空隙66を孔42に連絡)を経てアセン
ブリー10から退出するようになっており、幕状物94
は除かれておシ、そして冷却2次リホーマ−ガスが室9
8を室76の環状壁74の外側を回って退出し、次いで
、ドーム116と上方部分12のコンクリート内張りと
の間の空隙120を経て、出口孔28に出るような構成
とされている。
第1〜4図の反応器アセンブリーを用いての典型的なプ
ロセスにおいては(第2及び3図中の矢印はガスの流れ
を示す)、天然ガス(1容)とスチーム(3容)との混
合物が40絶対バールの圧力で、熱交換器122中で4
00℃に予熱され(第8図参照:第8図では簡明のため
一つの反応器のみが示されている)、管58を経て室7
6へ供給される。次いで反応体は管8oと管52との間
の空隙90中の触媒(担持ニッケルスチームリホーミン
グ触媒)を下向きに通シ、そこで、おおい56及び管5
2の間の空隙を上向きに流れるガスによって加熱される
。空隙100を上向きに流れるガスは、触媒上での吸熱
的スチームリホーミング反応に必要な熱を与える。反応
は、反応体混合物が触媒内を下向きに通りそしてその温
度が上昇するにつれてさらに進行する。管52の底にお
いて、得られた1次すホーミング済ガスは、このときに
典型的には乾燥基準で15〜30%y/vのメタンを含
んでおり、そして、このとき例えば37.6絶対バール
の圧力と720℃の温度であシ、管80を介して戻され
る。断熱82の結果として、加熱用ガスは空隙90中の
反応体混合物に向けである制限された熱損を被るにすぎ
ない。1次すホーミング済のガスは典型的には700℃
の温度で空隙66及び出口42を経て反応器アセンブリ
ー10を去り、そして管124を経て2次リホーマー、
26に入る(2次リホーマ−は耐火内張シされ多くの場
合水ジャケットを付けた容器からなる慣用タイプのもの
でよい)。2次リホーマ−にはライン128を経て適当
なバーナーノズルに高温空気が供給される。その結果の
発炎反応の生成物は、ニッケル2次リホーミング触媒1
30上で乾燥基準で典型的には0.01〜1 % v/
v  のメタン含量における平衡に向けられる。そこか
ら2次すホーミング済ガスが(典型的には1000℃)
で出る。この高温ガスはライン132を経て反応器アセ
ンブリー10へ戻され、孔26を介して反応器アセンブ
リーの下方部分14に入る。
次いでその高温2次リホーマ−ガスは管52の下端部(
フィンが付けられていない)を通シ過ぎ、次いで、管5
2のおおいが付いていないがフィン付きの部分を通過し
、そしておおい56と管52との間の空隙中に入シそこ
を上方へそして室98中へ入る。管52に沿って通過す
る間に、2次リホーマ−ガスは管52と82との間の空
隙90内の反応体に熱を供給するので、冷却する。室9
8から、冷たい2次リホーマ−ガスは、典型的には35
.6絶対パールの圧力及び500℃の温度で、ノミイブ
68を経てアセンブリー10を出る。このガスは次いで
ライン134を経て熱交換器122へ供給され、そこで
天然ガス/スチーム混合物を予熱するための熱源として
機能する。次いでこのリホーミング済ガスはライン13
6を経て別の後処理、例えばシフト反応及び炭素酸化物
除去処理へ供給される。
第9図には、本発明による管状反応器、すなわち断熱処
理した内側管をもつ反応器についての温度分布(曲線A
、B、C)及び比較のためにそのような断熱処理を施さ
ない同等の管状反応器についての温度分布(曲線A/ 
、 B/、  C/ )  の理論計算値のグラフが示
されている。曲線A及びA′ は外側管の外側の加熱用
媒体の温度分布を示し、曲線B、B’ は触媒含有帯域
中の反応体の温度分布を示し、そして曲線c、c’  
は内側管を通り戻るガスの温度分布を示す。例えば、5
75℃の反応体温度において管状反応器外壁を介しての
温度差は本発明によれば約60℃であるが、熱交換に制
限を与えないときにはわずかに約20℃であること、本
発明によればその他の反応体温度のいずれにおいてもそ
の温度差が大きいことが明かである。
所与のガス生産量において、例えば日量1000メート
ルトンのアンモニアの生産に対応するガス生産量におい
て、必要とされる反応器の数は、内側管の壁を介しての
熱交換に制限を与えない場合に必要とされる反応器の数
のわずかに83〜86チであることが理論計算される。
さらには、管を短縮することができ、内側管の壁を介し
ての熱交換に制限を与えない場合の、66〜73チの加
熱長さとすることができ、従って触媒の量も少なくする
