JPS61222026A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に利用できる垂直磁気記録用
の磁気記録媒体に関するものである。

従来の技術 近年、磁気記録の高密度化の進歩は著しく、現在実用に
供されている長手記録に代る新しい記録方式である垂直
磁気記録方式が提案され、活発に開発が進められている
（例えば、日経エレクトロニクス、１１４〜１２６頁、
１９８１年１月１９日号）。この方式には、新しい垂直
方向に磁化可能な強磁性５ｌＩＩからなる磁気記録層を
もった磁気記録媒体が必要である。

垂直磁気記録の実現は、特公昭５７−１７２８２号公報
に開示されたＧＯ−Ｃｒスパッタ躾によりなされたが、
これは第２図に示すように、高分子基板等の非磁性基板
１上に直接ｃｏ−ｃｒｍからなる垂直磁化膜２をスパッ
タ蒸着したもので、記録再生感度は満足できる水準では
なかった。

その後、第３図に示される媒体構成が提案されるに及び
、実用化の可能性がみえてきたために、各方面で精力的
な開発が進められるようになった。

第３図において、３は高分子基板、４はＮ１−Ｆｅに代
表される軟磁性層、５はＱｏ−Ｏｒに代表される垂直磁
化膜である。

かかる構成の媒体は、特公昭５８−９１号公報に開示さ
れたものに端を発しているもので、その後の研究によっ
ても、記録感度が大幅に向上していることが確認されて
いるものである。

この構成の媒体で特に管理が重要なのは、軟磁性層４の
条件で、記録感度の著しい向上と裏腹に、不均一性が雑
音源になるからである。

現在提案されている点をまとめると、（イ）軟磁性［１
４の困難軸をヘッド走査方向にそろえること、（ロ）軟
磁性層４の初透磁率を高くしかつ均一にすること、（ハ
）軟磁性層４の抗磁力Ｈａを下げ、飽和磁化、ＭＳを大
きくすることが必要である（例えば、第８回日本応用磁
気学会学術講演概要集１１１頁（１９８４年１１月））
。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記条件はディスク状媒体で満足できない
し、磁気ヘッドを接触させることが必要な短波長記録で
は、例えテープ状媒体で前記条件を満足しても、得られ
る信号対雑音（Ｓ／Ｎ）は十分とは言えないという問題
点がある。

本発明は上記１？！Ｉｆｌｉ点に鑑みなされたもので、
磁気ヘッドと媒体表面が接触しても、スペーシング損失
を改良した短波長記録で良好なＳ／Ｎを得ることの出来
垂直磁気記録用の磁気記録媒体を提供するものである。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体は、
高分子基板上に軟磁性層を配し、該軟磁性層上に、微粒
子塗布層を介して垂直磁化磁性層を配したものである。

作用 本発明は、上記した構成によって、磁気ヘッドから受け
る応力が軟磁性層に対して均一に分散してかかるため、
歪みにもとづくゆらぎに原因する雑音原因が無視できる
ようになり、Ｓ／Ｎが改良されることになる。

実施例 以下、本発明の実施例の磁気記録媒体について、図面を
参照しながら説明する。

第１図は本発明の実施例の磁気記録媒体の断面図を示す
ものである。

第１図において、６は高分子基板、７は軟磁性層である
。８は微粒子塗布層で、微流子９と、この微粒子９を固
定する結合剤１０とから成っている。

１１は垂直磁化磁性層である。

勿論、両面フロッピーディスクでは高分子基板６の両面
に上述の構成のものを配する点、表面に保ａｍを配する
点などは、当業者が必要に応じてなし得るものであり、
ここでは詳細説明を省略する。

本発明に用いることの出来る高分子基板６は、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル類、ボリアＯピレ
ン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、
ニトロセルロース等のセルロース誘導体、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリイミド等が好適であり、またそ
の厚みは４μ−から１００μｍで、表面粗さは１０４か
ら３５ＯＡの範囲が好ましい。

本発明に用いることの出来る軟磁性１１７は、Ｎｉ　−
１”ｅ　、ＡＱ−Ｆｅ　、ＡＱ−８ｉ　−Ｆｅ　。

Ｍｏ　−Ｎｉ　−Ｆｅ　、　Ｎｉ　−Ｍｎ　−Ｎｂ　−
Ｆｅ　。

Ｎｉ　−Ｆｅ　−Ｎｂ　−Ｔａ　、Ｇｏ−ＡＱ−Ｂ−Ｆ
ｅ等の単独又は複合積層体からなり、スパッタリング法
、電子ビーム蒸着法等により形成されたもので、その厚
みは高々１μｍまで、好ましくは０．３μ■から０．５
μ−の範囲である。

本発明に用いることの出来る微粒子塗布１８は、市販の
塗布機又は適宜それを改造したものを用いて、前記軟磁
性層７上に、微粒子９の分散液に結合剤１０たるべき樹
脂を溶剤と共に混合分散させて、塗布、乾燥することに
より、得ることが出来る。

