JPS61213149A - 二軸延伸されたポリオレフインフイルム及びその製法 - Google Patents

二軸延伸されたポリオレフインフイルム及びその製法

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JPS61213149A
JPS61213149A JP61055179A JP5517986A JPS61213149A JP S61213149 A JPS61213149 A JP S61213149A JP 61055179 A JP61055179 A JP 61055179A JP 5517986 A JP5517986 A JP 5517986A JP S61213149 A JPS61213149 A JP S61213149A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明に、両面がシールされていてよくかつ6ノ曽より
鵬る二剖延1甲されたポリオレフィンフィルムに関し、
そのフィルムのベースノ曽に主にプロピレンポリマーよ
り崩りかっ2つのシール層は主にシール性オレフィンポ
リマーよす底り、このフィルムrxI!6m包装愼への
一般的な用途によりきわ立っておりかつ容易に印s o
J餌でもある。l九、本発明はこのフィルムの製法及び
その便用に関する。
従来の孜南 ヨーロッパ狩許出顔公開第0008904号男−簀には
、両面がシールさIしていてよくかっベースノ曽がプロ
ピレンポリマーよりsxgnかつ2つのシール層(外膚
又に上層)かシール性オレフィンポリマーより形成され
ている二@娼1ψさrLyt6ノーのポリオレフィンフ
ィルムが開示さnている。このポリオレフィンフィルム
は艮灯なヒートセット性を有するが、床に酊引燻性が低
くて印刷することがでさす、ま7’C尚之包装嶺に関連
する透間性及びスリップ物性の点で不十分でもある。
四ドイツ国%針公開第6247998号明細督にrxs
ノーより戟9、透明で、林に容易にシー/l/ =x 
耗である二@痣伸さn几ポリオレフィンフィルムが開示
さnている。そのベース層は主にプロピレンポリマーよ
り戚りかつ2つのシール層は、付JxJ物としてオレフ
ィンポリマーと相容性の低分子街廁5〜15皿量チ、プ
ロピレンホモポリマー5〜15厘、1it−及びポリジ
オルガノシロキサンU、3〜1.5厘it%を言Mする
適当なオレフィンポリマーより病る(それぞれの車重S
はシール層に対するものである)。このボリオレフィン
多ノ曽フィルムに、包装用フィルムにとってJL責であ
る性貢、即ち広範なシール性、低いシール一度、l16
T、式、X好な慮明性、比収的尚い耐引憬性、世い岸托
、従って檎々の型の尚速包装慎での艮好な走行性をゼす
る。しかしこれはム*な性賞である艮好な印刷性が不十
分である。
米I!Il奇、fl−第4419411号明細膏にも、
内向でシールされていてよくかつ6盾を有する二軸鴫1
中され几ポリオレフィンフィルムが開示さn℃いる。こ
のフィルムの動電にも両方のシール層中に付加的な組付
わせ吻が晶相されている。
そnぞれシールJ−は[J−の皿型に対してボリシロギ
サン0.15〜[J、4m菫饅及び二版化珪素0.05
〜0.5JCjlチを含有する。ベースノーはポリゾロ
ピレン(主成分として)より成りかつ少量のモノカルボ
キサミドを含有する。このアミド分かベース層から2つ
のシールノー中にかつその表面(外面)に移行lするの
でポリシロキサン、二敗北油木及びモノカルボキサミド
は各シールl鎖中に混沌さn、7t、、tpで仔在し、
かつモノカルボキサミドに2つのシール層の外面にも存
在する。この紀躯され九ポリオレフィン多ノ曽フィルム
は休に低いJ#燦係畝を有すると記蛎さnてφる。しか
しこのフィルム%lた休に印刷司総で1ないという欠点
を有している。
発明がN4火しようとする間粗点 そrL改、杢晃四μ内向がシールさnていてよくかつ6
膚よ!J成り、−1記のム貴な軸性を有し、丈に′#易
に印刷用dとでもある二軸―埋され九ポリオレアインフ
ィルムt′開示するとい5・、 d j[ilt t−
ベースとしている。休に、fr現なこのポリオレフィン
多着フィルムは、両面で容易にシール性であり、かつ^
い耐引慎性、凌れ九走何性及び艮好な印刷性を令すべき
である。
゛ベース層が主にプロピレンポリマーよりIJx、りか
つ2つのシール層が主にシール性オレフィンポリマーよ
す病る木兄−による6)曽ポリオレフィンフィルムにお
