JPS61198111A - 光導波路基板の製造方法 - Google Patents
光導波路基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS61198111A JPS61198111A JP3797585A JP3797585A JPS61198111A JP S61198111 A JPS61198111 A JP S61198111A JP 3797585 A JP3797585 A JP 3797585A JP 3797585 A JP3797585 A JP 3797585A JP S61198111 A JPS61198111 A JP S61198111A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- waveguide substrate
- optical
- low melting
- substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光通信システムに用いられる光導波路基板の製
造方法に係り、特に光導波路基板の光ファイバ接合面を
滑らかな向に仕上げる方法に関する。
造方法に係り、特に光導波路基板の光ファイバ接合面を
滑らかな向に仕上げる方法に関する。
光通信システムは情報化社会における最適の通信システ
ムとして広い分野に普及しつつある。しかしこれまでに
提供されていた光通信システムを構成する部品や装置は
、商い精度や信頼性を要求されるために量産化できない
ものが多く、光通信システムの低価格化を阻害する原因
になっている。
ムとして広い分野に普及しつつある。しかしこれまでに
提供されていた光通信システムを構成する部品や装置は
、商い精度や信頼性を要求されるために量産化できない
ものが多く、光通信システムの低価格化を阻害する原因
になっている。
そこで多葉生産による光通信システムの低価格化を実現
するために、商い精度や信頼性を維持しなから量産化で
きるように部品や装置の形態を改良すると共に、量産化
βＪ能な製造技術の開発が望まれている。
するために、商い精度や信頼性を維持しなから量産化で
きるように部品や装置の形態を改良すると共に、量産化
βＪ能な製造技術の開発が望まれている。
第２図は光導波路基板上の光導波路と光ファイバの接続
方法を示す斜視図、第３図は光ファイバ接合面を鏡面仕
上げする方法の従来例を示す工程図である。
方法を示す斜視図、第３図は光ファイバ接合面を鏡面仕
上げする方法の従来例を示す工程図である。
図において光導波路基板ｌばガラスからなる基板２と、
晶扱２表向に形成された光導波路３および４によって構
成されており、光導波路３および４と光ファイバ５との
接続は光ファイバ接合面６に光ファイバ５を接着するこ
とによって行われる。
晶扱２表向に形成された光導波路３および４によって構
成されており、光導波路３および４と光ファイバ５との
接続は光ファイバ接合面６に光ファイバ５を接着するこ
とによって行われる。
しかし光導波路３および４と光ファイバ５との接合部分
における光損失を小さくするために、光ファイバ接合面
６は鏡面状に仕上げて置く必要がある。
における光損失を小さくするために、光ファイバ接合面
６は鏡面状に仕上げて置く必要がある。
光導波路基板１は第３図に示す工程によって加工され仕
上げられる。即ち同一＆＆−ヒに形成された複数個の光
導波路基板ｌを、切断上程１０において切断して個々の
光導波路基板１を形成する。しかし第２図にボす如く光
ファイバ接合面６は基板の切断面にあり、この切断向を
鏡面状に仕上げるために研削１１、砂かけ１２、研摩１
３等の作業が行われる。
上げられる。即ち同一＆＆−ヒに形成された複数個の光
導波路基板ｌを、切断上程１０において切断して個々の
光導波路基板１を形成する。しかし第２図にボす如く光
ファイバ接合面６は基板の切断面にあり、この切断向を
鏡面状に仕上げるために研削１１、砂かけ１２、研摩１
３等の作業が行われる。
研削工程１１においてダイヤモンド砥石を用いて切断面
を荒く仕丘げる。研−１工程１１は粗研削、中間の研ｆ
！ｉｌｌ、および精密研削に大別され、粗研削には粒度
が１１００位の砥石が、中間の研削には粒度が＃２００
位の砥石が、精密研削には粒度が＃４００位の砥石が用
いられている。
を荒く仕丘げる。研−１工程１１は粗研削、中間の研ｆ
！ｉｌｌ、および精密研削に大別され、粗研削には粒度
が１１００位の砥石が、中間の研削には粒度が＃２００
位の砥石が、精密研削には粒度が＃４００位の砥石が用
いられている。
研削工程１１において仕上げられた光導波路基板１の而
は表向あらさが不十分で大きい凹凸が残りている。そこ
で研摩をけう前に砂かけ上程１２において微細な砂ずり