ことができ、同様な比較基準で57〜64%とすること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、反応器アセンブリーの縦断面概略図。 第2図は、第1図のアセンブリーの部分拡大縦断面図。 第3図は、第1及び2図の反応器の一つの拡大縦面図。 第4図は、第1及び2図の反応器の一つの横断面図であ
り、相隣れる反応器同志の相対的位置をも示している。 第5図は、フィン及びおおいを除いた状態の第3図と同
様な縦断面図。 第6図は、「冷状態」の反応器の内側管(第2の管)の
拡大縦断面図。 第6a図は、「高温状態」にある第6図の反応器の内側
管(第2の管)の部分拡大断面図。 第7図は第1図のものと異なる反応器アセンブリーの縦
断面略図。 第8図は2次リホーマ−及び熱交換器と組合せた第1図
のアセンブリーのフロー図。 第9図は、本発明による反応器及び慣用ダブルパス式リ
ホーマ−における反応体及び加熱用媒体の温度分布を示
すグラフ。 10:反応器アセンブリー 22:外殻 26:2次リホーマ−ガス入口 28:2次リホーマ−ガス出口 40:反応体入口孔 42:反応体出口孔 48:管状反応器 54:フィン 56:おおい 64:反応体出口 68:2次リホーマ−・ガス出口孔 52:第1の管(外側管) 80:第2の管(内側管) 82:断熱層 84:閉端部 90:細長い帯域 122:熱交換器 126:2次リホーマ− (外5名)

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)炭化水素原料とスチーム及び/または二酸化炭素
    とを含む反応体流を、細長い外部加熱式帯域中に配置し
    た触媒上に通し、そして該帯域内の管を介して、かつ該
    触媒上の反応体流と向流関係に生成ガス流を取り出すこ
    とによる炭化水素原料とスチーム及び/または二酸化炭
    素との不完全接触反応により、水素と炭素酸化物類とを
    含む生成ガス流を製造するに際して、該生成ガス流取出
    管の壁を介しての生成ガス流と反応体流との間の熱交換
    を、該管を去る生成ガス流の温度が該細長い帯域を去る
    ガス流の温度よりも高々100℃だけ低くなるように制
    限することを特徴とする、水素と炭素酸化物類とを含む
    生成ガス流の製造方法。
  2. (2)生成ガス流が該取出管の通過中に30℃未満だけ
    冷却する特許請求の範囲第1項に記載の方法。
  3. (3)生成ガス流を別の断熱触媒帯域中において遊離酸
    素含有ガスと反応させることにより、炭化水素をさらに
    反応させて炭素酸化物類及び水素とし、そして得られる
    高温ガス流を諸細長い帯域の外部加熱のために使用する
    特許請求の範囲第1または2項に記載の方法。
  4. (4)生成ガスの反応を第2次リホーマー中で実施し、
    そして生成ガス流を該細長い帯域の出口から該取出管を
    経て、50℃以下の温度降下で該第2次リホーマーへ供
    給する特許請求の範囲第3項に記載の方法。
  5. (5)反応体を該細長い帯域へ供給する前に、反応体を
    、該細長い帯域を加熱するのに用いられた後の該高温ガ
    ス流との熱交換により加熱する特許請求の範囲第3また
    は4項に記載の方法。
  6. (6)該細長い帯域との熱交換中に、該高温ガス流は、
    金属状または酸化物状のいかんを問わず、一酸化炭素の
    反応に対して実質的に触媒活性を示さない1種またはそ
    れ以上の金属から作られた表面と接触するにすぎない特
    許請求の範囲第3〜5項のいずれかに記載の方法。
  7. (7)該細長い帯域を取り巻き少なくともその長さの主
    要部にわたつて延在しているおおいの中を、該細長い帯
    域内の反応体の流れに対して向流方向に、加熱媒の流れ
    を通過させることにより、該細長い帯域を加熱する特許
    請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載の方法。
  8. (8)該細長い帯域の出口端部領域は該おおいよりも突
    出している特許請求の範囲第7項に記載の方法。
  9. (9)該細長い帯域の外壁は、少なくともその長さの主
    要部にわたつて、張り出した表面を有する特許請求の範
    囲第1〜8項のいずれかに記載の方法。
  10. (10)該細長い帯域の張り出した表面は該細長い帯域
    の出口の手前のところで終つている特許請求の範囲第9
    項に記載の方法。