いて、1つのシールノ曽に混沌さn*ポリジアルキルシ
ロキサンtそのNj皿童に心して0.5〜3J[重−1
休に0.8〜2嵐輩饅含令し曵いて、このシールmr;
cコロナ処理にも7′C&;1さjL″Cspらず、か
つ惚万のシール層はコロf処理にもたらされていて、混
沌されていないかそのシール層の外面上に仔伍するポリ
ジアルキルシロキサンを有し、このポリジアルキルシロ
キサンは2つのシールJ−の闇の憎醜により移行しfc
%のであり、かつコロナ鋤埋された外面のポリジアルキ
ルシロキサン相対占有比HgsCA分元分4′r法(g
8cAxglect、ran 8pectroacup
yfur Cnemical AnaLyaia :化
字分灯用電子分光分析法)によV測定して15を上虐ら
ず、殊に2〜10である。
この膚總ポリオレフィンフィルムは多くの発明的思想及
び操作tベースとしている。2つのシール、層の一方に
混和されていないで、その外曲上の迩朕として存在する
ポリジアルキルシロキサン及びポリジアルキルシロキサ
ンでコーチングする前にコロナ処理を行なったこのシー
ル層の作用籾米に、本491によるフィルムがこの増土
で印1klilj I”j n@でありかつそrLと同
時に繭重の他の皇安な丁ぺてのcg性tMするというこ
とである。このような本発明により、1つのシールノ曽
に2けるコロナ処理とポリジアルキルシロキサンの仔伍
との凪當ぜ及びその鰺に轡亘の籾米(Jt好な印刷性、
良好な・スリップ性及び艮好なシール性)t−、他の1
責な軸性に対する不利な作用を欠けることなく一緒に連
凧することが、簡半な方法で、り1クボリゾアルキルシ
ロキサンt−混和した1つのシールJ−と他方のシール
ノ曽の外園とを融層することに′より9叱である手職が
侍られる。
シール層の外面に移行し友ポリジアルキルシロキサンの
輩は、他方のシールノー中に混沌されたポリジアルキル
シロキサンのうちの比較的少い分霊に相当する。そXr
L故、シールノーのオレフィンポリマーに曜加さ′!′
したポリジアルキルシロキサンの量0.5〜6厘t%、
妹に0.8〜2崖量%(この嵐鼠%は層の全嵐菫に対し
てである)にrWJtEの移行によって夷貴的には減少
しない。
gljcA分元分灯法により副芝した外mlの相対占有
比か15に上畑る硼合に、ポリジアルキルシロキサンか
多重に存在し【いて、フィルムt″便用する際に加゛工
孜術の問題か起り得る。他方、丼富に低い数1T&でa
フィルムのスリップ特性が償なわれることかある。それ
改、ポリジアルキルシロキチン相対占有比に有利には2
〜10である。
ポリジアルキルシロキサンによるmFi&は2つのシー
ルJ冑の闇の侭触により行なり詐る。シール層の間の依
雁に、例えば生成し几俊でフィルムを一般的な温度(一
般的にほぼ嵐温)で巻取る際に行なわれる。それという
のもこの工程で2つのシール7mは一方が他力9上に相
互に緊蜜に恢触して配置されるからである。更に、所鳥
の移行は、2つのシール層が巻取りにより生じる圧力で
gc眉するという拳によっても促進される。ポリジアル
キルシロキサンの移行はgji時間のff1j!R仮に
行なわれかつ必安な造膜が存在することが認められた。
休に、2つのシール層の一方VC混相されたポリジアル
キルシロキサンにアルキル話中に炭素原子1〜4個を囃
しかつ25℃で粘度少なくとも10 Ll mm’/s
 、gに1000〜11J O[J OOmm”/s 
、 時に50ULl 〜!b 0000mm″/a2イ
する(丙えば25′Cで1000〜IC1(JOOOm
m″/Sの粘度軛−に平均分子賞約2!1)LIOL1
〜103000に相当する)。休にポリジメチルシロキ
サンが浚れている。
不発131311′cよる多ノーフィルムのベースl−
は、主にプロピレンより凧るプロピレンポリマーから八
りかつ一点140’O又はそれ以上、休に150〜i7
o”cf:有する。n−へブタンcIT浴性分15][
JL%又にそれ以下を有するアイソタクチックポリゾロ
ピレン、エチレン含有率10貞鴛チ又はそn以下のエチ
レンとプロピレンとのコポリマー、α−オレフィン含有
単10ム重慢又は七n以下のプロピレンとC4〜C8−
α−オレフィンとのコポリマーにベース層の友れたプロ
ピレンポリマーを襦取し、林にアイソタクチックポリプ
ロピレンが浚れている。一般に、ベース層のプロピレン
ポリマーは230’C及び負荷2.16増でメルトフロ
ーインデックス0.5〜10:j710分間、妹に1.
