JPS61201794A - 部分めつき方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 上の利用分野 本発明は外観が良好で密着性に優れためっき皮膜を与え
る部分めっき方法に関する。

裟皇１ｕＵ（ 従来、被めっき物表面に部分めっきを施す場合は、被め
っき物の部分めっきを施すべき部分以外の部分を非導電
性膜でマスキングした後、被めっき物を所用のめつき液
を用いてめっきすることにより被めっき物の非マスキン
グ部分にめっき膜を形成し、最後にマスキング膜を除去
する方法が採用されている。

しようとする問題点 しかしながら、最近において装飾性を高める点から黒色
クロムめっきが注目されているが、本発明前の検討によ
ると黒色クロムめっきを利用した部分めっきは密着性に
問題があるものであった。

即ち、光沢ニッケルめっき躾、ニッケル鉄めっき膜、銅
めっき膜等の下地めっき膜に黒色クロムめっき膜を部分
的に形成する場合、シルクスクリーン印刷法等を採用し
、下地めつき膜上に黒色クロムめりき膜を形成すべき部
分を除いてマスキング膜を形成した後、黒色クロムめっ
きの部分めっきを行なうものであるが、この際上述した
下地めっき躾は不活性化し易いので、マスキング膜形成
工程において下地めっき膜の非マスキング部が不活性化
する。このため、このような不活性状態の下地めっき膜
上にそのまま黒色クロムめっき膜を形成すると密着性が
悪いので、不活性化した下地めつき膜の非マスキング部
を活性化しなければならない。しかし、この下地めっき
膜の非マスキング部表面には、マスキング膜の乾燥焼付
などによりかなりの程度に酸化皮膜が形成され、このた
めこれを除去して表面を活性化するにはかなりの手間を
要し、生産性に問題を生じさせる上、しばしば十分に活
性化されないまま黒色クロムめっきの部分めっきを施し
、形成された部分めっき躾の密着性に問題を生じさせた
り、そのめっき外観を不良にするなどの問題を生じさせ
ることがあった。

更に、このような黒色クロムめっきの部分めっき以外に
、金めつき、クロムめっき等の部分めっきも同様の問題
があった。

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、黒色クロムめ
っき、金めつき、クロムめっき躾等を密着性よく下地め
っき膜上に部分的に形成し得、外観の良好なめつき皮膜
を与える部分めっき法を提供することを目的とする。

ヰ　　　　　る　　　　　び　　用 本発明は上記目的を達成するため、被めっき物表面に下
地めっき膜を形成し、この下地めっき膜上に主体めつき
膜を形成した後、主体めつき膜上に部分めつき膜を形成
すべき部分を残してマスキング膜を形成し１９次いで前
記主体めつき膜を剥離し得る剥離液により主体めつき膜
の非マスキング部を剥離してこの部分の下地めつき躾を
１１呈させ、最後に前記マスキング膜を除去して、前記
下地めつきＩｌ！露呈部を部分めっき躾としたものであ
る。

本発明によれば、主体めっき膜にマスキング膜を形成し
た後、その非マスキング部を剥離液により剥離してその
部分の下地、めりき膜−を露呈させ、この露呈した下地
めっき膜を部分めっき膜とするようにしたため、密着性
、めっき外観不良等の問題のない部分めっき膜が得られ
るものである。即ち、本発明者は上述したように下地め
つき膜が光沢ニッケルめっき膜、ニッケル−鉄めりき膜
、銅めりき膜などの場合はこれら下地めっき躾にマスキ
ング膜を形成する工程でその表面が不活性化され易く、
この不活性表面に部分めっきが施される場合は部分めっ
き膜の密着性が劣り、まためっき外観に不良が生じやす
くなるので、これらの下地めりき膜上に黒色クロムめっ
き膜、金めつき膜、クロムめっき躾などを部分的に形成
するよりもむしろ、下地めりき膜形成後直ちにこれらの
めつき躾を主体めつき膜として下地めつき膜表面全面に
形成すれば密着性の問題、めっき外観不良の問題などが
生ぜず、良好なめつき膜が得られること、そしてこのよ
うにして形成した主体めっき躾の所用部分を剥離して下
地めつき躾を露呈させることにより部分めりき膜となす
こと、これにより不活性になり易い下地めっき膜を用い
た場合も密着性等に問題のない良好な部分めっきが簡単
に能率よく行なわれることを知見したものである。

以下、本発明につき更に詳しく説明す°る。

本発明法が適用される被めっき物の材質には特に制限は
なく、スチール、亜鉛等の金属のほか、ＡＢＳ樹脂等の
プラスチックが挙げられ、これらの被めっき物表面に所
用の前処理が施された後、下地めつき膜が形成される。

この場合、下地めっき躾は形成すべき部分めつき膜の要
求に応じて適宜選定され、例えば光沢ニッケルめっき膜
、光沢ニッケル−鉄めっき躾、光沢銅めっき躾などが挙
げられる。また、下地めっき膜はこれらめりき躾のみか
らなる単一層であってもよく、或いは光沢銅−光沢ニッ
ケル、半光沢ニッケル−光沢ニッケルなど、複数のめつ
き躾からなる多層構成であってもよく、いずれの場合も
本発明法は光沢ニッケル族、光沢ニッケル−鉄めりき躾
、光沢銅めつき膜を最上層とする下地めっき膜を有効に
採用することができる。なお、下地めっき膜の形成は電
気めっき法に限られず、無電解めっき法を採用すること
ができる。また、下地めっき膜を形成するめつき液とし
ては公知の組成のものを使用することができ、下地めっ
き膜の厚さも適宜選定し得る。

