JPS61217445A - 基板反転装置 - Google Patents
基板反転装置Info
- Publication number
- JPS61217445A JPS61217445A JP60057125A JP5712585A JPS61217445A JP S61217445 A JPS61217445 A JP S61217445A JP 60057125 A JP60057125 A JP 60057125A JP 5712585 A JP5712585 A JP 5712585A JP S61217445 A JPS61217445 A JP S61217445A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rotor
- rotating body
- chuck
- chuck surface
- Prior art date
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- Pending
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- Attitude Control For Articles On Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は基板の自動給材に関し、特に基板を反転する反
転機構を備えた基板反転装置に関する。
転機構を備えた基板反転装置に関する。
(ロ)従来の技術
従来の基板反転装置は第4図に示す如く、基板α1)は
シェードαりによって送出し、送出された基板(11)
は反転機構を有する基板反転装置a〔により必要時に基
板α1)を反転させ、他のエアベアリング上に配置する
。
シェードαりによって送出し、送出された基板(11)
は反転機構を有する基板反転装置a〔により必要時に基
板α1)を反転させ、他のエアベアリング上に配置する
。
基板反転装置αQは基板allを吸着保持するバーキュ
ームチャック0を設けた反転アームIと、反転アーム(
141を駆動するモーターa5で構成される反転駆動系
と、基板(11)を位置決めビンαQにより所定位置に
固定するシリンダー系とで構成される。反転駆動系では
反転アームIの回転軸αηとモータ軸とを駆動ベル)(
18)で連結し、モータa51の回転により反転アーム
α滲を1800回転させる。一方シリンダー系では対を
なすシリンダー(19をシュートaりに直交する同一線
上に配置して反転時、同時に駆動させシリンダーアーム
をなす位置決めビン霞により基板αυを所定の位置に位
置決めする。この様に位置決めされた基板(II)は反
転アームIの先端に設けたバーキュームチャック(13
に保持され、反転アームα滲の反転によりシ、−トa’
a上に反転される。
ームチャック0を設けた反転アームIと、反転アーム(
141を駆動するモーターa5で構成される反転駆動系
と、基板(11)を位置決めビンαQにより所定位置に
固定するシリンダー系とで構成される。反転駆動系では
反転アームIの回転軸αηとモータ軸とを駆動ベル)(
18)で連結し、モータa51の回転により反転アーム
α滲を1800回転させる。一方シリンダー系では対を
なすシリンダー(19をシュートaりに直交する同一線
上に配置して反転時、同時に駆動させシリンダーアーム
をなす位置決めビン霞により基板αυを所定の位置に位
置決めする。この様に位置決めされた基板(II)は反
転アームIの先端に設けたバーキュームチャック(13
に保持され、反転アームα滲の反転によりシ、−トa’
a上に反転される。
バーキエームチャック(1312反転アームα4に設け
た真空供給路−により保持又は解放する。
た真空供給路−により保持又は解放する。
上述した同様の技術が特公昭59−52845号公報に
記載され【いる。
記載され【いる。
(ハ)発明が解決しようとする問題点
上述した従来の基板反転装置では、反転アームが基板を
吸着し、反転を行なりて解放する為、アームの動きとし
てアームかもとの位置に戻ってから次の基板を供給する
つまりエスケープ時間が必要な為に高速化に限界が有る
。又吸着しアームで反転させる為、故障が起こりやすく
なる。更にいくつかの機構の組合せが必要になり、機構
が複雑になる欠点があった。
吸着し、反転を行なりて解放する為、アームの動きとし
てアームかもとの位置に戻ってから次の基板を供給する
つまりエスケープ時間が必要な為に高速化に限界が有る
。又吸着しアームで反転させる為、故障が起こりやすく
なる。更にいくつかの機構の組合せが必要になり、機構
が複雑になる欠点があった。
特に基板の下面にも部品が固着される両面基板の取扱い
方法が難しかった。
方法が難しかった。
に)問題点を解決するための手段
本発明は上述した点に鑑みてなされたもので有り、第1
図に示す如く、シェード(21面上の基板(3)を吸着
機構を具備した回転体、本実施例では正六面体のチャッ
ク面(21A点に、前記基板(3)を送出し、吸着機構
により前記基板(3)を吸着し、離脱位置B点まで回転
体(1)を回転させ、吸着機構を解放し【基板(3)を
離脱させ、前記基板(3)を反転させて次の工程へ送る
ものである。
図に示す如く、シェード(21面上の基板(3)を吸着