5〜49710分間金有する( DIN b 3735
 )。
本発明による多着フィルムのシールI−はシール性オレ
フィンポリマーより成る。好適なオレフィンポリマーは
エチレンホモポリマー、エチレンとプロピレンとから形
成し友コポリマー、エチレンか又はプロピレンとブチレ
ンか又は炭素原子5〜10憫を有する個のα−オレフィ
ンとから形成し友コポリマー、エチレン、プロピレン及
びブチレンか又は炭素原子5〜10個を有する他のα−
オレフィンから形成し九ターポリマーもしく区こnらポ
リマーの混盆物である。
エチレン/フロピレンコポリマー、エチレン/ブチレン
コポリマー、プロピレン/ソチレンコボリマー、エチレ
ン/ソロピレン/−fチレンターボリマー又はこれらポ
リマーのa合物を使用すふと有利でぶ机シールj* V
C殊に會九でいるオレフィンポリマーは主成分としてプ
ロピレンを有しかつエチレン含有42〜10厘童チ(コ
ポリマーfC対して)のエチレン/プロピレンコポリマ
ー、主成分とし″1:プロピレンt−肩しかつブチレン
富有率0.5〜25嵐菫チ(コポリマーrc刈して)の
プロピレン/プチレンコホリマー及び王鵬分としてプロ
ピレン七1−シかつエチレン0・5〜71童慢及びブチ
レン5〜60嵐童−(厘菫慢はターポリマーに対する)
をMするエチレン/ゾロピレン/テチレンターボリマー
並びにこnらポリマーの屁合物である。
シールノーのオレフィンポリマーはベース層のプロピレ
ンポリマーより低い融点を有する。一般に、オレフィン
ポリマーの一点は4囲80〜160”0、休に100〜
140°Cである。オレフィンポリマーのメルトフロー
インデックスはベースl曽のプロピレンポリマーのそれ
よりt尚い。一般にシールノーのオレフィンポリマーは
230”0及び貝# 2.16 tq (DIN 53
765)でメルトフローインデックス1〜121/1(
:1間、殊vc6〜9&710分間t−有する。公知方
法の1つによって実施することのできるコロナも埋に関
しては、シートを蒐憔とし″C愼6目する2つの導体素
子の間’frfi遇させる方法を適用しかつスプレー又
にコロオ放″IILを起させるのに十分に尚い(+F1
100C10V及び100Cll]Hz)、丸いCvh
の場曾父戎の゛1圧を印加すると有利である。スプレー
又μコロナ放1の結果として、シート向上の窒気かイオ
ン化さjLかつシートの衆口分子と結付して慣性の取込
みが本来勲慣性のポリマーマトリクス中で行なわれる。
本発明では、2つのシールノ曽の一方ではオレフィンポ
リマーはポリジアルキルシロキサンを含有せず、91ク
ボリゾアルキルシロキサンt−a相しなかつtシール膚
t−;ロナ放電処理にも九らす。
本発”A VCよるポリオレフィンフィルムの特性を更
に改良する丸めに、ベースノーと2つのシール層に好)
j!lな付麿物をそれぞれ有効量で富有させることがで
き、林にベースI曽及びシールノ曽のポリマーと相客で
ある蛍嶌防止剤、積層防止剤、スリツf剤、安定剤及び
/又には分子m脂である。
*れ九當電防止Ma1アル刀り戴^アルカンスルホネー
ト、ポリエーテル変性ボリゾオルガノシロキサy、j!