  11. (11)(a)(i)一端部を閉じられ、他端部に入口
    を備えた第1の管及び (ii)第1の管内に配置され第1の管に沿つて延びて
    いる第2の管を有し、かくして 第1の管と第2の管との間に触媒を収容す るための空隙を備えており、第2の管の内 側が第1の管の閉端部において該第1の管 と第2の管の間の空隙と連通しており、そ して第2の管が第1の管の入口端部におい て出口を有している、 管状反応器及び (b)第1の管の外表面に加熱用流体を供給するための
    装置手段、 を備えた吸熱的触媒反応用装置であつて、第2の管が内
    側もしくは外側またはその両側に断熱層を担持している
    ことを特徴とする上記反応用装置。
  12. (12)第1の管の入口端部から測つて、少なくとも、
    第1の管の長さの10%の位置から30%の位置まで延
    びている領域を占める第2の管の当該部分にわたつて断
    熱がなされている特許請求の範囲第11項に記載の装置
  13. (13)気体空隙または繊維状断熱材充填空隙を包囲し
    、その一端部を第2の管へ固定され、他端部を膨張また
    は収縮が自由であるようにされたスリーブにより断熱が
    与えられる特許請求の範囲第11または12項に記載の
    装置。
  14. (14)第2の管は一体に溶接された複数の管部材から
    なり、そして少なくとも二つの隣接部材のそれぞれは気
    体空隙または繊維状断熱材充填空隙を包囲する一つのス
    リーブを有し、そのスリーブは一端部を関連する隣接部
    材へ固定され他端部を膨張または収縮が自由であるよう
    にされており、一方の隣接部材のスリーブの自由端部は
    その一方の部材に隣接した部材上のスリーブの固定端部
    に隣接している、特許請求の範囲第12項に記載の装置
  15. (15)スリーブの固定端部は自由端部よりも上流側に
    ある特許請求の範囲第13または14項に記載の装置。
  16. (16)一つまたはそれ以上のスリーブが第2の管の内
    側にある特許請求の範囲第13〜15項のいずれかに記
    載の装置。
  17. (17)第1の管を取り囲みそして第1の管の長さの少
    なくとも主要部にわたつて延びているおおいを有し、か
    くしてそのおおいと第1の管との間に、第1の管と第2
    の管との間の空隙の横断面積の0.1〜1.0倍の横断
    面積を有する空隙を備えた特許請求の範囲第11〜16
    項のいずれかに記載の装置。
  18. (18)該おおいが第1の管の閉端部よりも手前で終り
    、その閉端部において第1の管の長さの10〜30%が
    おおいをつけられていない特許請求の範囲第17項に記
    載の装置。
  19. (19)第1の管は、その長さの少なくとも主要部にわ
    たつて、張り出した外表面を有して、その張り出した外
    表面を有する部分の外表面積がその張り出し表面の横断
    面の最小半径に等しい半径の円筒の曲面の面積の1.5
    〜10倍となるようにした特許請求の範囲第11〜18
    項のいずれかに記載の装置。
  20. (20)第1の管の張り出した表面を有する外表面の部
    分は第1の管の閉端部の手前で終つており、第1の管の
    外表面はその張り出し表面部分の端部から閉端部までの
    部分にかけて円筒状であり、その円筒状部分は第1の管
    の長さの4〜20%をなす円筒状外表面を有する特許請
    求の範囲第19項に記載の装置。
  21. (21)加熱用流体の入口及び出口を有する外殻と組合
    せられその外殻内に配置された特許請求の範囲第11〜
    20項のいずれかに記載の装置からなるアセンブリー。
  22. (22)(i)特許請求の範囲第21項に記載のアセン
    ブリー、 (ii)該外殻の外側の2次リホーマー、 (iii)遊離酸素を含むガスを2次リホーマーへ供給
    する装置手段、 (iv)2次リホーマー出口を該外殻の入ロへ結ぶ第1
    導管手段、 (v)外殻の外側からガス流を管状反応器中へ供給する
    ために管状反応器の入口と連通している第2導管手段、
    及び (vi)管状反応器を通過後にガス流を送るために管状
    反応器の出口を2次リホーマーへ連通している第3導管
    手段、 からなる組合せ装置。
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