機構を具備した回転体、本実施例では正六面体のチャッ
ク面(21A点に、前記基板(3)を送出し、吸着機構
により前記基板(3)を吸着し、離脱位置B点まで回転
体(1)を回転させ、吸着機構を解放し【基板(3)を
離脱させ、前記基板(3)を反転させて次の工程へ送る
ものである。
(ホ)作用
回転体自身が基板を吸着し、一方向に回転する為、基板
の反転が連続的に行なえるので、反転動作の高速化が図
れる。
の反転が連続的に行なえるので、反転動作の高速化が図
れる。
(へ)実施例
本発明に依る基板反転装置は、第1図、第2図に示す如
く、シュート(4)面上の基板(3)は吸着機構を有す
る回転体(1)のチャック面(2)に基板(3)を送出
し、基板(3)を吸着、回転体(1)を回転させ、吸着
な ゛解放し基板(3)を反転させる。
く、シュート(4)面上の基板(3)は吸着機構を有す
る回転体(1)のチャック面(2)に基板(3)を送出
し、基板(3)を吸着、回転体(1)を回転させ、吸着
な ゛解放し基板(3)を反転させる。
吸着機構としては真空チャック方式、スプリング等によ
る強制チャック方式及びシリンダー等を使用した別個定
チャック方式等が有り、本実施例では真空チャック方式
を用いる。
る強制チャック方式及びシリンダー等を使用した別個定
チャック方式等が有り、本実施例では真空チャック方式
を用いる。
回転体(1)は多面体で有り、本実施例では正六面体で
ある。回転体(1)は基板(3)を吸着保持する吸着機
構を設けたチャック面(2)を具備し、回転体[1)を
回転させる方法としてはモータ又はインディクス等で行
なう。
ある。回転体(1)は基板(3)を吸着保持する吸着機
構を設けたチャック面(2)を具備し、回転体[1)を
回転させる方法としてはモータ又はインディクス等で行
なう。
チャック面(2)は回転体[1)の全【面に形成され、
基板(3)がチャック面(2)に送出される際、基板(
3)の位置決めを行なう為、全てのチャック面(21は
凹部の底面で有り、その凹部の底面に基板(3)が送出
され、且つ凹部の底面には基板(3)を吸着する為に少
なくとも2カ所の真空供給穴(5)が設けられる。
基板(3)がチャック面(2)に送出される際、基板(
3)の位置決めを行なう為、全てのチャック面(21は
凹部の底面で有り、その凹部の底面に基板(3)が送出
され、且つ凹部の底面には基板(3)を吸着する為に少
なくとも2カ所の真空供給穴(5)が設けられる。
第1図に依ればシェード(4)面上の基板(3)を送り
竿等で回転体(1)のチャック面(21A点に送出する
。
竿等で回転体(1)のチャック面(21A点に送出する
。
回転体(1)は60°の回転を1ピツチとして、回転体
(1)が1ピツチ回転すると同時にシュート(4)面上
の基板(3)が送り竿でチャック面(2)に送出される
。
(1)が1ピツチ回転すると同時にシュート(4)面上
の基板(3)が送り竿でチャック面(2)に送出される
。
チャック面(2)A点に送出された基板(3)は真空ポ
ンプ(6)から真空供給路(7)を介して基板(3)を
吸着し、吸着しながら回転体(1)を回転させ、B点で
吸着を解放し、基板(3)を離脱することによりて反転
させ、次の工程へと送る。
ンプ(6)から真空供給路(7)を介して基板(3)を
吸着し、吸着しながら回転体(1)を回転させ、B点で
吸着を解放し、基板(3)を離脱することによりて反転
させ、次の工程へと送る。
この様に回転体(1)自身が基板(3)を吸着し回転す
る為、基板(3)の流れを止めることなく連続的に、且
つタイミング待ちと言う動作が省ける。
る為、基板(3)の流れを止めることなく連続的に、且
つタイミング待ちと言う動作が省ける。
本発明の他の実施例として、両面基板(3)の対応とし
ては、第3図に示す如く、チャック面(2)からさらに
凹部を設けることにより下面の部品を保護するので両面
基板(3)にも適応することができる。
ては、第3図に示す如く、チャック面(2)からさらに
凹部を設けることにより下面の部品を保護するので両面
基板(3)にも適応することができる。
更に他の実施例として、回転体(1)のチャック面(2
)をフラット面としても位置合わせな必要としない片面
基板には適用可能である。
)をフラット面としても位置合わせな必要としない片面
基板には適用可能である。
(ト) 発明の効果
以上に詳述した如く本発明に依れば、回転体のチャック
面に基板を吸着させ、離脱位置で離脱することにより、
基板の流れを止めず、回転体自身が基板を吸着姿勢変換
を行なう為、タイミング待ちというエスケープ動作が無
くなった。又高速回転でも安定した基板の反転が高精度
で行なえ、且つ基板を離脱反転した後の出口方向が任意
に選択できる。更に基板両面に部品を実装した基板の反
転も容易に行なえる。
面に基板を吸着させ、離脱位置で離脱することにより、
基板の流れを止めず、回転体自身が基板を吸着姿勢変換
を行なう為、タイミング待ちというエスケープ動作が無
くなった。又高速回転でも安定した基板の反転が高精度
で行なえ、且つ基板を離脱反転した後の出口方向が任意
に選択できる。更に基板両面に部品を実装した基板の反
転も容易に行なえる。
第1図は本発明の実施例を示す構成図、第2図は本実施
例の吸着機構を示す部分断面図、第3図は他の実施例の
吸着機構を示す部分断面図、第4図は従来例を示す構成
