JPS61210520A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPS61210520A JPS61210520A JP5062385A JP5062385A JPS61210520A JP S61210520 A JPS61210520 A JP S61210520A JP 5062385 A JP5062385 A JP 5062385A JP 5062385 A JP5062385 A JP 5062385A JP S61210520 A JPS61210520 A JP S61210520A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に係り、特に非磁性基板上に強磁
性金属からなる磁性層を形成してなる磁気記録媒体およ
びその製造方法に関するものである。
性金属からなる磁性層を形成してなる磁気記録媒体およ
びその製造方法に関するものである。
非磁性基板上に強磁性金属層を形成してなる磁気記録媒
体は、高密度記録に適した優れた特性を有しているが、
その反面に磁気ヘッドとの摩擦係数が大きく摩耗や損傷
を受は易く、しかも大気中に放置しておくと強磁性金属
層が腐食され、磁気記録媒体の走行性や磁気特性が劣化
するという欠点を育している。
体は、高密度記録に適した優れた特性を有しているが、
その反面に磁気ヘッドとの摩擦係数が大きく摩耗や損傷
を受は易く、しかも大気中に放置しておくと強磁性金属
層が腐食され、磁気記録媒体の走行性や磁気特性が劣化
するという欠点を育している。
これを改善するため、脂肪酸などの有機高分子物質ある
いはＳｔ、Ｔｌ、Ｎｉ、Ｃｒ−Ｚｒ、Ｔａなどの無機物
質よりなる保護層を設けることが提案されている。とこ
ろが有機高分子物質単独からなる保護層の場合は、保護
層としての耐久性に乏しく、摩擦係数が経時的に増大す
る。一方、前述の無機物質からなる保護層の場合は、摩
擦が大きく、これらの酸化物・′鉦化物では走行時の磁
気ヘッドの削れが非常に大きいという難点があった。
いはＳｔ、Ｔｌ、Ｎｉ、Ｃｒ−Ｚｒ、Ｔａなどの無機物
質よりなる保護層を設けることが提案されている。とこ
ろが有機高分子物質単独からなる保護層の場合は、保護
層としての耐久性に乏しく、摩擦係数が経時的に増大す
る。一方、前述の無機物質からなる保護層の場合は、摩
擦が大きく、これらの酸化物・′鉦化物では走行時の磁
気ヘッドの削れが非常に大きいという難点があった。
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、耐
食性ならびに走行性に優れた磁気記録媒体を提供するに
ある。
食性ならびに走行性に優れた磁気記録媒体を提供するに
ある。
本発明の他の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し
、耐食性ならびに走行性に優れた磁気記録媒体の製造方
法を提供するにある。
、耐食性ならびに走行性に優れた磁気記録媒体の製造方
法を提供するにある。
Ｃ問題を解決するための手段〕
本発明は、前述の目的を達成するために、強磁性金属層
上にチタン、クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウ
ム、鉄およびこれらの合金のグループから選択された少
なくとも１種の金属と潤滑性を有する高分子物質との混
合物からなる保護層が形成されていることを特徴とする
ものである。
上にチタン、クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウ
ム、鉄およびこれらの合金のグループから選択された少
なくとも１種の金属と潤滑性を有する高分子物質との混
合物からなる保護層が形成されていることを特徴とする
ものである。
さらに本発明は、前述の目的を達成するために、チタン
、クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄およ
びこれらの合金のグループから選択された少なくとも１
種の金属と潤滑性を有する高分子物質とをほぼ同時にス
パッタリングまたは蒸着して、強磁性金属層上に前記グ
ループから選択された少なくとも１種の金属と潤滑性を
有する高分子物質との混合物からなる保護層を形成した
ことを特徴とするものである。
、クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄およ
びこれらの合金のグループから選択された少なくとも１
種の金属と潤滑性を有する高分子物質とをほぼ同時にス
パッタリングまたは蒸着して、強磁性金属層上に前記グ
ループから選択された少なくとも１種の金属と潤滑性を
有する高分子物質との混合物からなる保護層を形成した
