JPS61210179A - ミクロト−ム用コ−ティング刃の製造方法 - Google Patents
ミクロト−ム用コ−ティング刃の製造方法Info
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- JPS61210179A JPS61210179A JP4954585A JP4954585A JPS61210179A JP S61210179 A JPS61210179 A JP S61210179A JP 4954585 A JP4954585 A JP 4954585A JP 4954585 A JP4954585 A JP 4954585A JP S61210179 A JPS61210179 A JP S61210179A
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- JP
- Japan
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- microtome
- silicon carbide
- blade
- coated
- substrate
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/32—Carbides
- C23C16/325—Silicon carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/56—After-treatment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/04—Devices for withdrawing samples in the solid state, e.g. by cutting
- G01N1/06—Devices for withdrawing samples in the solid state, e.g. by cutting providing a thin slice, e.g. microtome
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/04—Devices for withdrawing samples in the solid state, e.g. by cutting
- G01N1/06—Devices for withdrawing samples in the solid state, e.g. by cutting providing a thin slice, e.g. microtome
- G01N2001/061—Blade details
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野ン
本発明は改良されたミクロトーム用コーティング刃、特
５二は耐久性、耐腐蝕性、切削性を格段に向上させたミ
クロトーム用コーティング刃およびその製造方法Ｃ；関
するものである。
５二は耐久性、耐腐蝕性、切削性を格段に向上させたミ
クロトーム用コーティング刃およびその製造方法Ｃ；関
するものである。
（従来の技術）
医学、動植物部門の発展と共にミクロ分野の探究は益々
その必要性が高くなってきており、これｌ二伴なって光
学顕微鏡、電子顕微鏡の性能も向上してきている。
その必要性が高くなってきており、これｌ二伴なって光
学顕微鏡、電子顕微鏡の性能も向上してきている。
しかし、この顕微鏡用資料作成Ｉ：使用するミクロトー
ム用刃は従来から使用されている金属、ガラス、サファ
イア、ダイヤモンドから作られたものがそのまま使用さ
れており、これらは金属刃については使用の都度刃先を
整える必要があり、ガラス刃の場合には特（二鋭角に割
れた破片に取りかえる必要があるため作業性がわるいと
いう不利があり、比較的寿命の長いダイヤモンド刃には
高価であるし再研磨費用も高価であり、この作業が熟練
を要する手工業であるために生産性もわるいという不利
がある。
ム用刃は従来から使用されている金属、ガラス、サファ
イア、ダイヤモンドから作られたものがそのまま使用さ
れており、これらは金属刃については使用の都度刃先を
整える必要があり、ガラス刃の場合には特（二鋭角に割
れた破片に取りかえる必要があるため作業性がわるいと
いう不利があり、比較的寿命の長いダイヤモンド刃には
高価であるし再研磨費用も高価であり、この作業が熟練
を要する手工業であるために生産性もわるいという不利
がある。
（発明の構成ン
本発明はこのような不利を解決したミクロ）−ム用コー
ティング刃に関するものであり、これは基体上に結晶質
炭化けい素な被覆してなることを特徴とするミクロトー
ム用コーティング刃についての＄１発明と、基体上Ｃニ
プラズマ気相沈積法でシラン化合物からの非晶質の炭化
けい素膜を形成させ、ついでこれを熱処理して非晶質炭
化けい素を結晶質炭化けい素とすることを特徴とするミ
クロトーム用コーティング刃の製造方法についての＠２
発明とからなるものである。
ティング刃に関するものであり、これは基体上に結晶質
