JPS6119781A - 窒化硼素の無電解めつき前処理方法 - Google Patents
窒化硼素の無電解めつき前処理方法Info
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- JPS6119781A JPS6119781A JP13799784A JP13799784A JPS6119781A JP S6119781 A JPS6119781 A JP S6119781A JP 13799784 A JP13799784 A JP 13799784A JP 13799784 A JP13799784 A JP 13799784A JP S6119781 A JPS6119781 A JP S6119781A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高周波用プリント基板等に好適な窒化硼素の成
形体の無電解めっき前処理方法に関する。
形体の無電解めっき前処理方法に関する。
窒化硼素は、非電導性であるにもかかわらず、熱伝導性
が金属と同程度に良いという特異な性質を持っている。
が金属と同程度に良いという特異な性質を持っている。
この性質を利用して、電流を通した際に発生する熱を逃
がし、しかも非電導性である部品（前記した高周波用プ
リント基板等）を製造することができる。
がし、しかも非電導性である部品（前記した高周波用プ
リント基板等）を製造することができる。
窒化硼素の成形体（成形したままのもの、もしくは切断
したもの）は前記した様に非電導性であるので、直接電
気めっきにより金属被覆を形成することはできない。ま
た、該成形体は親水性を示さない為に直接感受性処理お
よび活性化処理および無電解めっきができない。
したもの）は前記した様に非電導性であるので、直接電
気めっきにより金属被覆を形成することはできない。ま
た、該成形体は親水性を示さない為に直接感受性処理お
よび活性化処理および無電解めっきができない。
そこで従来該成形体表面に親水性を与える方法としては
、該成形体を硫酸、塩酸、フッ酸等の溶液に浸漬して該
成形体表面を分解する方法が使われるが、この方法では
完全に親水性にするのにかなりの時間を要し、また一旦
親水性になったところも、次第にそれが失なわれる欠点
があった。
、該成形体を硫酸、塩酸、フッ酸等の溶液に浸漬して該
成形体表面を分解する方法が使われるが、この方法では
完全に親水性にするのにかなりの時間を要し、また一旦
親水性になったところも、次第にそれが失なわれる欠点
があった。
窒化硼素成形体をｍ塩素系有機溶剤ト
リクロールエタンによって超音波洗滌（脱脂等の目的）
シ、大気乾燥、２００℃長時間乾燥により該成形体表面
に吸湿された水分を完全に除去゛した後感受性化処理、
活性化処理および無電解めっきする方法も提案されてい
る（特開昭５７−１１８８２号公報）。しかしこの方法
では窒化硼素成形体表面の親水性を改善できず、従って
めっき被膜の密着性も良くない。
シ、大気乾燥、２００℃長時間乾燥により該成形体表面
に吸湿された水分を完全に除去゛した後感受性化処理、
活性化処理および無電解めっきする方法も提案されてい
る（特開昭５７−１１８８２号公報）。しかしこの方法
では窒化硼素成形体表面の親水性を改善できず、従って
めっき被膜の密着性も良くない。
本発明の目的は簡便な前処理によって窒化硼素表面にす
ぐには失なわれにくい親水性を短時間に与えることによ
って密着性の良い無電解めっき被膜を得ることのできる
方法を提供することにある。
ぐには失なわれにくい親水性を短時間に与えることによ
って密着性の良い無電解めっき被膜を得ることのできる
方法を提供することにある。
発明者は次の点に着目して本発明に到達した。
すなわち、窒化硼素には立方晶型と六方晶型との型があ
るが、六方晶窒化硼素は粒子同志が層状に弱く結合した
状態であり、黒鉛と同様に非常に柔かい。したがって、
成形体表面および成−形体を切断した面には特に弱く結
合した粒子があり、これがめつき被膜の窒化硼素成形体
表面への密着性を害すること、およびこの特に弱く結合
した粒子を超音波照射により取り除いた後の該成形体の
表面には小さな凹凸が形成され、いわゆる被めっき面の
粗面化がなされる為に該成形体の表面の親水性が改善さ
れ、めっき被膜の密着性も改善できる点に着目して本発
明に到達した。
るが、六方晶窒化硼素は粒子同志が層状に弱く結合した
状態であり、黒鉛と同様に非常に柔かい。したがって、
成形体表面および成−形体を切断した面には特に弱く結
合した粒子があり、これがめつき被膜の窒化硼素成形体
表面への密着性を害すること、およびこの特に弱く結合
した粒子を超音波照射により取り除いた後の該成形体の
表面には小さな凹凸が形成され、いわゆる被めっき面の
粗面化がなされる為に該成形体の表面の親水性が改善さ
れ、めっき被膜の密着性も改善できる点に着目して本発
明に到達した。