ubエトキシル化及び/又はプロポキシル化ボリゾオル
ガノシロキサン(ポリジアルキルシロキサン、ポリアル
キルフェニルシロキサン寺)及び/又に主に直鎖状で飽
和の、炭素原子10〜201vAを有する脂肪族基を含
有しかつ2つのヒドロキシアルキル−CCz NC4)
−泰によりtIL侯さjしている脂肪諌第6アミンであ
り、この5リアルキA/4として010〜C2゜、殊に
C11i〜Cxa1f6ft″MするN、N−ビス−(
2−とドロキシエチル)−アルキルアミンカ床に好適で
ある。蛍電防止剤の有効量は膚に対して範囲0.05〜
6重量%である。ポリエーテル変性ポリシロキサンを使
用する場曾には、ベース増のポリマーに及び/又はポリ
ジアルキルシロキサンか混相されているノ曽として使用
しようとする2つのシール層のうちの一方の層のポリマ
ーに6茄する。
好適な粘庸防止創a二販化逆索、R改カルシウム、珪酸
マグネシウム、域−アルミニウム、リン戚カルシウム弄
のような無−付210 ’F21 S非イオン注界11
1i清注創、アニオン性介面清性剤及び/又に不預容性
有機ポリマー、例えばポリアミド、ポリエステル、ポリ
カーボネート等である。
積層防止剤の有効trlc膚に対して@−〇、1〜2!
j1%である。
スリップ剤の丙は部域り旨肪秩戚アミド、尚威廁肪緩戚
エステル、ワックス及び金属石けんである。スリップ剤
の有効量はノーに対して範囲(]、1〜2j[重−であ
る。
使用することのできる安定剤は、エチレン、プロピレン
及び他のα−オレフィンポリマーに対する安建化作用を
儒する常用の化盆吻である。
一般にその有効tはノーに対して0.1〜2嵐宜チであ
る。m’ELい低分子樹脂に躯化点60〜180℃、殊
に80〜160’C(DIN1995−U4にml載さ
れているように測定)kMする天然xtrL曾成樹哨で
ある。多数の低分子樹脂のうり、 R1ヒ水系便廁が凌
nて2g、轡に石拙樹B旨、スチレン樹刀旨、シクロペ
ンタジェム1旨及びテルペン4RB¥1である(これら
の粥Bwζ°ウルマンズ・エンチクロペデイ・デア・テ
ヒニツシエン・ヒエミーUILmanns gnzyk
Lopadle derTecnn、 Chemie 
) ’、第4版、  VuL、 2. 569〜556
員VC記載さ几ている。
石拙憾庸区、t1分肩上油物真を層碌の存在で′JIL
曾することにより生成される炭化水素樹脂である。一般
に、この石油9Axrzスチレン、メチルスチレン、ビ
ニルトルエン、インデン、メチルインデン、ブタジェン
、イソプレン、ピペリレン及びベンチレンのような#膚
形虞吻貞の晶せ吻を富有する。スチレン1対脂に、スチ
レンの低分子ホモポリマー又はスチレンと他のモノマー
、例エバα−メチルスチレン、v:i−ルトル工ン及び
ブタジェンとのコポリマーである。シクロペンタジェン
両Hv1は、コールタール曽出吻及び分dさnた石油ガ
スから得られるシクロべンタゾエンホモボリマー又はシ
クロペンタゾエンコホリマーである。こ3りの貞廁eエ
シクロベンタゾエンをき有する吻買を尚諷に非常に負時
間%たらすことにより虫取する。反応一度に相応して、
二重体、二重体又はより尚幀のポリマーを得ることがで
きる。テルペン樹脂は、はばすべての種油及び慎切の油
分含有樹脂中に存在するテルペン、即)式=自0H16
0欠化水木のポリマー及びフェノール変性テルペン@脂
である。φけらn;b特別なテルペンの例はα−ピネン
、β−ピネン、ジペンテン、リモネン、ミル七ノ、ポル
エレン、カンフエン等である。炭化水索倒BfIは所開
宸性炭1ヒ水索樹脂も包含してよい。一般に、変性はム
曾前の原料の反応、特別な七ツマ−の尋人又にムせ生塙
吻の反応により行な−、休にその−に行なわ詐る反応に
水素化又は部分水系化である。有オリに使用される炭化
水系側線はそnぞれ賦化点60〜180℃、休に80〜
130−Ot−4fするスチレンホモポリマー、スチレ
ンコホリマー、シクロペンタジェンホモポリマー、シク