而が形成される。即ち鋳鉄皿と粒度が＃８００〜１５０
０位の微細な研摩砂を用いたラッピングが行われる。
は表向あらさが不十分で大きい凹凸が残りている。そこ
で研摩をけう前に砂かけ上程１２において微細な砂ずり
而が形成される。即ち鋳鉄皿と粒度が＃８００〜１５０
０位の微細な研摩砂を用いたラッピングが行われる。
しかし微細な砂ずり而も表向に微細な凹凸があって不遇
明である。これをｖｒ摩工捏１３でピッチやフェルトを
張った皿と、べんがら（酸化鉄）や酸化セリウム等の微
細研摩剤を用いて透明に艶出しを行い鏡面状に仕上げる
。
明である。これをｖｒ摩工捏１３でピッチやフェルトを
張った皿と、べんがら（酸化鉄）や酸化セリウム等の微
細研摩剤を用いて透明に艶出しを行い鏡面状に仕上げる
。
光ファイバ接合向を鏡面状に仕上げるために従来の方法
では、３１１？Ｉの研削と、砂かけと、Ｖｒ摩を必要と
し、光導波路基板の量産性を著しく阻害するという問題
があった。
では、３１１？Ｉの研削と、砂かけと、Ｖｒ摩を必要と
し、光導波路基板の量産性を著しく阻害するという問題
があった。
上記問題点は荒仕上げされた光導波路基板の光ファイバ
接合面に、透明で屈折率が光導波路と略等しく、月、つ
融点が光導波路基板より低い材料からなる低融点層を形
成し、低融点層を加熱熔融せしめることによって、光フ
ァイバ接合面を漬らかな向に仕上げる本発明になる光導
波路基板の製造方法によって解決される。
接合面に、透明で屈折率が光導波路と略等しく、月、つ
融点が光導波路基板より低い材料からなる低融点層を形
成し、低融点層を加熱熔融せしめることによって、光フ
ァイバ接合面を漬らかな向に仕上げる本発明になる光導
波路基板の製造方法によって解決される。
光ファイバ接合前に形成した低融点層を加熱溶融せしめ
ることによって、光ファイバ接合前に残っている凹凸が
埋められ、しかも冷却固化後の表面が鏡面状になるため
、砂かけや研摩等の作業が不要になり量産化が促進され
る。
ることによって、光ファイバ接合前に残っている凹凸が
埋められ、しかも冷却固化後の表面が鏡面状になるため
、砂かけや研摩等の作業が不要になり量産化が促進され
る。
以下添付図により本発明の実施例について説明する。第
１図は本発明になる製造方法の一実施例をボず工程図で
ある。
１図は本発明になる製造方法の一実施例をボず工程図で
ある。
図において同−基板−ヒに形成された複数個の光導波路
基板１を、切断工程１０において切断して個々の光導波
路基板１を形成し、次の低融点層形成］二程１４におい
てスパッタリング、蒸者法、気相成長法等の性腺手段を
用いて、光ファイバ接合面に透明で屈折率が光導波路と
略等しく、且つ融点が光導波路基板より低い材料からな
る低融点層を形成する。例えば基板としてガラス（融点
が１５℃）を用いた光導波路基板では、鉛硼酸塩（融点
が３５０〜４００℃）を用いて低融点層を形成する。
基板１を、切断工程１０において切断して個々の光導波
路基板１を形成し、次の低融点層形成］二程１４におい
てスパッタリング、蒸者法、気相成長法等の性腺手段を
用いて、光ファイバ接合面に透明で屈折率が光導波路と
略等しく、且つ融点が光導波路基板より低い材料からな
る低融点層を形成する。例えば基板としてガラス（融点
が１５℃）を用いた光導波路基板では、鉛硼酸塩（融点
が３５０〜４００℃）を用いて低融点層を形成する。
しかる後、加熱熔融コー程１５において光導波路基板の
融点より低い温度で低融点層を加熱し熔融せしめる。
融点より低い温度で低融点層を加熱し熔融せしめる。
光フアイバ接合面に形成した低融点層を加熱溶融せしめ
ることによって、光ファイバ接合面に残っている凹凸が
埋められ、しかも冷却固化後の表向が鏡面状になるため
、砂かけや研摩等の作業が不要になり量産化が促進され
る。
ることによって、光ファイバ接合面に残っている凹凸が
埋められ、しかも冷却固化後の表向が鏡面状になるため
、砂かけや研摩等の作業が不要になり量産化が促進され
る。
（発明の効果〕
上述の如く本発明によれば量産化を促進し低価格化に寄
与する光導波路基板の製造方法を提供することができる
。
与する光導波路基板の製造方法を提供することができる
。
第１図は本発明になる光導波路基板の製造方法の一実施
例を示す工程図、 第２図は光導波路基板上の光導波路と光ファイバの接続
方法を示す斜視図、 第３図は光ファイバ接合前を鏡面仕上げする万法の従来
例を不ず工程図、 である。図において ｌは光導波路基板、 ２は基板、 ３．４は光導波路、 ５は光ファイバ、６は光ファイ
バ接合面、１０は切断工程、１１は研削工程、
１２は砂かけ工程、１３は研摩工程、 １４は低
融点層形成工程、１５は加熱溶融工程、 をそれぞれ表す。 臀ｌ酊 峯２酊 早３ＩＸＪ