炭化けい素な被覆してなることを特徴とするミクロトー
ム用コーティング刃についての＄１発明と、基体上Ｃニ
プラズマ気相沈積法でシラン化合物からの非晶質の炭化
けい素膜を形成させ、ついでこれを熱処理して非晶質炭
化けい素を結晶質炭化けい素とすることを特徴とするミ
クロトーム用コーティング刃の製造方法についての＠２
発明とからなるものである。
すなわち、本発明者らは耐久性、耐腐蝕性、切削性の改
良されたミクロトーム用コーティング刃の製法について
種々検討した結果、従来公知のミクロトーム用刃の切削
用表面に結晶質炭化けい素を被覆させれば、この炭化け
い素が耐摩耗性、耐腐蝕性で高強度であるという性状を
もつものであることから、このように処理されたミクロ
トーム用コーティング刃は、上記した改良された物性を
もつものになるということを見出すと共に、この結晶質
炭化けい素の被覆ぽ：ついてはシラン化合物のプラズマ
気相沈積法によって基体上Ｃ二非晶質炭化けい素の皮膜
を形成させれば加熱すること（二よって均一な板状形状
をもつβ型炭化けい素被膜を容易に得ることができるし
、この非晶質炭化けい素は加熱処理丁れば目的とする結
晶質炭化けい素被覆を設（すたミクロトーム用コーティ
ング刃とすることができるということを確認して本発明
を完成させた。
良されたミクロトーム用コーティング刃の製法について
種々検討した結果、従来公知のミクロトーム用刃の切削
用表面に結晶質炭化けい素を被覆させれば、この炭化け
い素が耐摩耗性、耐腐蝕性で高強度であるという性状を
もつものであることから、このように処理されたミクロ
トーム用コーティング刃は、上記した改良された物性を
もつものになるということを見出すと共に、この結晶質
炭化けい素の被覆ぽ：ついてはシラン化合物のプラズマ
気相沈積法によって基体上Ｃ二非晶質炭化けい素の皮膜
を形成させれば加熱すること（二よって均一な板状形状
をもつβ型炭化けい素被膜を容易に得ることができるし
、この非晶質炭化けい素は加熱処理丁れば目的とする結
晶質炭化けい素被覆を設（すたミクロトーム用コーティ
ング刃とすることができるということを確認して本発明
を完成させた。
本発明のミクロトーム用コーティング刃は基体上に結晶
質炭化けい素を被覆したものであるが、この基体は従来
公知のものでよく、これにはステンレススチール、超硬
合金などの金属、ガラス、サファイアなどが例示される
。この基体に被覆される炭化けい素は結晶質のものとさ
れるが、この被覆はその厚さが５０Ａ以下では薄すぎて
信頼性の乏しいものとなり、５００Ａ以上では電子顕微
鏑１１１甘Ｕが埋包ス餡ンかムので５０〜Ｆ＋（１０Ａ
（７）の範囲、好ましくは８０〜２００Ａの範囲とする
ことがよい。
質炭化けい素を被覆したものであるが、この基体は従来
公知のものでよく、これにはステンレススチール、超硬
合金などの金属、ガラス、サファイアなどが例示される
。この基体に被覆される炭化けい素は結晶質のものとさ
れるが、この被覆はその厚さが５０Ａ以下では薄すぎて
信頼性の乏しいものとなり、５００Ａ以上では電子顕微
鏑１１１甘Ｕが埋包ス餡ンかムので５０〜Ｆ＋（１０Ａ
（７）の範囲、好ましくは８０〜２００Ａの範囲とする
ことがよい。
第１図はこのミクロトーム用コーティング刃の縦断面要
因を示したものであり、これはその先端が鋭利な角錐状
の金属ガラス、サファイアなどで作られた基体１の切削
用面を結晶質炭化けい素の薄膜２で被覆したものであり
、この皮膜２は図示しであるようＣ二先端後がより薄く
なるようされていることが好ましいものとされる。
因を示したものであり、これはその先端が鋭利な角錐状
の金属ガラス、サファイアなどで作られた基体１の切削
用面を結晶質炭化けい素の薄膜２で被覆したものであり
、この皮膜２は図示しであるようＣ二先端後がより薄く
なるようされていることが好ましいものとされる。
上記した本発明のミクロトーム用コーティング刃はどの
ような方法で作られたものであってもよいが、これｌ二
は基体上にシラン化合物を用いてこれをプラズマ処理し
、プラズマ気相沈積法によってシラン化合物を非晶質の
炭化けい素のプラズマ重合膜として、これを基体上に薄
層として析出させ、ついでこれを加熱して結晶質炭化け
い素薄膜とすることがよい。このプラズマ気相沈積法の
実施は１反応器内に基体を設置し、この反応器内にシラ
ン化合物をキャリヤーガスとしての水素またはアルゴン
ガスとの混合ガスとして導入してから器内雰囲気圧力を
１トール以下とし、ついでこれに高周波電力を印加して
系内にプラズマを発生させればよく、これシ：よればシ
ラン化合物がプラズマ火炎との接触で熱分解されてこ″
＞（＝非晶質の炭□ 化けい素が発生し、この炭化け
い素が均一な板状形状として基体上に所望の厚さのプラ
ズマ重合膜として被着される。しかしこの炭化けい素被
膜は非晶質体で硬度が低いので、これは結晶質のものと
することが必要とされるが、この非晶質炭化けい素は上
記したように均一形状の薄膜であることから熱処理する
ことによって容易に結晶質炭化けい素とすることができ
るので、本発明のミクロトーム用コーティング刃は上記
で得た非晶質炭化けい素薄膜を析出させた基体を７００