ロペンタゾエンコホリマー及び/又aテルペンポリマー
(不Il罪ポリマーの搦廿μ水本化生病切か友nている
)。体分子1M廁の有効型に膚に対して6〜15m重%
九休に5〜体0皿′IIt−である。
このは分子樹脂t−盾に対して6〜1!:zi[菫チ、
休に5〜10ム麓優の駕の一点165℃までを有するプ
ロピレンホモポリマー、休にフインタクチックボリグロ
ビレンとを組付せると轡に有利であることが明らかとな
り、その−に樹脂及びプロピレンホモポリマ−tはは1
113童で使用すると有利である。
本発明によるポリオレフィン多ノーフィルムのwnた実
り形によnば、少なくとも1つのシール層が賦化点80
〜150”Cを有する罰記の大案又区せ凧伺膓6〜15
貞重チ、殊に5〜10息ilt嘩及び165−0’!で
の一点を彌するプロピレンホモポリマー6〜15ム駕−
1休に5〜10皿′kcsを富有し、その殿に1重−に
盾に対する。
個の友2′L九夾施杉によnば、ベースノー(主成分か
プロピレンホモポリマーである)及び/又は少なくと%
1つのシール層か常電防止剤としてN、N−ビス−(2
−ヒドロキシエチル)−(CIO−C20 )−アルキ
ルアミン、ポリエーテル変性ポリジオルガノシロキサン
又はこ3う2櫨の混′1!″吻を言Mする。本発明によ
るポリオレフィンフィルムの2つのシール層が一本的に
は同じか又0:#4なるポリマーよg病っていてよいこ
とは明らかである。
好適であるならば、ベース膚及び/又はシールl−にm
l記の他の何ffi’tm、体にスリップ剤及び枯嵩防
止剤をそR−t’ rL有幼電で富有する。
本発明によるポリオレフィン多着フィルムの厚さぐ工広
範に変動aJ庇でありかつ轡に用途にE石される。一般
にその全厚は1θ〜50μm1殊に2θ〜4 [3μm
で、−yb−vc同じ4 g ’= 4するシールノ曽
に七n七オL0.2〜6μm、体にU、5〜1.5μm
である(ペース増の厚さrc竺厚の約50〜90%を占
める)。
6つの膚より病る不完l314VCよるポリオレフィン
フィルムの生成に公知のl”l啼押出法により何なう。
この方法の軸回でtz、?mr!フィルムの谷ノーに相
応するga’rフラットダイt2mして同時押出し、こ
れにより骨られたフィルムをe4rr即して宸園し、そ
のフィルムを二@411Pシ、コノニー屯押したフィル
ム忙ヒートセットしかつコロナ放電処理の1′F定さn
【いるシールノ曽tコロナ処理y<−供することである
。二@aI111rL同時に又区島iI#、的に夷厖す
ることができ、遅枕的二輔IIj&狸ではすめ4CII
llE万回(即)愼械の方向)で、久に慎刀向jIII
J)慎憔に対して偏方同)で延伸するのが浚れている。
それ故、常用の同時押出法と同体に個々の着のポリマー
又にポリマー晶當vJ′を勿めに押出慎中で圧作又区痕
化する。次に離液t″+611tfにフラットダイ(ス
ロットダイ)を通し、かつ押出され九多ノーフィルムを
冷却しかつ冷却により約60〜50 ”OIt保愕さn
ているロール1不以上・でf1jl@する。このように
して得られたフィルムを押出1回に対して厭方向と横方
向に鴫押すると、分子蝋の配回か生じる。縦方向VC4
〜7:1の比で及び漬方10」に8〜10:1の北で鴫
1甲すると有利である。厭力同qta1甲α休にフィル
ム温良120〜140°Cで及び慎方同a IIpu 
gに16o 〜1.75°aで5s−r;b。
縦方向の搗iip t m点の鴫1ψ比に相応する−な
る運五の2本のローラにより行ないかつ慣方向鴫1甲を
好適な1出1arcより何なうと有利である。
フィルムを二m4I!!、1中し九友でヒートセットす
る(黒処理VCも九らす)。この工程ではフィルムt″
温度150〜160−0で豹し]、5〜10秒間保狩す
る。コロナ処理を約10000V及びIUOOOHzの
父I/lt―圧により夾施すると有利である。このよう
にして表遺し九フィルムtだ法で引*装置mにより会取
る。
不発明ytよるポリオレフィン多層フィルムは尚速包諷