ことを特徴とするものである。
さらに本発明は、前述の目的を達成するため、チタン、
クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄および
これらの合金のグループから選択された少なくとも１種
の金属と潤滑性を有する高分子物質との混合物からなる
第１の保護層が形成され、その第１の保護層の上に潤滑
性を有する高分子物質からなゐ第２の保護層が形成され
ていることを特徴とするものである。
クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄および
これらの合金のグループから選択された少なくとも１種
の金属と潤滑性を有する高分子物質との混合物からなる
第１の保護層が形成され、その第１の保護層の上に潤滑
性を有する高分子物質からなゐ第２の保護層が形成され
ていることを特徴とするものである。
さらに本発明は、前述の目的を達成するため、チタン、
クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄とニッ
ケルとクロムの合金のグループから選択された少なくと
も１種の金属と潤滑性を有する高分子物質とをほぼ同時
にスパッタリングまたは蒸着して、強磁性金属層上に第
１の保護層を形成し、その第１の保護層上に潤滑性を有
する高分子物質からなる第２の保護層が形成されている
ことを特徴とするものである。
クロム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄とニッ
ケルとクロムの合金のグループから選択された少なくと
も１種の金属と潤滑性を有する高分子物質とをほぼ同時
にスパッタリングまたは蒸着して、強磁性金属層上に第
１の保護層を形成し、その第１の保護層上に潤滑性を有
する高分子物質からなる第２の保護層が形成されている
ことを特徴とするものである。
次に本発明の実施例について図面とともに説明する。第
１図および第２図は本発明の各実施例によって得られた
磁気記録媒体の拡大図、第３図はこれら磁気記録媒体を
製造するための製造装置の概略構成図、第４図は各磁気
記録媒体の摩擦係数を測定するための試験機の原理説明
図である。
１図および第２図は本発明の各実施例によって得られた
磁気記録媒体の拡大図、第３図はこれら磁気記録媒体を
製造するための製造装置の概略構成図、第４図は各磁気
記録媒体の摩擦係数を測定するための試験機の原理説明
図である。
第３図に示すように、ポリエチレンテレフタレートから
なるベースフィルム１２は巻出しロール１からガイドロ
ール２を経て冷却ドラム３に巻掛けられ、さらにガイド
ロール４を経て巻取りロール５に巻き取られる。
なるベースフィルム１２は巻出しロール１からガイドロ
ール２を経て冷却ドラム３に巻掛けられ、さらにガイド
ロール４を経て巻取りロール５に巻き取られる。
ベースフィルム１２が冷却ドラム３上にあるとき、最初
、シャッター７の開閉により金属６がベースフィルム１
２上に蒸着される。前記金属６はニッケルを２０重量％
含有するコバルト−ニッケルの強磁性金属合金で、この
蒸着によりベースフィルム１２上に１２００人の膜厚を
有する強磁性金属層１６が形成される。（第１図、第２
図参照）。
、シャッター７の開閉により金属６がベースフィルム１
２上に蒸着される。前記金属６はニッケルを２０重量％
含有するコバルト−ニッケルの強磁性金属合金で、この
蒸着によりベースフィルム１２上に１２００人の膜厚を
有する強磁性金属層１６が形成される。（第１図、第２
図参照）。
次に電極８にて耐食性金属と潤滑性を有する高分子物質
とが同時にスパッタリングされ、保護層（第１の保護層
）１７が形成される（第１図、第２図参照）、シかるの
ち必要に応じて、この第１の保護層１７の上に潤滑性を
有する高分子物質の溶液を塗布して、第２の保護層１８
を形成する（第２図参照）。
とが同時にスパッタリングされ、保護層（第１の保護層
）１７が形成される（第１図、第２図参照）、シかるの
ち必要に応じて、この第１の保護層１７の上に潤滑性を
有する高分子物質の溶液を塗布して、第２の保護層１８
を形成する（第２図参照）。
次に具体的な実施例について説明する。
実施例１
ポリエチレンテレフタレートからなるベースフィルム１
２上に、ニッケルを２０重量％含むコバルト−ニッケル
の強磁性金属合金を電子？−ム溶解により膜厚が１２０
０人になるまで蒸着させて強磁性金属層１６を形成する
。
２上に、ニッケルを２０重量％含むコバルト−ニッケル
の強磁性金属合金を電子？−ム溶解により膜厚が１２０
０人になるまで蒸着させて強磁性金属層１６を形成する
。
次にｌＸｌ０−’〜Ｉ Ｘｌ０−’ ）−ルのアルゴン
ガスが導入された放電処理室１１において、電極８を用
い１３．５６ＭＨ２の周波数ならびに１００〜５００ワ
