JPS61217036A - 水溶性感光性組成物 - Google Patents

水溶性感光性組成物

Info

Publication number
JPS61217036A
JPS61217036A JP60059141A JP5914185A JPS61217036A JP S61217036 A JPS61217036 A JP S61217036A JP 60059141 A JP60059141 A JP 60059141A JP 5914185 A JP5914185 A JP 5914185A JP S61217036 A JPS61217036 A JP S61217036A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
polyvinyl alcohol
groups
molecule
pva
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60059141A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0523428B2 (ja
Inventor
Toshiaki Sato
寿昭 佐藤
Junnosuke Yamauchi
山内 淳之介
Takuji Okaya
岡谷 卓司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP60059141A priority Critical patent/JPS61217036A/ja
Priority to US06/840,771 priority patent/US4654294A/en
Priority to DE8686103864T priority patent/DE3661391D1/de
Priority to EP86103864A priority patent/EP0196571B1/en
Publication of JPS61217036A publication Critical patent/JPS61217036A/ja
Publication of JPH0523428B2 publication Critical patent/JPH0523428B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F261/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of oxygen-containing monomers as defined in group C08F16/00
    • C08F261/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of oxygen-containing monomers as defined in group C08F16/00 on to polymers of unsaturated alcohols
    • C08F261/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of oxygen-containing monomers as defined in group C08F16/00 on to polymers of unsaturated alcohols on to polymers of vinyl alcohol
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/11Vinyl alcohol polymer or derivative