伽で包装用フィルムとして使用するのに体GC好運であ
る。こn区、尚速包装愼でのポリオレフィンフィルムに
必貴な丁べてのfL要な%性に’f’fするからである
。林に、肉面でシーリングすることかでき、尚い耐引燻
注、vRn九走行管注及び同時に艮好な印刷1!lE金
有する。
実施例 区に不発nk夾厖例によす靜貌する◎ 以ドのツリ及び比奴IFIlはそnそnニーも押し九(
縦方向の痣埋比5:1、慎方同の鴫仰比10:1)、ベ
ースノ曽と2つのシールノ曽とを有するポリオレフィン
フィルムに関し、このベースノ曽に王凧分として、5M
重IJのn−へブタン中で口」府性のフラクション、e
点165”C及び260℃及び負荷2.16/G9でメ
ルトフローインデックス2//10分間(DIN 53
765 )を有するアイソタクチックポリプロピレンよ
り成る。べ一スノ曽は厚さ約19μm″′Cあすかつベ
ース金包囲する2つのシール虐e工そfLぞn厚さ約1
μmである。6ノ曽ポリオレフインフイルムは公知の同
時押出法により生成した。
例  1 シールノーtz、25−Cで積度6000 (J am
’/sf:Mするポリジメチルシロキサン0.8嵐麓−
ラミ辺しm、エチレン4.5!菫−を含有する(ランダ
ム)エチレン/グロビレンコホリマーより成る。このよ
うにし℃このシールノ曽に繭mlのコポリマー(プロピ
レン95.5皿型−及びエチレン4.5車重斧より虞る
) 99.21重−とポリジメチルシロキサ70.8厘
に%とから形成さtL*。
慎万のシール膚は同じエチレン/プロピレンコホリマー
よ10かつポリシロキサンtrJ、m列されていない。
このシールノ曽にコロナ処理を何なった。6ノーポリオ
レフインフイルムを生成しかつ舎柩った仮でコロナ処理
さn尺シール増上のポリジメチルシロキサン相対占有比
W gk3CA分元分有法によす側足し友。
例 2 シールノ曽区、ゾロピレン/デチレンコボリマー50ム
瀘−とエチレンL1.7嵐址慢、プロピレン81.5m
菫チ及びエチレン18j[菫チを貧有するエチレン/プ
ロピレン/デチレンターボリマ−50嵐瀘−とよ!7成
るポリマーの晶付切及び25゛Cで積度6 Ll 00
 C1mm’/s fc’f4するボリンメチルシロキ
サン1.b崖:it−より病っていて、その赤に凰菫%
Qポリマー晶貧切に対する。このシール膚はpm 6r
iのポリマー屁せ吻98.5厘重★と目11紀の小すシ
ロキサン1.5ム輩−とから形成さIしている。個のシ
ールノ曽は同一のホリマー低賞吻より凧って29かつ晶
相さnkポリシロキサンホ含有していない。このシール
ノ冑をコロナ処理にtたらし九。6)曽ポリオレフィン
フィルムを生成しかつ壱取つ几恢で、コロナ処理し次シ
ールj曽上のポリジメチルシロキサン相対占有比7がg
ScA分元分軒により測定された。
列 6 1つのシール鳩は例2のポリマー晶1f*と25−0で
積置50000 mm’/s =< 鳴するポリゾメチ
ルシロキサン2厘X&%とより成る。他方のシール虐は
例1のコロナ処理し九シールノーに相当する。ポリジメ
チルシロキサン州対占令北に10である。
1つのシール増に、王病分として例1と同体にエチレン
4.bJIL*%を置市゛する(ランダム)エチレン/
グロビレンコボリマー25℃テ枯匿5000 mm’/
sのポリジメチルシロキサンU、5嵐寛饅、n−へブタ
ン4.5厘11t優中でoJm注のフラクションを有し
、一点16t)−0及び26 Ll −0、負性2.1
6に9でメルトフローインデックス6g/10分向t−
令するアイソタクチックポリプロピレン10ム重う及び
軟化点125−0の木本111Sボリシクロペンタゾエ
ン、11月旨10皇菫チより凧る。他方のシール層は1
1’lJ 1のコロナ処理した層に相当する。ポリジメ
チルシロキサン相対占M部rC2である。
例  5 1つのシール層は例2と同体に主属分としてのポリマー
晶賞物、25−0で粘度50000mm“/8のポリジ
メチルシロ千すン6皿]IIl:チ、n−へブタン4.