ツトの放電パワーで高周波放電処理を行なった。なお前
記電極８は１８−８ステンレス（鉄−ニッケルークロム
合金）にシリコン樹脂が面積比（樹脂／金属）で０．２
０埋め込まれたものを用い、冷却ドラム３と電極８の距
離は？５１１０１とした。この放電処理により、膜厚１
００人の保護層（第１の保護層）１７が形成される。こ
の保護層中にはＳｔ 、 Ｃｒ 、Ｆｅ。
ガスが導入された放電処理室１１において、電極８を用
い１３．５６ＭＨ２の周波数ならびに１００〜５００ワ
ツトの放電パワーで高周波放電処理を行なった。なお前
記電極８は１８−８ステンレス（鉄−ニッケルークロム
合金）にシリコン樹脂が面積比（樹脂／金属）で０．２
０埋め込まれたものを用い、冷却ドラム３と電極８の距
離は？５１１０１とした。この放電処理により、膜厚１
００人の保護層（第１の保護層）１７が形成される。こ
の保護層中にはＳｔ 、 Ｃｒ 、Ｆｅ。
Ｎｉ原子が重量％でそれぞれ、７゜５．７．５．６６．
２ 。
２ 。
１８．８ 含有されていた。
放電処理の終ったベースフィルム１２を放電処理室１１
から取り出し、シリコン系潤滑剤を０．１重量％溶解し
た溶液を第１の保護層１７上に塗布して０゜０１μ園の
膜厚を有するシリコン系潤滑剤からなる第２の保護層１
８を形成する。
から取り出し、シリコン系潤滑剤を０．１重量％溶解し
た溶液を第１の保護層１７上に塗布して０゜０１μ園の
膜厚を有するシリコン系潤滑剤からなる第２の保護層１
８を形成する。
実施例２
放電処理室１１の放電ガスとしてｌＸｌ０−’〜２．０
ＸＩＯ−”）−ルのＡｒと酸素の混合ガス（酸素ガス１
０％）を用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。この場合、１０％以下の酸化物が
検出された。
ＸＩＯ−”）−ルのＡｒと酸素の混合ガス（酸素ガス１
０％）を用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。この場合、１０％以下の酸化物が
検出された。
実施例３
放電処理室１１の放電ガスとして５％窒素ガス含有のＡ
ｒガスを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。
ｒガスを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。
実施例４
フッ素樹脂が面積比（樹脂／金属）で０．２０埋め込ま
れた電極８を用いるとともに、パーフルオロポリエーテ
ル（フッ素系脂肪酸）を０．１重量％溶解したトリクロ
ロトリフロロエタン溶液からなる第２の保護膜用溶液を
使用した以外は前記実施例１と同様の方法で磁気記録媒
体を製造した。この場合、第１保護腹中のＣ＋ Ｆ、
Ｆｅ＋Ｃｒ 、Ｎｉ原子の含有量（重量％）はそれぞれ
、０．９．２．０ 。
れた電極８を用いるとともに、パーフルオロポリエーテ
ル（フッ素系脂肪酸）を０．１重量％溶解したトリクロ
ロトリフロロエタン溶液からなる第２の保護膜用溶液を
使用した以外は前記実施例１と同様の方法で磁気記録媒
体を製造した。この場合、第１保護腹中のＣ＋ Ｆ、
Ｆｅ＋Ｃｒ 、Ｎｉ原子の含有量（重量％）はそれぞれ
、０．９．２．０ 。
６９．５．７，９．１９．７であった。
実施例５
放電処理室１１の放電ガスとしてｌＸｌ０−”〜２．０
ＸＩＯ”’）−ルの１０％酸素ガスを含むＡｒガスを用
いた以外は前記実施例４と同様の方法で磁気記録媒体を
製造した。
ＸＩＯ”’）−ルの１０％酸素ガスを含むＡｒガスを用
いた以外は前記実施例４と同様の方法で磁気記録媒体を
製造した。
実施例６
放電処理室１１の放電ガスとして５％窒素ガスを含有す
るＡｒガスを用いた以外は前記実施例４と同様の方法で
磁気記録媒体を製造した。
るＡｒガスを用いた以外は前記実施例４と同様の方法で
磁気記録媒体を製造した。
実施例７
第１の保護層１７の構成金属としてステンレスの代りに
チタンを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＮｉ
原子とＴｉ原子の含有量は１６．６重量％ Ｔｉ −８
３，４重量％であった。
チタンを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＮｉ
原子とＴｉ原子の含有量は１６．６重量％ Ｔｉ −８
３，４重量％であった。
実施例８
第１の保護層１７の構成金属としてステンレスの代りに
クロムを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＳｉ
原子とＣｒ原子の含有量（重量％）は Ｓｉ ＝７．９
、Ｃｒ９２．１であった。
クロムを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁気