次に、本発明においては、上記下地めっき躾の全面に主
体めっき膜を形成する。ここで、主体めつぎ膜としては
必ずしも制限されないが、黒色クロムめっき躾、金めつ
き膜、クロムめっき膜が好適であり、本発明法はこれら
のめつき膜を主体めっき膜とする部分めっき法として有
効に採用される。なお、主体めっき膜は電気めっき法又
は無電解めっき法により形成されるが、その形成に用い
るめっき液としてはその種類に応じた公知組成のめっき
液を使用し得、また主体めつき膜の厚さはその目的に応
じ適宜選択される。

このようにして主体めつき躾を形成した後、本発明にお
いては主体めつき膜上に部分めっき膜を形成すべき部分
を残してマスキング膜を形成する。

この場合、マスキング膜としては、後述する剥離液に浸
されないものであればいずれのものでもよい。また、マ
スキング膜の形成方法も特に制限されないが、シルクス
クリーン印刷法が好適に採用される。

マスキング膜を形成した後は、前記主体めっき躾を剥離
し得る剥離液により主体めつき躾の非マスキング部を剥
離してこの部分の下地めっき膜を露呈させる。ここで、
剥離液としては浸漬剥離液でも電解剥離液でもよいが、
処理性の点から浸漬剥離液が好ましい。また、剥離液組
成はマスキング膜の種類、主体めっき膜の種類、下地め
っき膜の種類などに応じた公知のものが選択されるが、
下地めっき膜を侵すことがないものが好ましい。

例えば、黒色クロムめりき膜を主体めつき膜とする場合
は、剥離液として塩酸溶液が好適に用いられ、主体めつ
き膜が金めつき躾の場合は露化ソーダ５０〜１００９／
Ｊに過酸化水素酸を微量添加した溶液、クロムめつき膜
の場合は塩酸溶液が剥離液として好適に用いられ、被め
っき物をこれらの剥離液に浸漬することにより、上記主
体めつき膜の非マスキング部を溶解除去することができ
る。

ここで、本発明において、は、このようにして露呈され
た下地めっき膜部分を部分めっき躾とするものである。

そして、最後にマスキング膜を除去し、これによって被
めっき物上に主体めつき膜と部分めっき膜とからなるめ
っき皮膜を得るものである。なお、マスキング膜を除去
する方法に制限はないが、マスキング膜を溶解除去し得
、しかも主体めつき躾及び部分めっき膜を侵ずことのな
い剥離液、例えば水酸化ナトリウム溶液を用いてこの中
に被めっき物を浸漬するか、又はこの剥離液をスプレー
するなどの方法が採用され得る。

なお、本発明において、主体めつき膜と部分めっき膜と
は、主体めっき膜の面積が部分めつき膜の面積より大き
い場合に限られず、部分めっき膜の面積の方が大きい場
合もあり得る。

１１列１１ 本発明によれば、下地めっき膜上に主体めっき膜を形成
し、更にマスキング族を形成した後、主体めっき膜の非
マスキング部を剥離液により剥離してこの部分の下地め
りき膜を露呈させ、この下地めつぎ膜の露呈部を部分め
つき膜とするようにしたので、外観が良好で密着性に問
題がない部分めっき躾を得ることができ、特に不活性に
なり易い光沢ニッケルめっき膜等の下地めっき膜に対し
黒色クロムめっき躾、金めつぎ躾、クロムめっき膜など
を部分的に形成することができる。

以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。

［実施例］ ＡＢＳＩＩ４脂上に常法により無電解ニッケルめりき膜
を形成した後、その上に光沢硫酸銅めつき膜１０μ、光
沢ニッケルめっき膜８μを順次形成した。

次に、光沢ニッケルめっき膜上に０．０２μの黒色クロ
ムめっき躾を形成し、次いでこの黒色クロムめつき膜上
に部分めっきを形成すべき部分を残してマスキング族を
形成した。この場合、マスキング膜の形成はハイソール
ジャパン社製のＰ−Ｒ−３００３を使用し、シルクスク
リーン印刷法によって行なった。

その後、被処理物を塩酸８０％溶液中に浸漬し、マスキ
ング膜が形成されていない部分の黒色クロムめっき膜を
溶解除去し、下地の光沢ニッケルめっき膜を露呈させ、
最後に水酸化ナトリウム１０％溶液を用いてマスキング
膜を溶解除去し、前記光沢ニッケルめっき露呈部を部分
めつき躾とした。

このようにして得られた黒色クロムめっき膜（主体めつ
き膜°）は下地の光沢ニッケルめつき膜上に密着よく形
成されており、密着性テストの結果では剥離現象は全く
生じないものであった。

また、上記と同様にして黒色クロムめっき膜の代りに金
めつき躾、クロムめつき膜を主体めつき躾とした部分め
っきを行ない、外観、密着性に優れためっき膜を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被めっき物表面に下地めっき膜を形成し、この下地
   めっき膜上に主体めっき膜を形成した後、主体めっき膜
   上に部分めっき膜を形成すべき部分を残してマスキング
   膜を形成し、次いで前記主体めっき膜を剥離し得る剥離
   液により主体めっき膜の非マスキング部を剥離してこの
   部分の下地めっき膜を露呈させ、最後に前記マスキング
   膜を除去して、前記下地めっき膜露呈部を部分めっき膜
   としたことを特徴とする部分めっき方法。 ２、主体めっき膜が黒色クロムめっき膜、金めっき膜又
   はクロムめっき膜である特許請求の範囲第１項記載の部
   分めっき方法。 ３、下地めっき膜の最上層が光沢ニッケルめっき膜、光
   沢ニッケル−鉄合金めっき膜又は光沢銅めっき膜である
   特許請求の範囲第１項又は第２項記載の部分めっき方法
   。