5Xtチ中で61m性のフラクションtSL、一点16
5’U及び260”O12,16確の負性でメルト70
−インデツクス611/1U分間に’ffするアイソタ
クチックポリプロピレン10皿TI[%及ヒ、ビニルト
ルエン、α−メチルスチレン及びインデンから庇凧さ匹
かつ拭1ヒ点125’O’frnする水素11S灰1こ
水高樹脂10嵐菫聾より敢る。他方のシール層1#に例
2のコロナ処理しfF−)曽に相当する。ポリジメチル
シロキサン札対占有比に14である。
比較例1 四ドイツWt+f針公開第6247998号明細膏の例
1に相当するシール層を使用する。
比較例2 木l狩肝第4419411号四細蕾の例4に相当するシ
ール層を使用する。
ポリジアルキルシロキサン相対占有比の測定:コロナ処
理し几シールノ曽の表面のポリジアルキルシロキサン相
対占有比にgBcA分元分+jr法により測定し’fe
o ]1blcA分元分質法は、X−の作用により表面
から発せりれる電子の遜鯛エネルイーが(Ill定さj
Lる弐面臀^的分ヤr法である。
測定rc破破性仕上し、両法で層成つ九フィルムの試料
を狡い、そnt香城りた伏線で至温で少なくとも60分
間故直しfc慎で拠厖し九◎E8改スペクトルslIは
光ぜらrし九工不ルイー阜位により表わさnる。IJC
Aスペクトル−のドvtio槓rL六ロ上の適当な7c
系の磯友に比劉する。従って六回のホリゾアルキルシロ
キサンの相対c5壱比(KBO> D 812pa/2
−の015↓/、4blに対する面慎の比を久式: 〔式中Fai2p37.はbi2p37g−より下の面
積でありか′FC1s A/、 t’X、 C1s y
2@より丁のIIIJdであり、諦畝40に相対的なシ
グナル強匿係畝でみる〕によりtraする。この測定は
木−のマクファーソン(Me phersυn)社によ
り装作され九ki旧CA表直、glicA 66元−子
スペクトロメータ(PnUt061ectrOn8p6
ctrtoneZ6r ) 2使って実抛した。
一イ引慣性(1慎に刈する感[)祠建:DIN b 5
754の方法により耐引i往を測定する。フランク(F
rank :四ドイツ)により装作さrtた11671
J#札拭駅愼を耐引慎注の測定に徳用し、テレダイン(
Te1edyne )、ターパー(Tabsr 、木−
)により表作さn、2bu9で負荷さnた開襟カリデラ
ープ(CALIB甑部[F])CI#−i[IFO摩代
ホイールτ便用する。釘引嫌性又は1慎感度に緘科板を
501松さぜた彼でオリジナルフィルムと比軟し7cW
*の1瑣いtフィルムの−9における増加に関する。
シール強さの測定: 鴨15Mの2本のストリップの一方を他方の上に配電し
かつ130”C,シール時間U、1秒間及びシール圧0
.15バールでシールし友。シール強さはTビール法に
より測定し友。
本発明の例及び比較例の6層ポリオレフィンフィルムの
軸性を次表に置載する。
表から、本発明による6鳩ポリオレフインフイルムか孜
術水準のものよりも看しく友れていることか明らかであ
る。不9g明によるフィルムだけか肉百のシール性、酊
引演性及び友行注(慎慎上での走行谷易任)に関する尚
い安Xを宵足し、そ扛と同時に良好な印刷性を有し、そ
れ故尚、4′i3j、裟愼に刈丁ゐ1仕の虐用性により
浚it、ている。
表 式中の符号にべのことを衣ゎす: +良好 +十非常に良好 士十分 一小士分 11Q1:コロナ処理した

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、両面がシールされていてよく、かつ3層より成つて
    いて、ベース層が主にプロピレンポリマーより成りかつ
    2つのシール層が主にシール性オレフインポリマーより
    成る二軸延伸されたポリオレフインフイルムにおいて、
    1つのシール層はこの層の重量に対して混和されたポリ
    ジアルキルシロキサン0.5〜3重量%を含有しかつこ
    のシール層はコロナ処理されておらず、他のシール層は
    コロナ処理されておりかつポリジアルキルシロキサンを