記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＳｉ
原子とＣｒ原子の含有量（重量％）は Ｓｉ ＝７．９
、Ｃｒ９２．１であった。
実施例９
第１の保護層１７の構成金属としてステンレスの代りに
ニッケルを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁
気記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＳ
ｉ原子とＮｉ原子の含有量はＳｔ ＝７．１ 、Ｎ−９
２，９であった。
ニッケルを用いた以外は前記実施例１と同様の方法で磁
気記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＳ
ｉ原子とＮｉ原子の含有量はＳｔ ＝７．１ 、Ｎ−９
２，９であった。
実施例１０
第１の保護層１７の構成金属としてステンレスの代りに
タンタルを用いた以外は前記実施例１と同様な方法で磁
気記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＳ
ｉ原子とＴａ原子の含有量はＳ ｉ ＝ １４．２）Ｔ
ａ −８５，８であった。
タンタルを用いた以外は前記実施例１と同様な方法で磁
気記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中のＳ
ｉ原子とＴａ原子の含有量はＳ ｉ ＝ １４．２）Ｔ
ａ −８５，８であった。
実施例１１
第１の保護層１７の構成金属としてステンレスの代りに
ジルコニウムを用いた以外は前記実施例１と同様の方法
で磁気記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中
のＳｉ原子とＺｒ原子の含有量はＳ ｉ ＝ １７．５
、Ｚｒ ＝８２．５であった。
ジルコニウムを用いた以外は前記実施例１と同様の方法
で磁気記録媒体を製造した。この場合、第１の保護層中
のＳｉ原子とＺｒ原子の含有量はＳ ｉ ＝ １７．５
、Ｚｒ ＝８２．５であった。
比較例１
高周波放電処理を省いた以外は前記実施例１と同様の方
法で磁気記録媒体を製造した。
法で磁気記録媒体を製造した。
比較例２
高周波放電処理を省いた以外は前記実施例４と同様の方
法で磁気記録媒体を製造した。
法で磁気記録媒体を製造した。
これら各磁気記録媒体について、６０℃、９０％ＲＨの
腐食環境下における動摩擦係数と飽和磁化の経時劣化率
、および２０℃、５０％ＲＨの環境下におけるスチル寿
命を行ないその結果を次の表に示す。
腐食環境下における動摩擦係数と飽和磁化の経時劣化率
、および２０℃、５０％ＲＨの環境下におけるスチル寿
命を行ないその結果を次の表に示す。
なお、摩擦係数の測定は第４図に示すように、表面粗度
Ｒが０．０５μｍのステンレス製固定ピン１３に、磁気
記録媒体１５を掛け、磁気記録媒体１５の一端に２０ｇ
の重錘１４をつけ、定速で摺動させたときの固定ピン１
３との摩擦によって生じる応力から求めた。
Ｒが０．０５μｍのステンレス製固定ピン１３に、磁気
記録媒体１５を掛け、磁気記録媒体１５の一端に２０ｇ
の重錘１４をつけ、定速で摺動させたときの固定ピン１
３との摩擦によって生じる応力から求めた。
この表から明らかなように、本発明の実施例に係る磁気
記録媒体は比較例のものに比較して耐久性ならびに耐食
性とも著しく向上していることが分かる。
記録媒体は比較例のものに比較して耐久性ならびに耐食
性とも著しく向上していることが分かる。
前記実施例では磁性層上に第１の保護層ならびに第２の
保護層を形成したが、前述のような第１の保護層のみで
も磁気記録媒体の耐久性ならびに耐食性を向上すること
ができる。
保護層を形成したが、前述のような第１の保護層のみで
も磁気記録媒体の耐久性ならびに耐食性を向上すること
ができる。
第１の保護層中における樹脂／金属の割合は、０．０５
〜０．５好ましくは０．０５〜０．３５の範囲で、この
割合は電極の樹脂／金属の面積比をコントロールするこ
とによって容易に調整できる。
〜０．５好ましくは０．０５〜０．３５の範囲で、この
割合は電極の樹脂／金属の面積比をコントロールするこ
とによって容易に調整できる。
前記実施例で述べたように、第１の保護層の高分子物質
と第２の保護層の高分子物質とが同系統の高分子物質の
場合は、第１の保護層と第２の保護層の親和性があり、
そのために耐摩耗性が良好である。
と第２の保護層の高分子物質とが同系統の高分子物質の
場合は、第１の保護層と第２の保護層の親和性があり、
そのために耐摩耗性が良好である。
第１図および第２図は本発明に係る磁気記録媒体の各断
面図、第３図はその磁気記録媒体を製造するために用い