図である。 (1)・・・回転体、 (2)・・・チャック面、 (
訃・・基板、(4)・・・シュート、 (5)・・・真
空供給穴、 (6)・・・真空ポンプ、 (7)・・・
真空供給路。 出願人 三洋電機株式会社 外1名 代理人 弁理士 佐 野 靜 夫 第1図 第2図
例の吸着機構を示す部分断面図、第3図は他の実施例の
吸着機構を示す部分断面図、第4図は従来例を示す構成
図である。 (1)・・・回転体、 (2)・・・チャック面、 (
訃・・基板、(4)・・・シュート、 (5)・・・真
空供給穴、 (6)・・・真空ポンプ、 (7)・・・
真空供給路。 出願人 三洋電機株式会社 外1名 代理人 弁理士 佐 野 靜 夫 第1図 第2図
Claims (2)
- (1)吸着機構を持つ少なくとも1つの吸着面を有する
回転体により、該回転体の吸着位置で前記吸着面に基板
を吸着させ、前記回転体を離脱位置まで回転させて、前
記吸着機構を解除して基板を回転体から離脱させ、前記
基板を反転させることを特徴とする基板反転装置。 - (2)特許請求の範囲第1項に於いて、前記吸着面を回
転体の全周に渡り多数個配置した正多面体構造とするこ
とを特徴とした基板反転装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60057125A JPS61217445A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 基板反転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60057125A JPS61217445A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 基板反転装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61217445A true JPS61217445A (ja) | 1986-09-27 |
Family
ID=13046838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60057125A Pending JPS61217445A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 基板反転装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61217445A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006264837A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Sanee Giken Kk | 基板反転装置 |
KR100685455B1 (ko) | 2005-05-20 | 2007-02-26 | 한미반도체 주식회사 | 반도체 제조공정용 플립퍼링장치 |
US7543621B2 (en) * | 2002-06-28 | 2009-06-09 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for bonding polarizing plate |
JP2012006723A (ja) * | 2010-06-25 | 2012-01-12 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス板姿勢変換装置及びガラス板姿勢変換方法 |
CN102887354A (zh) * | 2012-05-04 | 2013-01-23 | 佛山市蓝箭电子股份有限公司 | 电子元器件换向装置 |
-
1985
- 1985-03-20 JP JP60057125A patent/JPS61217445A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7543621B2 (en) * | 2002-06-28 | 2009-06-09 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for bonding polarizing plate |
JP2006264837A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Sanee Giken Kk | 基板反転装置 |
KR100685455B1 (ko) | 2005-05-20 | 2007-02-26 | 한미반도체 주식회사 | 반도체 제조공정용 플립퍼링장치 |
JP2012006723A (ja) * | 2010-06-25 | 2012-01-12 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス板姿勢変換装置及びガラス板姿勢変換方法 |
CN102887354A (zh) * | 2012-05-04 | 2013-01-23 | 佛山市蓝箭电子股份有限公司 | 电子元器件换向装置 |
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