    混和されてはいないが、その外面上に有しており、その
    ポリジアルキルシロキサンは2つのシール層の間の接触
    により移行したものであり、コロナ処理した外面のポリ
    ジアルキルシロキサン相対占有比はESCA分光分析法
    により測定して15より大きくないことを特徴とする二
    軸延伸されたポリオレフインフイルム。 2、混和されたポリジアルキルシロキサンの量が0.8
    〜2重量%である特許請求の範囲第1項記載のポリオレ
    フインフイルム。 3、ポリジアルキルシロキサン相対占有比が2〜10で
    ある特許請求の範囲第1項又は第2項記載のポリオレフ
    インフイルム。 4、ポリジアルキルシロキサンが25℃で粘度1000
    〜100000mm^2/sを有するポリジメチルシロ
    キサンである特許請求の範囲第1項から第3項までのい
    ずれか1項記載のポリオレフインフイルム。 5、シール層のオレフインポリマーがエチレン/プロピ
    レンコポリマー、エチレン/ブチレンコポリマー、プロ
    ピレン/ブチレンコポリマー、エチレン/プロピレン/
    ブチレンターホリマー又はこれらポリマーの2種又はそ
    れ以上の混合物である特許請求の範囲第1項から第4項
    までのいずれか1項記載のポリオレフインフイルム。 6、少なくとも1つのシール層がその層重量に対して軟
    化点80〜130℃を有する天然又は合成樹脂3〜15
    重量%及び165℃までの融点を有するプロピレンホモ
    ポリマー3〜15重量%を含有する特許請求の範囲第1
    項から第5項までのいずれか1項記載のポリオレフイン
    フイルム。 7、ベース層及び/又は少なくとも1つのシール層がN
    ,N−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−(C_1_0
    〜C_2_0)−アルキルアミン、ポリエーテル変性ポ
    リジオルガノシロキサン又はこれら両方の混合物を帝電
    防止剤として含有する特許請求の範囲第1項から第6項
    までのいずれか1項記載のポリオレフインフイルム。 8、ポリオレフインフイルムが層厚10〜50μmを有
    し、シール層がそれぞれ厚さ0.2〜3μmである特許
    請求の範囲第1項から第7項までのいずれか1項記載の
    ポリオレフインフイルム。 9、両面がシールされていてよく、かつ3層より成つて
    いて、ベース層が主にプロピレンポリマーより成りかつ
    2つのシール層が主にシール性オレフインポリマーより
    成り、1つのシール層がこの層の重量に対して混和され
    たポリジアルキルシロキサン0.5〜3重量%を含有し
    かつこのシール層はコロナ処理されておらず、他のシー
    ル層がコロナ処理されており、かつポリジアルキルシロ
    キサンを混和されてはいないが、その外面上に有してお
    り、そのポリジアルキルシロキサンが2つのシール層の
    間の接触により移行したものであり、コロナ処理した外
    面のポリジアルキルシロキサン相対占有比がESCA分
    光分析法により測定して15より大さくない二軸延伸さ
    れたポリオレフインフイルムを製造する方法において、
    該フイルムのそれぞれの層に相応する融液をフラツトダ
    イを通して同時押出加工し、この同時押出加工したフイ
    ルムを冷却して凝固し、フイルムを縦方向の延伸比4〜
    7:1で及び横方向の延伸比8〜10:1で二軸延伸し
    、二軸延伸したフイルムをヒートセツトし、それをコロ
    ナ処理にもたらし、その後で巻取ることを特徴とする二
    軸延伸されたポリオレフインフイルムの製法。
JP61055179A 1985-03-15 1986-03-14 二軸延伸されたポリオレフインフイルム及びその製法 Granted JPS61213149A (ja)

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