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A、  楽土の利用分野 本発明は水溶性感光性組成物に関する。
ポリビニルアルコール系重合体、ラジカル重合可能なエ
チレン性二重結合を有する不飽和化合物(以下重合性モ
ノマーという)および光重合開始剤を含有する組成物は
感光性組成物とよばれ、たとえば印刷用凸版材料として
広く利用されている。
上記感光性組成物は金属板やフィルム板の如き支持体上
にシート状(感光性樹脂板という)に調整されたのち、
露光、現像を経て樹脂凸版となるが、ポリビニルアルコ
ール系重合体を使用した感光性組成物は露光後に未硬化
部分を水で簡単に溶出でき製版作業が容易なことから印
刷分野において賞月されている。
B、従来の技術 しかし従来のポリビニルアルコール系重合体を使用した
感光性組成物は露光後に未硬化部を水洗によシ除去する
際、すなわち現像時に硬化部分のポリビニルアルコール
系重合体までも除去されるという重大な欠点を有してお
り、このために出来上った樹脂凸版の性質を著しく損ね
ているのが現状である。
C1明が解決しようとする問題点 本発明は上記した如き従来のポリビニルアルコ−ル系重
合体を使用した感光性組成物の有する欠点、すなわち水
現像時の硬化部分のポリビニルアルコール系重合体の脱
落のない水溶性感光性組成物を与えるものである。
D0問題を解決するだめの手段 本発明者らはポリビニルアルコール系感光性組成物が木
来有するすぐれた性質を保持しつつ、水現像時に硬化部
分のポリビニルアルコールi[一体の脱落のない水溶性
感光性組成物について鋭意検討した結果、ポリビニルア
ルコール系重合体として、分子内、特に末端にチオール
基を有するポリビニルアルコール系重合体を、使用する
ことにより上記目的が達成されることを見出し本発明を
完成させたものである。
すなわち本発明は、fa)分子内にチオール基を有する
ポリビニルアルコール系重合体、(blラジカル重合可
能なエチレン性二重結合を有する不飽和化合物および(
c1光重合開始剤を感光性成分として含有することを特
徴とする水溶性感光性組成物に関するものである。
本発明に使用される分子内にチオール基を有すルホリヒ
ニルアルコール系重合体は、分子内にチオール基を有す
るものであればどのようなものでも使用可能であるが、
チオール基は極めて酸化されやすいためポリビニルアル
コール系重合体中に0.01モル%以上5モル%以下好
ましくは2モル%以下更に好ましくは1モル%以下含有
するものが好ましい。さらに同じ理由でチオール基を分
子末端にのみ有するポリビニルアルコール系重合体が本
発明の目的を達成するためにとシわけ好んで用いられる
重合度は20以上5000以下、好ましくは50以上2
000以下、更に好ましくは100以上2000以下の
ものが、けん化度は水溶性もしくは水分散性であれば特
に制限はないが、好ましくは65モル%以上である。
また該ポリビニルアルコール系重合体は本発明の効果を
損なわない範囲内で種々の単量体単位を含有することは
何らさしつがえない。これらの単量体単位としてはたと
えばエチレン、プロピレン、]−グブテンイソブチレン
、ギ酸ビニル、プロピオン酸ビニル、パーサティック酸
ビニル、(メタ)アクリル酸およびその塩、イタコン酸
、マレイン酸、フマル酸およびそれらの塩、(メタ)ア
クリルアミド、N、N−ジメチルアクリルアミド、2−
アクリルアミドプロパンスルホン酸およびその塩、(メ
タ)アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムク
ロリド、N−ビニルピロリドン、アリルアルコール、酢
酸アリル等があげられる。なおこれらの単量体単位を含
有する場合にもけん化度には特に制限はなく、重合体が
水分散性又は水溶性であればよい。
本発明に使用される重合性上ツマ−は光開始剤によるラ
ジカル重合が可能なものはいずれも使用可能であるが、
ポリビニルアルコール系重合体や光重合開始剤と相溶性
のよいものが好んで用いられ、そのような例としてはた
とえば以下のものが挙げられる。エチレングリコールア
クリレート、エチレングリコールメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールメタクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、β−オキシプ
ロピルメタクリレート、β−オキシエチルメタクリレー
ト、およびN−β−オキシエチルアクリルアミド、N−
オキシメチルアクリルアミド、N、N’−ビス(β−オ
キシエチル)アクリルアミド、N−r−オキシプロピル
アクリルアミド、N−p−オキシフェニルアクリルアミ
ド、N−β−オキシエチルN′−メチルアクリルアミド
、およびこれらに対応するメタクリルアミド誘導体等で
あシ、さらにアクリルアミド、メタクリルアミド、m−
キシリレンビスアクリルアミド、P−キシリレンビスメ
タクリルアミド、m−フ二二しンピスアクリルアミド、
エチレンジアミンビスアクリルアミド、ヘキサメチレン
ジアミンビスメタクリルアミド等である。これらの単量
体は単一もしくは混合して使用される。
本発明に使用される光重合開始剤としては例えばベンゾ
フェノン、ベンゾイン、T’IP’−ジメチルベンゾイ
ン、ベンゾイルメチ化エーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、アシロインt タハa置換芳香族アシロイ
ンあるいはアシロインアルキルエーテル、ジアセチル、
ベンジル、ケトアルドニル化合物、] + 1’−7ゾ
シクロヘキサンカルポニトリル、アゾニトリ/k、9.
10−アントラキノン、クロルアントラキノン、1,4
−ナフトキノン、9.10−フエナントレキノン等があ
げられる。
本発明の(a1分子内にチオール基を有するポリビニル
アルコール系重合体、(b)ラジカル重合可能なエチレ
ン性二重結合を有する不飽和化合物および(c1光重合
開始剤を感光性成分として含有する水溶性感光性組成物
は(a110o110Cたシ(bl 30〜250重量
部、(c)0.01〜15重蔗部の範囲で使用されるの
が好ましいが、(al、Tbl、(c1以外の成分たと
えば通常のポリビニルアルコール系重合体やポリアミド
系重合体等を本発明の主旨を損なわない範囲内で使用す
るのは何らさしつかえない。
仇 本発明の水溶性感光性組成物は、貯蔵安定帯を向上させ
る目的で公知の熱重合防止剤あるいは貯蔵安定剤を含有
してもよく、必要に応じて着色剤、顔料、可塑剤等の他
の添加物を含有してもよい。
E、  用および発明の効果 本発明の分子内にチオール基を有するポリビニルアルコ
ール系重合体を使用した水溶性感光性組成物はこれまで
用いられているポリビニルアルコール重合体を使用した
ものにくらべて、水洗現像時の硬化部分のポリビニルア
ルコール系重合体の脱落が少なく極めてすぐれたもので
ある。
ポリビニルアルコール系重合体、重合性モノマーおよび
光重合開始剤からなる感光材は、光照射によ)モノマー
が重合し水に不溶化するわけであるが、従来のポリビニ
ルアルコール系重合体の場合にはモノマーの重合時にポ
リビニルアルコール系重合体へのグラフト反応がほとん
どおきないために、硬化後も水洗によシ比較的容易にポ
リビニルアルコール系重合体が抽出されるものと考えら
れる。
これに対して本発明ではポリビニルアルコール系重合体
にラジカル活性の極めて大きいチオール基を導入せしめ
ることによって光重合時にグラフト物やブロック物を生
成させポリビニルアルコール系重合体の水溶性を低下せ
しめること、およびグラフト物やブロック物の生成によ
シモノマーの重合にともなう相分離がおさえられたこと
によシ上記の如き効果が得られたものと推察される。
以下本発明の水溶性感光性組成物について実施例をあげ
て説明するが、本発明はなんらこれに限定されるもので
はない。なお「部」および「%」は特に指定しないかぎ
シ「重量部」 「重量%」を意味する。
酢酸ビニル(以下vAaと略記) 2400部、メタノ
−/I/ 560部およびチオール酢酸0.45部を反
応容器にとシ内部を充分に窒素置換した後、反応温度を
65℃にあげ内温が606Cに達したところで2.2′
−7ゾビスイソプチロニトリル1.74部を含むメタノ
−71740部を加えた。直ちにチオール酢酸8.53
部を含むメタノール溶液60部を4時間にわたって均一
に加えた。4時間後の重合率は73.1%であった。4
時間後に容器を冷却し減圧下に残留するVAcをメタノ
ールとともに系外へ追出す操作をメタノールを追加しな
がら行ない、P VA cのメタノール溶液を得た。P
VAc濃度50%、[NaOH]/ CVA(l ] 
= 0.01’0.40°Cでけん化を行ない、重合度
310、けん化度88モル%、チオール基0.25モル
%の末端にチオール基を有するポリビニルアルコール系
重合体を得た。なおチオール基含量はヨウ素滴定によシ
求めた値である。
酢酸ビニル(以下VAcと略記) 2368部、メタノ
ール560部およびチオール酢酸アリル32部を反応容
器にとり内部を充分に窒素置換した後反応温度を65℃
にあげ内温か60℃に達したところで 42 、2’−アゾビスイソブチロニトリル3.5 部
を含むメタノール40部を加えた。7時間重合し重合率
は67.2%であった。7時間後に容器を冷却し減圧下
に残留するVAe fメタノールとともに系外へ追出す
操作をメタノールを追加しながら行ない、PVAcのメ
タノール溶液を得た。P VA c濃度50%、CNa
OH] / CVAc ] = 0.012.40℃で
けん化を行ない重合度290、けん化度88モル%、チ
オ−ルミ0.80モル%の側鎖にアリルチオール基を有
するポリビニルアルコール系重合体を得た。なおチオー
ル基含量はヨウ素滴定によシ求めた値である。
実施例】 末端にチオール基を有するポリビニルアルコール系重合
体(重合度310、けん化度88モ〃%、チオール基0
.25モル%)100部β−オキシエチルメタクリレー
ト        90部エチレングリコールジメタク
リレート      10部メチルヒドロキノン   
           α05部ベンゾインイソ10ピ
ル工−テ/I/3部水 (pH= 3.0 )    
        200部上記の各成分をフラスコ中で
90℃の加熱下にかきまぜながら均一に溶解させた溶液
を脱泡後、アルミ板上に塗布し80℃で30分間乾燥し
0.5鵡厚の膜を得た。つづいて高圧水銀灯を751の
距離から10分間照射し硬化膜とした。
実施例2 ポリビニルアルコール系重合体として末端にチオール基
を有するポリビニルアルコール系重合体(重合度550
、けん化度80モル%、チオール基0.15モル%)を
用いた以外は実施例1と同様にして硬化膜を得た。
実施例3 ポリビニルアルコール系重合体として、側鎖にアリルチ
オール基を有するポリビニルアル5−ル糸重合体(重合
度290、けん化度88モル%、チオール基0.80モ
ル%)を用いた以外は実施例1と同様にして硬化膜を得
た。
比較例1 ポリビニルアルコール系重合体としてPVA −205
(重合度550、けん化度88モル%)を用いた以外は
実施例1と同様にして硬化膜を得た。
比較例2 ポリビニルアルコール系重合体としてPVA −405
(重合度550、けん化度80モル%)を用いた以外は
実施例1と同様にして硬化膜を得た。
実施例1〜3、比較例1〜2で得た硬化膜を906C熱
水中に2時間浸漬し、熱水中に抽出されるポリビニルア
ルコール系重合体の重量を調べた。
結果を第1表にまとめて示す。
(ロ)硬化膜の重量減少をポリビニルアルコール系重合
体の重量減少とし抽出率を計算した。
第1表から明らかなように分子内にチオール基を有する
ポリビニルアルコール系重合体を用いたものは硬化膜か
らのポリビニルアルコール系重合体の脱落がおきにくい