〜１，２５０℃の範囲に加熱することこよって容易＆：
得ることができる。
ような方法で作られたものであってもよいが、これｌ二
は基体上にシラン化合物を用いてこれをプラズマ処理し
、プラズマ気相沈積法によってシラン化合物を非晶質の
炭化けい素のプラズマ重合膜として、これを基体上に薄
層として析出させ、ついでこれを加熱して結晶質炭化け
い素薄膜とすることがよい。このプラズマ気相沈積法の
実施は１反応器内に基体を設置し、この反応器内にシラ
ン化合物をキャリヤーガスとしての水素またはアルゴン
ガスとの混合ガスとして導入してから器内雰囲気圧力を
１トール以下とし、ついでこれに高周波電力を印加して
系内にプラズマを発生させればよく、これシ：よればシ
ラン化合物がプラズマ火炎との接触で熱分解されてこ″
＞（＝非晶質の炭□ 化けい素が発生し、この炭化け
い素が均一な板状形状として基体上に所望の厚さのプラ
ズマ重合膜として被着される。しかしこの炭化けい素被
膜は非晶質体で硬度が低いので、これは結晶質のものと
することが必要とされるが、この非晶質炭化けい素は上
記したように均一形状の薄膜であることから熱処理する
ことによって容易に結晶質炭化けい素とすることができ
るので、本発明のミクロトーム用コーティング刃は上記
で得た非晶質炭化けい素薄膜を析出させた基体を７００
〜１，２５０℃の範囲に加熱することこよって容易＆：
得ることができる。
なお、こ＼に使用されるシラン化合物としてはモノンラ
ン（ＳｉＨ，Ｊ と炭化水素との混合物またはモノメ
チルシラン（ＯＨ３ＳｉＨ＠ ）、ジメチルシラン（ｒ
ｃＨ８）２ｓｉａ、）、トリメチルシラン〔（ＯＨ１Ｊ
３ｓｔＨ） 、テトラメチルシラン（（ＯＨ３）、Ｓｉ
）であってもよいが、これは一般式（ＯＨｓ）ａ８１ｂ
Ｈ０で示され、このａ、 ｂ、 ｏが１＜ｂ＜４．ａ＋
１≦２ｂ＋１．１＜ｃ≦２ｂ＋１、ａ＋ｏ＝２ｔ）＋２
を満足する数とされるメチルハイドロジエンポリシラン
とすることが好ましく、このメチルハイドロジエンポリ
シロンとしては下記のものが例示される。
ン（ＳｉＨ，Ｊ と炭化水素との混合物またはモノメ
チルシラン（ＯＨ３ＳｉＨ＠ ）、ジメチルシラン（ｒ
ｃＨ８）２ｓｉａ、）、トリメチルシラン〔（ＯＨ１Ｊ
３ｓｔＨ） 、テトラメチルシラン（（ＯＨ３）、Ｓｉ
）であってもよいが、これは一般式（ＯＨｓ）ａ８１ｂ
Ｈ０で示され、このａ、 ｂ、 ｏが１＜ｂ＜４．ａ＋
１≦２ｂ＋１．１＜ｃ≦２ｂ＋１、ａ＋ｏ＝２ｔ）＋２
を満足する数とされるメチルハイドロジエンポリシラン
とすることが好ましく、このメチルハイドロジエンポリ
シロンとしては下記のものが例示される。
０Ｈ３０Ｈ１ＯＨ，Ｏ）Ｉ。
ＨＨＨＨ
ＯＨ８ＯＨ，ＣＨ，ＣＨＯＨＯＨ
０Ｈ，ＨＯＨ３ＨＯＨ，Ｈ
なお、上記におけるプラズマは１〜３０ ＭＨｚの高周
波電磁場内で発生させればよく、この作動ガスとしては
単原子分子のガスとしてのアルゴンガスあるいは反応を
抑制しない水素ガスとすればよいが、酸性ガスの混入は
生成される炭化けい素の酸化が招かれるので避けること
が必要とされる。
波電磁場内で発生させればよく、この作動ガスとしては
単原子分子のガスとしてのアルゴンガスあるいは反応を
抑制しない水素ガスとすればよいが、酸性ガスの混入は
生成される炭化けい素の酸化が招かれるので避けること
が必要とされる。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例
（ミクロトーム用コーティング刃の製造］ミクロトーム
用コーティング刃の形状に加工した人工サファイアを純
水およびイソプロピルアルコールで洗浄し乾燥してから
、内部に放電電極対を有下る反応装置や中に、ガス状混
合物の流れ方向Ｃ二対して刃先の角度の°２等分線が平
行となるように設置した。
用コーティング刃の形状に加工した人工サファイアを純
水およびイソプロピルアルコールで洗浄し乾燥してから
、内部に放電電極対を有下る反応装置や中に、ガス状混
合物の流れ方向Ｃ二対して刃先の角度の°２等分線が平
行となるように設置した。
ついで、この反応器内の圧力を５×１０ トールまで排
気したのち、こ＼にガス状のテトラメチルジシラン（（
ＯＨ３）４Ｓｉ□Ｈ２〕とキャリヤーガスとしての水素
ガスを導入し、ガス流通下（：反応器内の圧力を０．１
トールシニ調整し、この雰囲気下で電極間に１３．５６
ＭＨｚの高周波電力（３０Ｗ）を印加してグロー放電
を発生させ、このプラズマによる気相沈積反応を行なわ
せたところ、人工サファイアの表面に厚さ約１００〜１
５０Ａの非晶質炭化けい素のプラズマ重合膜が形成され
た。
気したのち、こ＼にガス状のテトラメチルジシラン（（
ＯＨ３）４Ｓｉ□Ｈ２〕とキャリヤーガスとしての水素
ガスを導入し、ガス流通下（：反応器内の圧力を０．１
トールシニ調整し、この雰囲気下で電極間に１３．５６
ＭＨｚの高周波電力（３０Ｗ）を印加してグロー放電
を発生させ、このプラズマによる気相沈積反応を行なわ
せたところ、人工サファイアの表面に厚さ約１００〜１
５０Ａの非晶質炭化けい素のプラズマ重合膜が形成され
た。
つぎに、この人工サファイアを器内から取り出し、洗浄