尚、微粒子９としては、無機微粒子、有機微粒子の単独
又は混合で、平均粒径５０Ａから５００＾のＣａ　ＣＯ
３、Ｃａ　Ｏ，Ｓ＋　０２　、Ｃ１ポリイミド球、ポリ
エステル球等を用いることができる。また結合剤１０た
る樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、ボリアリレ
ート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリ
ビニールクロライド、エポキシシリコーン等が適してい
る。

本発明に用いることの出来る垂直磁化磁性層１１として
は、Ｇｏ　−Ｏｒ　、Ｃｏ−Ｖ、Ｇｏ　−Ｗ。

Ｇｏ　−Ｍｏ　、Ｇｏ−０，Ｇｏ　−Ｎｉ−０，Ｇｏ　
−Ｎｉ　−Ｆｅ−０，Ｇｏ　−Ｒｕ−０，Ｇｏ　−Ｍｎ
　−Ｏ等の垂直方向に磁化容易軸を有する厚み０．０５
μｍから０．５μ−の簿膜が好適で、電子ビーム蒸着法
、スパッタリング法、化学気相蒸着法等で得ることがで
きる。

本発明の磁気記録媒体は、磁気ディスク、磁気テープの
いずれの形態によることもできるもので、使用される磁
気ヘッドについても、適宜選択して高密度記録再生を行
えるものである。

以下、第１図に示した構成の第１の実施例について、更
に詳しく説明する。

厚み３６μｍのポリエチレンテレフタレート製の高分子
基板６上に、この基板６をその温度が１２０℃になるよ
うに直径５０ｃ１１の円筒上キャンに沿わせて移動させ
ながら、軟磁性層７を直流マグネトロンスパッタ法によ
り、ターゲツト材質を変えて０．４μ−の厚さで形成し
た。

その上で、メタノール、酢酸エチル、酢酸セルソルブ、
トルエン、メチルエチルケトンなどの溶剤中に、ポリエ
ステル樹脂による結合剤１０と微粒子９を分散して、微
粒子塗布液を作り、リバースロールコータ−により塗布
乾燥して、微粒子塗布層８を形成した。

次にＧｏ　−Ｏｒ　　（Ｃｒ　：２１．３ｗｔ％）をタ
ーゲットとして、高周波マグネトロンスパッタ法により
、直径５０ＣＩＲの円筒状キャンの表面温度を９５℃に
保って、厚さ０．１６μ鞘の垂直磁化磁性層１１を形成
し、表面にステアリン酸亜鉛を均一厚み換算で３５Ａに
なる量を塗布して磁気テープを製造した。これを、ガラ
ス基板上にスパッタ法でＧｏ　−Ｚｒ−Ｎｂアモルファ
ス合金層を０．２μ−主磁極として形成した補助磁極励
磁型主磁極ヘッドで、くり返し録再を行い評価した。

比較のために、微粒子塗布層をもたない従来媒体を試作
し、同様に評価した。

媒体の条件と得られた結果を、従来媒体の初期のＳ／Ｎ
を基準（ＯｄＢ）として相対比較により次表に示した。

（以下余白） 両者を比較すると、本発明の磁気記録媒体は、初期のＳ
／Ｎでも良好であるし、従来品がくり返し使用でＳ／Ｎ
が主として雑音の増加から低下するのに比して、初期の
Ｓ／Ｎを保持できるものであることが理解される。

以上のように本実施例によれば、軟磁性層７と垂直磁化
磁性層１１の間に微粒子塗布層８を設けることにより、
磁気ヘッドと媒体が直接接触することで記録再生する１
μｍ以下の短波長記録でのＳ／Ｎを良好に維持できる。

尚、表に示した以外の前述した他の材料の組み合わせで
も、はぼ同様の効果を得ることができるし、浮上型ヘッ
ドを用いるディスクにおいても、コンタクトスタート、
ストップ時のヘッドクラッシュの問題がなくなるなど、
本発明によればその実用効果は大きい。

発明の効果 以上のように本発明によれば、高分子基板上に、軟磁性
層、微粒子塗布層、垂直磁化磁性層を順次積層すること
で、磁気テープ、磁気ディスクのいずれの形態でも、磁
気ヘッドが媒体に接触することで生じる軟磁性層の特性
変化を小さくし、安定に初期の良好なＳ／Ｎを保持でき
るものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大断面図、
第２図および第３図は従来の垂直磁気記録用の磁気記録
媒体の拡大断面図である。 ６・・・高分子基板、７・・・軟磁性層、８・・・微粒
子塗布層、９・・・微粒子、１１・・・垂直磁化磁性層
代理人　　　森　　本　　義　　弘 第１図 ／ｆ ｂ　＝−ＩＥ）〜幕板 ７−軌線注目 ）−−−４蚊肢ｌ涛層 デー嶽濁） ／ｌ　−−−−−ｔｋｚ協、死線を札畳第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、高分子基板上に軟磁性層を配し、該軟磁性層上に、
   微粒子塗布層を介して垂直磁化磁性層を配したことを特
   徴とする磁気記録媒体。