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)分子内にチオール基を有するポリビニルア
    ルコール系重合体、 (b)ラジカル重合可能なエチレン性二重結合を有する
    不飽和化合物および (c)光重合開始剤を含有することを特徴とする水溶性
    感光性組成物。
  2. (2)分子内にチオール基を有するポリビニルアルコー
    ル系重合体が、分子末端にのみチオール基を有するポリ
    ビニルアルコール系重合体である特許請求の範囲第1項
    記載の水溶性感光性組成物。
JP60059141A 1985-03-22 1985-03-22 水溶性感光性組成物 Granted JPS61217036A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60059141A JPS61217036A (ja) 1985-03-22 1985-03-22 水溶性感光性組成物
US06/840,771 US4654294A (en) 1985-03-22 1986-03-18 Photosensitive ethylenically unsaturated composition containing a vinyl alcohol polymer having a thiol group
DE8686103864T DE3661391D1 (en) 1985-03-22 1986-03-21 Photosensitive composition
EP86103864A EP0196571B1 (en) 1985-03-22 1986-03-21 Photosensitive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60059141A JPS61217036A (ja) 1985-03-22 1985-03-22 水溶性感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61217036A true JPS61217036A (ja) 1986-09-26
JPH0523428B2 JPH0523428B2 (ja) 1993-04-02