本発明の方法は窒化硼素の成形体もしくは該成形体を切
断したものを水、硫酸、塩酸、フッ酸等の鉱酸水溶液、
アンモニア水等のアルカリ水溶液またはエタノール等の
水溶性の有機溶媒中で超音波照射した後直ちに感受性化
処理、活性化処理、無電解めっきにより金属被膜を形成
する方法であも使用する酸、アルカリ濃度は、超音波照
射時間が比較的短いので、濃くても良い。
断したものを水、硫酸、塩酸、フッ酸等の鉱酸水溶液、
アンモニア水等のアルカリ水溶液またはエタノール等の
水溶性の有機溶媒中で超音波照射した後直ちに感受性化
処理、活性化処理、無電解めっきにより金属被膜を形成
する方法であも使用する酸、アルカリ濃度は、超音波照
射時間が比較的短いので、濃くても良い。
超音波照射後に窒化硼素成形体表面に残存する鉱酸、ア
ルカリ、水溶性有機溶媒が次の感受性化処理等に悪い影
響を与える場合は水洗工程が必賛である。
ルカリ、水溶性有機溶媒が次の感受性化処理等に悪い影
響を与える場合は水洗工程が必賛である。
本発明の方法での超音波照射は通常の超音波洗浄の条件
でよい。たとえば周波数２０〜５００ Ｋｃ／ｓ。
でよい。たとえば周波数２０〜５００ Ｋｃ／ｓ。
パワ−３Ｗ肩以上、１０秒〜加分、１５°〜９０℃程度
である。
である。
超音波照射し、液を分離した後に軽い乾燥をしてから通
常の感受性化処理に移っても良いが、乾燥し過ぎると該
窒化硼素成形体表面の親水性が悪くなるので強い乾燥工
程を入れない方が好ましい。また超音波照射後すぐに感
受性化処理に移っても良いが超音波照射時の液中には超
音波照射により窒化硼素の成形体表面より取り除かれた
粒子が懸濁しており、これが残った状態で無電解めっき
するとめつき被膜が悪化するので水洗もしくは超音波照
射時に使用したものと同質の液で洗浄するのが好ましい
。
常の感受性化処理に移っても良いが、乾燥し過ぎると該
窒化硼素成形体表面の親水性が悪くなるので強い乾燥工
程を入れない方が好ましい。また超音波照射後すぐに感
受性化処理に移っても良いが超音波照射時の液中には超
音波照射により窒化硼素の成形体表面より取り除かれた
粒子が懸濁しており、これが残った状態で無電解めっき
するとめつき被膜が悪化するので水洗もしくは超音波照
射時に使用したものと同質の液で洗浄するのが好ましい
。
無電解めっきしためつき被膜の密着性（剥離強度）の測
定法（一般的にはビーリング試験と言われる）は以下の
方法により行なった。すなわち、第１図の様にその一面
２に無電解めっきした窒化硼素成形体ｌのめつき被膜に
粘着性の強い接着テープ３を貼り例け、この接着テープ
を貼着しためつき被膜１ｃ１ｃｒｎ間隔の切れ目４を二
本人しル。この成形体を台秤りに乗せテープ等で固定し
、二本の切れ目４．４の間のめつき被膜６をその端部か
ら上方に引き上げてめっき被膜がこの成形体から剥離す
る時の台秤りの示す目盛りから剥離強度を測定し７、密
着性を評価した。
定法（一般的にはビーリング試験と言われる）は以下の
方法により行なった。すなわち、第１図の様にその一面
２に無電解めっきした窒化硼素成形体ｌのめつき被膜に
粘着性の強い接着テープ３を貼り例け、この接着テープ
を貼着しためつき被膜１ｃ１ｃｒｎ間隔の切れ目４を二
本人しル。この成形体を台秤りに乗せテープ等で固定し
、二本の切れ目４．４の間のめつき被膜６をその端部か
ら上方に引き上げてめっき被膜がこの成形体から剥離す
る時の台秤りの示す目盛りから剥離強度を測定し７、密
着性を評価した。
実施例
窒化硼素ノ円盤伏成形体（ＳＬ、Ｏ％φｘ １０． Ｏ
ｍｍｔ）を水２００ｄ中（２５℃）に浸漬し、超音波（
周波数２９ ＫＯ／８ 、４５ Ｗ ）で５分間照射し
、この円盤状成形体を取り出し、附着液を掛水洗滌して
除去した。次にセンシタイジング処理（Ｓｎ Ｏｌ、
ｅ ２Ｈ２０１１、６ｆ／ｌ 、 ３６チＨａｔ ４ｏ
Ｗ＋／ｌを含有する液を使用した）を３０℃で２分間
行なった後附着液を掛水洗滌した。次いでアクテベーテ
ィング処理（Ｐｄ Ｏ６２０，２ｒ／ｚ 、 ３６ ％
ａｚ２０ｍｌ／Ｌを、含有する液を使用した）をＩ℃
で２分間行なった後附着液を掛水洗滌した。最後に、無
電解Ｎｉめっき液（上材工業ＫＫ製二ムテン７８ｓ）で
９０℃、３０分間無電解めっきをして約１０μｍ厚みの
めっき被膜を得た。
ｍｍｔ）を水２００ｄ中（２５℃）に浸漬し、超音波（
周波数２９ ＫＯ／８ 、４５ Ｗ ）で５分間照射し
、この円盤状成形体を取り出し、附着液を掛水洗滌して
除去した。次にセンシタイジング処理（Ｓｎ Ｏｌ、
ｅ ２Ｈ２０１１、６ｆ／ｌ 、 ３６チＨａｔ ４ｏ
Ｗ＋／ｌを含有する液を使用した）を３０℃で２分間
行なった後附着液を掛水洗滌した。次いでアクテベーテ
ィング処理（Ｐｄ Ｏ６２０，２ｒ／ｚ 、 ３６ ％
ａｚ２０ｍｌ／Ｌを、含有する液を使用した）をＩ℃
で２分間行なった後附着液を掛水洗滌した。最後に、無
電解Ｎｉめっき液（上材工業ＫＫ製二ムテン７８ｓ）で