例を示す工程図、 第２図は光導波路基板上の光導波路と光ファイバの接続
方法を示す斜視図、 第３図は光ファイバ接合前を鏡面仕上げする万法の従来
例を不ず工程図、 である。図において ｌは光導波路基板、 ２は基板、 ３．４は光導波路、 ５は光ファイバ、６は光ファイ
バ接合面、１０は切断工程、１１は研削工程、
１２は砂かけ工程、１３は研摩工程、 １４は低
融点層形成工程、１５は加熱溶融工程、 をそれぞれ表す。 臀ｌ酊 峯２酊 早３ＩＸＪ
Claims (1)
- 少なくとも基板と該基板上に形成される光導波路とで構
成される光導波路基板の製造において、荒仕上げされた
光導波路基板の光ファイバ接合面に、透明で屈折率が該
光導波路と略等しく、且つ融点が該光導波路基板より低
い材料からなる低融点層を形成し、該低融点層を加熱溶
融せしめることによって、該光ファイバ接合面を滑らか
な面に仕上げることを特徴とする光導波路基板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3797585A JP2513599B2 (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 光導波路基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3797585A JP2513599B2 (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 光導波路基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61198111A true JPS61198111A (ja) | 1986-09-02 |
| JP2513599B2 JP2513599B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=12512567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3797585A Expired - Lifetime JP2513599B2 (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 光導波路基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2513599B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6365405A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-24 | Fujitsu Ltd | 光導波路 |
| JPH01140104A (ja) * | 1987-08-19 | 1989-06-01 | Plessey Overseas Plc | フアイバ・アレイの整合法 |
| US4973125A (en) * | 1989-08-25 | 1990-11-27 | National Research Council Of Canada | All optical self limiter for fiber optics |
| JPWO2021106931A1 (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 |
-
1985
- 1985-02-27 JP JP3797585A patent/JP2513599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6365405A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-24 | Fujitsu Ltd | 光導波路 |
| JPH01140104A (ja) * | 1987-08-19 | 1989-06-01 | Plessey Overseas Plc | フアイバ・アレイの整合法 |
| US4973125A (en) * | 1989-08-25 | 1990-11-27 | National Research Council Of Canada | All optical self limiter for fiber optics |
| JPWO2021106931A1 (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2513599B2 (ja) | 1996-07-03 |
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