後Ｃ二熱処理炉内で１，０００℃！＝おいて３０分間加
熱してから徐冷し、得られた人工サファイア刃について
光学顕微鏡およびＸ線回折装置を用いてキズの有無、蒸
着した炭化けい素の結晶構造をしらべたところ、この被
覆膜はキズのない結晶質の炭化けい素であることが確認
された。
後Ｃ二熱処理炉内で１，０００℃！＝おいて３０分間加
熱してから徐冷し、得られた人工サファイア刃について
光学顕微鏡およびＸ線回折装置を用いてキズの有無、蒸
着した炭化けい素の結晶構造をしらべたところ、この被
覆膜はキズのない結晶質の炭化けい素であることが確認
された。
（ミクロトーム用コーティング刃の切削試験］上記で得
た人エサファイアｆ二結晶質炭化けい素を被覆したミク
ロトーム用コーティング刃を用いて、エポキシ樹脂で硬
化した臓器サンプルから顕微鏡試料を切り出したところ
、厚さ５００Ａの切片を採り出すことができ、これは従
来からあるミクロトーム用のサファイア、ダイヤモンド
ヲ材質とする刃と同等の精度をもつものであることが確
認された。
た人エサファイアｆ二結晶質炭化けい素を被覆したミク
ロトーム用コーティング刃を用いて、エポキシ樹脂で硬
化した臓器サンプルから顕微鏡試料を切り出したところ
、厚さ５００Ａの切片を採り出すことができ、これは従
来からあるミクロトーム用のサファイア、ダイヤモンド
ヲ材質とする刃と同等の精度をもつものであることが確
認された。
なお、このものは従来品にくらべて耐久性、耐摩耗性、
切削性にすぐれていることが判明した。
切削性にすぐれていることが判明した。
′＠１図は本発明のミクロトーム用コーティング刃の縦
断面要因を示したものである。 １・・・基体、 ２・・・皮膜 特許出願人 信越化学工業株式会社 手続補正書 昭和６０年６月 ４日 １゜事件の表示 昭和６０年特許願第４９５４５号 ２゜発明の名称 ミクロトーム用コーティング刃およびその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 信越化学工業株式会社 ４、代理人 住所〒１０３東京都中央区日本橋本町４丁目９番地５゜
補正命令の日付 「自発」 １、明細書第８頁第１１行の「ポリシロン」を「ポリシ
ラン」と補正する。 ２、明細書第１１頁第１５〜１６行の「なお・・・・・
・判明した。」を下記のとおりに補正する。 「また、上記のサンプルを用いて厚さ５００人の切片の
切り出し回数を試験したところ、第１表に示す結果が得
られた。 第１表の結果から本発明における刃は、コーティングな
しのサファイアを材質とする刃に比較し、耐久性、耐摩
耗性、切削性にすぐれていることが判明した。 第 １ 表 以上
断面要因を示したものである。 １・・・基体、 ２・・・皮膜 特許出願人 信越化学工業株式会社 手続補正書 昭和６０年６月 ４日 １゜事件の表示 昭和６０年特許願第４９５４５号 ２゜発明の名称 ミクロトーム用コーティング刃およびその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 信越化学工業株式会社 ４、代理人 住所〒１０３東京都中央区日本橋本町４丁目９番地５゜
補正命令の日付 「自発」 １、明細書第８頁第１１行の「ポリシロン」を「ポリシ
ラン」と補正する。 ２、明細書第１１頁第１５〜１６行の「なお・・・・・
・判明した。」を下記のとおりに補正する。 「また、上記のサンプルを用いて厚さ５００人の切片の
切り出し回数を試験したところ、第１表に示す結果が得
られた。 第１表の結果から本発明における刃は、コーティングな
しのサファイアを材質とする刃に比較し、耐久性、耐摩
耗性、切削性にすぐれていることが判明した。 第 １ 表 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基体上に結晶質炭化けい素を被覆してなることを特
徴とするミクロトーム用コーティング刃。 ２、基体がガラス、金属、セラミックから選択されたも
のである特許請求の範囲第１項記載のミクロトーム用コ
ーティング刃。 ３、基体上にプラズマ気相沈積法でシラン化合物からの
非晶質炭化けい素膜を形成させ、ついで熱処理して非晶
質炭化けい素を結晶質炭化けい素とすることを特徴とす
るミクロトーム用コーティング刃の製造方法。 ４、シラン化合物がモノシランと炭化水素、モノメチル
シラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメ
チルシランまたは一般式 （ＣＨ＿３）＿ａＳｉ＿ｂＨ＿ｃ（こゝにａ、ｂ、ｃは
１＜ｂ＜４、ａ＋１≦２ｂ＋１、１＜ｃ≦２ｂ＋１、ａ
＋ｃ＝２ｂ＋２を満足する数）で示されるメチルハイド
ロジエンポリシランである特許請求の範囲第３項記載の
ミクロトーム用コーティング刃の製造方法。 ５、熱処理が７００〜１，２５０℃で行なわれる特許請
求の範囲第３項記載のミクロトーム用コーティング刃の
製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4954585A JPS61210179A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | ミクロト−ム用コ−ティング刃の製造方法 |
