JPH01129981A - エナメルを付着強固にメタライジングする方法及びメタライジングされたエナメル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はエナメルを付着強固にメタライジングする方法
に関する。

従来の技術 付着強固な金、鵡層をエナメルに施すことは既に公知で
ある。これは肉厚ペーストを焼付けることにより行なう
（西ドイツ国特許公開第６５３５９７２号明細書）。こ
の場合、メタライソングの焼付けのための高い温度並び
に好適な金属ペーストの製造に経費がかかることが欠点
である。

プリント配線構造のいくつかの平面を金属的に結合する
には、前記のペーストは殆んど好適ではない。一般に、
ペーストは低い導電性を呈し、層厚（導体高さ）は最高
１０μｍに制限されている。

発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、工業的に簡単な、エナメルの付着強固
なメタライソングを可能にする方法を開示することであ
る。

課題を解決するための手段 この課題は特許請求の範囲に記載の方法により解決され
る。

本発明方法により、エナメル製の任意の形状の工材、即
ち凡打及び管材を付着強固にメタライジングすることが
でき、このことは工業的に極めて重要である。更に、引
続いて行なう電気メツキにより任意の金属又は金属層を
その都度所望の品質及び厚さで施すことができるので、
エナメル表面上に任意の金属構造を形成することが初め
て可能である。

エナメルとしては、化学的にはポリ珪酸の塩でありかつ
４２５℃を１廻る温度で焼付けることにより鋼又は銅の
ような金属と接合している特殊ガラスを使用することが
できる。この塩の閉鎖構造は一部アルカリー及び／又は
アルカリ土類酸化物により開放されている。アルミニウ
ム、鉛、硼素、コバルト、ニッケル、チタン、亜鉛及び
／又はジルコニウムのような多゛価元素の酸化物も同様
にあるいは硫化物、弗化物及び／又は砒化物のような無
機添加物も珪酸網状構造中に導入す。ることかできる。

エナメルはガラス状構造又は部分結晶構造で存在してよ
い。

エナメル表面の粗面化は機械的に及び／又は化学的に行
なう。機械化学的粗面化は、初めにエナメル表面をサン
ドブラスト掛けにより拡大し、かつその後エツチング溶
液、例えば弗化水素アンモニウム溶液を用い・て機械的
応力又は微小亀裂に沿って狭幅溝をエナメル中にエツチ
ングして実施することができ有利である。一般に、必要
な微小粗面性はエツチング工程だけで達成され、このた
めには特に弗化水素アンモニウム溶液が好適であり、場
合によってはこれに引続いて酸混合物中での処理を行な
ってもよい。

粗面化に引続いて超音波処理を行ない、これはルーズな
材料をエナメル表面から除去するのに有用である。次に
析出させる金属のエナメル表面に対する十分な付着強さ
にはこの工程が無条件に必要である。超音波エネルギー
は既にエツチング工程の間にあるいはその後で、例えば
洗浄工程で、超音波発振器を包含する浴中に浸漬するこ
とにより工材に与える。たいていの場合に例えば５分間
という短い滞留時間で十分である。超音波処理は室温で
あるいは若干高めた温度で実施する。

粗面化したエナメルを後で活性化するために湿潤剤で状
態調整する。このためには約１％溶液のアニオン性・カ
チオン性並びに非イオン性の湿潤剤が好適である。溶液
の両値は絶対的なものではない。良好な結果は、２％の
硫酸である状態調整溶液で達成することができる。状態
調整時間には５分間が最適である。状態調整は室温又は
若干高めた温度で行なう。

この状態調整に引続いて表面の活性化をパラジウム核に
よ９行なう。このために、殊に…値が１０．５であるパ
ラジウム錯体の水溶液を使用し、これによりエナメル表
面は活性剤の作用を受けない。活性化は若干高められた
温度（約４０°Ｃ）で行ない、優れた処理時間はこの場
合にも約５分間である。パラジウムイオンの金属核への
還元後にエナメル表面を外部電流のない還元浴中で化学
的にメタライジングすることができる。