９０℃、３０分間無電解めっきをして約１０μｍ厚みの
めっき被膜を得た。
この得られためつき被膜の密着性（剥離強度）を前記し
た方法により測定したところ５８０９７ｃｍであった。
た方法により測定したところ５８０９７ｃｍであった。
比較例
実施例で使用した窒化硼素の成形体を特開昭５７−１１
８８２号公報記載の方法により無電解めっきした。すな
わちトリクロールエタン中で超音波照射を３分間行ない
、次いで大気中で５分間自然乾燥したのち２００℃でＵ
時間乾燥した。最後に実施例で使用した無電解ニッケル
めっき液で無電解めっきした。得られためつき被膜の密
着性（剥離強度）は４７０に−であった。
８８２号公報記載の方法により無電解めっきした。すな
わちトリクロールエタン中で超音波照射を３分間行ない
、次いで大気中で５分間自然乾燥したのち２００℃でＵ
時間乾燥した。最後に実施例で使用した無電解ニッケル
めっき液で無電解めっきした。得られためつき被膜の密
着性（剥離強度）は４７０に−であった。
以上説明した通り、本発明により親水性を示さない窒化
硼素成形体表面に密着性の良いめっき被膜を得ることが
出来、その実用性は大なるものであった。
硼素成形体表面に密着性の良いめっき被膜を得ることが
出来、その実用性は大なるものであった。
第１図は本発明を実施した窒化硼素成形体のめっき被膜
の密着性（剥離強度）測定用テストピースの構成例図、
第２図は測定装置、および測定方法の構成例図である。 ｌ・・・窒化硼素成形体、２・・・めっき被膜、３・・
・接着テープ、５・・・台秤、６・・・二本の切れ目の
間のめつき被膜。
の密着性（剥離強度）測定用テストピースの構成例図、
第２図は測定装置、および測定方法の構成例図である。 ｌ・・・窒化硼素成形体、２・・・めっき被膜、３・・
・接着テープ、５・・・台秤、６・・・二本の切れ目の
間のめつき被膜。
Claims (1)
- 窒化硼素の成形体に感受性化処理および活性化処理した
後に無電解めつきにより金属被膜を形成する方法におい
て、該成形体を予め水、鉱酸水溶液、アルカリ水溶液ま
たは水溶性の有機溶媒中で超音波照射した後、直ちに感
受性化処理することを特徴とする窒化硼素の無電解めつ
き前処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13799784A JPS6119781A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 窒化硼素の無電解めつき前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13799784A JPS6119781A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 窒化硼素の無電解めつき前処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6119781A true JPS6119781A (ja) | 1986-01-28 |
Family
ID=15211648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13799784A Pending JPS6119781A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 窒化硼素の無電解めつき前処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6119781A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010527903A (ja) * | 2007-05-28 | 2010-08-19 | セラム ハイド | プロトン交換膜及びこの膜を含む電池 |
| JP2011517331A (ja) * | 2008-03-06 | 2011-06-02 | セラム ハイド | 電気化学デバイス用材料 |
-
1984
- 1984-07-05 JP JP13799784A patent/JPS6119781A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010527903A (ja) * | 2007-05-28 | 2010-08-19 | セラム ハイド | プロトン交換膜及びこの膜を含む電池 |
| JP2010529938A (ja) * | 2007-05-28 | 2010-09-02 | セラム ハイド | 窒化ホウ素の活性化方法 |
| JP2011517331A (ja) * | 2008-03-06 | 2011-06-02 | セラム ハイド | 電気化学デバイス用材料 |
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