| CA000503213A CA1278274C (en) | 1985-03-13 | 1986-03-04 | Coated blade for microtome and method for the preparation thereof |
| EP19860103258 EP0194652A1 (en) | 1985-03-13 | 1986-03-11 | Coated blade for microtome and method for the preparation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4954585A JPS61210179A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | ミクロト−ム用コ−ティング刃の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210179A true JPS61210179A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12834161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4954585A Pending JPS61210179A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | ミクロト−ム用コ−ティング刃の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0194652A1 (ja) |
| JP (1) | JPS61210179A (ja) |
| CA (1) | CA1278274C (ja) |
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| JPS6392345A (ja) * | 1986-10-07 | 1988-04-22 | 信越化学工業株式会社 | 医療用切開、圧入器具およびその製造方法 |
| US5317938A (en) * | 1992-01-16 | 1994-06-07 | Duke University | Method for making microstructural surgical instruments |
| EP1092515A1 (en) | 1999-10-15 | 2001-04-18 | NEWMAN, Martin H. | Atomically sharp edged cutting blades and methods for making same |
| WO2013157473A1 (ja) * | 2012-04-18 | 2013-10-24 | 永田精機株式会社 | 刃物、その製造方法およびそれを製造するためのプラズマ装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6362867A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-19 | Seikosha Co Ltd | 有色物品 |
| DE19652821C1 (de) * | 1996-12-18 | 1998-04-23 | Gottfried Hipp | Medizinische Schere mit verschleißmindernder Beschichtung und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6821571B2 (en) * | 1999-06-18 | 2004-11-23 | Applied Materials Inc. | Plasma treatment to enhance adhesion and to minimize oxidation of carbon-containing layers |
| JP2005098702A (ja) * | 1999-10-07 | 2005-04-14 | Seitai Kagaku Kenkyusho:Kk | 生物組織試料作製方法および器具 |
| US6794311B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-09-21 | Applied Materials Inc. | Method and apparatus for treating low k dielectric layers to reduce diffusion |
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Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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