本発明に、ｃ９メタライジングしたエナメル部材は電気
工学及び電子工学で使用される。

実施例 例　　１ ガラス状のコバルト含有エナメルで被覆した付 鋼心材を粒径５０μｍの鋼玉粒子を吹けて、エナメル表
面を均一に艶消しした。引続いて、このように処理し几
工材を室温で５分間弗化水素アンモニウムからの５易−
溶液中で超音波処理下にエツチングし、超音波下にすす
いで付着している弗化物を除去しかつ１５０℃で乾燥さ
せた。その後、部材を酸のコンディショナー中、４０°
Ｃで５分間処理して、活性化の用意をして、中間洗浄後
に活性剤溶液中に５分間浸漬することにより活性化し、
洗浄し、表面上のＰｄ”＋を好適な還元剤を用いて５分
間で金属に還元し、次いで化学的に還元して銅ＰＩ３μ
ｍで被覆した。

この金属層はエナメルに対して付着強さ０．７５Ｎ　／
　ｍｒｔｉ　（剥離試験）を有していた。

例　　２ アルカリ分の少ないエナメルで塗装した銅孔板をアルカ
リ性界面活性剤で脱脂しかつ室温で５分間超音波下に２
％−弗化水素アンモニウム溶液中に浸漬し、引続いて超
音波の作用下に洗浄した。例１に記載したように、表面
を状態調整し、活性化しかつメタライジングした。エナ
メルと銅メツキとの間の付着強さは剥離試験で１．２Ｎ
／朋であった。

例　　３ 鋼孔版を再結晶ガラスセラミックで電気泳動塗装した。

この板材を初めに１％−弗化水素アンモニウム溶液で４
０°Ｃで１０分間粗面化し、その後、１０％−カセイソ
ーダ中で超音波下に後処理した。エナメルを前記のよう
に状態調整し、活性化しかつメタライジングした。この
メタライジング後に、銅／エナメルー付着強さ０．６　
Ｎ　／朋が測定された。

例　　４ 例６と同様にして絶縁した金属板を初めに５分間フルオ
ル硼酸とメタンスルホン酸（２０％）からの混合物を用
いて室温で超音波下に処理しかつ洗浄した。状態調整、
活性化及びメタライジング後に付着強さ１．４　Ｎ　／
朋が測定された。

例　　５ 鋼孔板をアルカリ分の少ない再結晶エナメルで塗装し、
引続いて洗浄剤のアルカリ性溶液中に浸漬することによ
り脱脂し、かつ超音波作用下に２％−弗化水素アンモニ
ウム溶液中で可溶性にした。表面を洗浄し、状態調整し
かつ活性化した後で化学的に還元してその表面上に３μ
ｍ厚さの銅層を析出させた。この銅表面上にフォトレゾ
ストを積層させかつ原稿を通して露光した。レジストの
現像後に、露出した金属表面を電気メツキにより銅で補
強しかつニッケルと金とからの最終層を電気メツキによ
り施した。レジストを除去しかつベースメタライソング
を除去した後で、このようにして得られた導体板に常用
の配線構造素子を装着した。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. １．初めにエナメル表面を粗面化し、この粗面化と同時
   にあるいはそれに引続いて超音波処理を行ない、その後
   表面を湿潤剤で状態調整し、引続いて活性化し、かつそ
   の後化学的にメタライジングすることを特徴とする、エ
   ナメルの付着強固なメタライジング法。
2. ２．粗面化を機械的に及び／又は化学的に行なう請求項
   １記載の方法。
3. ３．化学的粗面化を酸，塩基又は塩の作用により行なう
   請求項２記載の方法。
4. ４．酸として鉱酸又は有機酸、塩基として水酸化アルカ
   リ又は水酸化アンモニウム及び塩としてリン酸塩又は弗
   化物を使用する、請求項３記載の方法。
5. ５．超音波処理を超音波発振器により行なう請求項１記
   載の方法。
6. ６．超音波処理を溶液中で行なう請求項５記載の方法。
7. ７．水溶液を使う請求項６記載の方法。
8. ８．アニオン性・カチオン性又は非イオン性の湿潤剤を
   使用する請求項１記載の方法。
9. ９．湿潤剤を硫酸溶液中で使用する請求項８記載の方法
   。
10. １０．活性化をパラジウム錯体を用いて行なう請求項１
    記載の方法。
11. １１．請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法
    により製造したメタライジングされたエナメル。