Family

ID=13104743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60059141A Granted JPS61217036A (ja) 1985-03-22 1985-03-22 水溶性感光性組成物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4654294A (ja)
EP (1) EP0196571B1 (ja)
JP (1) JPS61217036A (ja)
DE (1) DE3661391D1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6426844A (en) * 1987-01-17 1989-01-30 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive resin composition
JPH01233446A (ja) * 1988-03-14 1989-09-19 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1208494B (it) * 1985-01-28 1989-07-10 Lamberti Flli Spa Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di
NZ223177A (en) * 1987-01-17 1990-01-29 Nippon Paint Co Ltd Water-developable photosensitive resin composition capable of hot melt molding and printing plate therefrom
NZ223178A (en) * 1987-01-17 1990-01-29 Nippon Paint Co Ltd Water-developable photosensitive resin composition capable of being hot melt molded, printing plates therefrom and methods of preparation
US5128235A (en) * 1989-04-21 1992-07-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method of forming a three-dimensional object comprising additives imparting reduction of shrinkage to photohardenable compositions
US6346570B1 (en) * 1999-08-30 2002-02-12 Kuraray Co., Ltd. Water resistant composition, coating agent, and recording material
US20080233297A1 (en) * 2007-03-23 2008-09-25 Xerox Corporation Methods of forming a photoreceptor device having a self-assembled patterned binder layer
US7794905B2 (en) * 2007-03-23 2010-09-14 Xerox Corporation Photoreceptor device having a self-assembled patterned binder layer
US7732118B2 (en) * 2007-05-10 2010-06-08 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3801327A (en) * 1970-07-02 1974-04-02 Ibm O-dithialane-photosensitive compositions
DE2053363C3 (de) * 1970-10-30 1980-09-18 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US3936530A (en) * 1972-05-05 1976-02-03 W. R. Grace & Co. Method for preparing coatings using curable solid styrene-allyl alcohol copolymer based polyene and polythiol compositions
DE2448850C2 (de) * 1974-10-14 1986-03-13 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zum Übertragen einer trockenen thermoplastischen photopolymerisierbaren Schicht und Schichtübertragungsmaterial
DE2846647A1 (de) * 1978-10-26 1980-05-08 Basf Ag Photopolymerisierbare mischung fuer die herstellung von druck- und reliefformen
US4565854A (en) * 1983-04-07 1986-01-21 Kuraray Co., Ltd. Polymer having thiol end group

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6426844A (en) * 1987-01-17 1989-01-30 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive resin composition
JPH01233446A (ja) * 1988-03-14 1989-09-19 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US4654294A (en) 1987-03-31
EP0196571A1 (en) 1986-10-08
JPH0523428B2 (ja) 1993-04-02
DE3661391D1 (en) 1989-01-12
EP0196571B1 (en) 1988-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1314751C (en) Photosensitive recording materials containing elastomeric graft copolymer binders, and relief plates obtained from these
US3887450A (en) Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents
JPS61217036A (ja) 水溶性感光性組成物
JPS6057057B2 (ja) 印刷版及びレリ−フ版を製造するための光重合可能な混合物
JPH0128366B2 (ja)
JP7076443B2 (ja) イソプロパノールおよび水中での溶液重合
JP2002023349A (ja) 感光性樹脂凸版材
JP3730284B2 (ja) 感光性組成物
JPH04303842A (ja) 感光性組成物
JPS6134539A (ja) 感光性組成物
JP2900075B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2540577B2 (ja) 感光性樹脂板の製法
JPH0934111A (ja) 感光性組成物
JPH0687171B2 (ja) 感光性組成物
JPH0466947A (ja) 感光性組成物
JP2710841B2 (ja) 樹脂組成物および接着剤組成物
JPS62121445A (ja) 感光性組成物
JP2021155681A (ja) 含水ゲル
JPH103167A (ja) 水溶性感光性組成物
JP3268829B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPS63303341A (ja) 感光性組成物
JP2709710B2 (ja) ラジカル硬化性水溶性重合体
JPS614039A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH036565A (ja) スクリーン製版用感光性樹脂組成物
JPH04298506A (ja) ポリビニルアルコール、ポリビニルエステルおよび感光性組成物