られる放電処理室の概略構成図、第４図は摩擦係数の測
定原理を示す説明図である。 １２・・・ベースフィルム、１６・・・強磁性金属層、
１７・・・第１の保護層、１８・・・第２の保護層。 □【−′Ｆ′１７とＬｆｆ：′ １２：べ゛−スフイルム １６：強猛Ｉ）生金１層 １７；第１の督１篭届 １８：第２の保鬼箋層 第３図 第４因
面図、第３図はその磁気記録媒体を製造するために用い
られる放電処理室の概略構成図、第４図は摩擦係数の測
定原理を示す説明図である。 １２・・・ベースフィルム、１６・・・強磁性金属層、
１７・・・第１の保護層、１８・・・第２の保護層。 □【−′Ｆ′１７とＬｆｆ：′ １２：べ゛−スフイルム １６：強猛Ｉ）生金１層 １７；第１の督１篭届 １８：第２の保鬼箋層 第３図 第４因
Claims (5)
- （１）非磁性基板上に強磁性金属層を形成してなる磁気
記録媒体において、前記強磁性金属層上にチタン、クロ
ム、ニッケル、タンタル、ジルコニウム、鉄およびこれ
らの合金のグループから選択された少なくとも１種の金
属と潤滑性を有する高分子物質との混合物からなる第１
の保護層が形成され、その第１の保護層の上に潤滑性を
有する高分子物質からなる第２の保護層が形成されてい
ることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記第
１の保護層の高分子物質と第２の保護層の高分子物質と
が同系統の高分子物質であることを特徴とする磁気記録
媒体。 - （３）非磁性基板上に強磁性金属層を形成してなる磁気
記録媒体の製造方法において、前記強磁性金属層を前記
非磁性基板上に形成したのち、チタン、クロム、ニッケ
ル、タンタル、ジルコニウム、鉄およびこれらの合金の
グループから選択された少なくとも１種の金属と潤滑性
を有する高分子物質とをほぼ同時にスパッタリングまた
は蒸着して、強磁性金属層上に前記グループから選択さ
れた少なくとも１種の金属と潤滑性を有する高分子物質
とを含む保護層を形成したことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - （４）非磁性基板上に強磁性金属層を形成してなる磁気
記録媒体の製造方法において、前記強磁性金属層を前記
非磁性基板に形成したのち、チタン、クロム、ニッケル
、タンタル、ジルコニウム、鉄およびこれらの合金のグ
ループから選択された少なくとも１種の金属と潤滑性を
有する高分子物質とをほぼ同時にスパッタリングまたは
蒸着して、強磁性金属層上に第１の保護層を形成し、そ
の第１の保護層上に潤滑性を有する高分子物質からなる
第２の保護層が形成されていることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - （５）特許請求の範囲第（４）項において、前記第１の
保護層の高分子物質と第２の保護層の高分子物質とが同
系統の高分子物質であることを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5062385A JPS61210520A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5062385A JPS61210520A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210520A true JPS61210520A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12864103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5062385A Pending JPS61210520A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61210520A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0216044A (ja) * | 1988-05-03 | 1990-01-19 | Flex Prod Inc | 磁気特性およびカラーシフティング特性を持つ薄フイルム構造体 |
-
1985
- 1985-03-15 JP JP5062385A patent/JPS61210520A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0216044A (ja) * | 1988-05-03 | 1990-01-19 | Flex Prod Inc | 磁気特性およびカラーシフティング特性を持つ薄フイルム構造体 |
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