JPS61195791A - レ−ザ光線による彫刻方法 - Google Patents

レ−ザ光線による彫刻方法

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JPS61195791A
JPS61195791A JP60038255A JP3825585A JPS61195791A JP S61195791 A JPS61195791 A JP S61195791A JP 60038255 A JP60038255 A JP 60038255A JP 3825585 A JP3825585 A JP 3825585A JP S61195791 A JPS61195791 A JP S61195791A
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JP
Japan
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mask sheet
metallic layer
metal layer
laser beam
base film
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JP60038255A
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JPH0422680B2 (ja
Inventor
Jiro Manabe
真部 次郎
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TAKATOU SEIKAN KK
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TAKATOU SEIKAN KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザ光線が有する鋭い指向性とエネルギ密
度の高い性質を利用して、木材や合成樹脂板に文字若し
くは絵柄模様等の図形を精巧に彫刻する方法に関する。
(従来の技術) レーザ光線によるこの種の彫刻方法としては、銅または
真ちゅうのようなレーザ光線を遮る金属板に、加工形状
に対応するパターンの透孔を穿設して型板を作り、この
型板を木材等の被加工材の表面に重ね、上方からレーザ
光線を照射して透孔部分のみを焼き削ることにより、被
加工材に型板の透孔と同じパターンの形状を加工する方
法が従来知られている。(たとえば特公昭58−152
32号公報、特開昭56−71000号公報)。
(発明が解決しようとする問題点) しかし従来の型板による方法では、ループ状に閉じた透
孔は型板に穿設できず、透孔を穿つ場合には必ず型板全
体を一体的に保つための所謂ブリッジが必要なため、文
字や図形の外縁全周を被加工材の表面に彫り下げて完全
な形状に形成することは不可能であった。たとえばAと
いう文字を彫刻する場合は、型板Qに第7図または第8
図のような形状でブリッジBを有する透孔Pを穿つほか
なく、正確な字体を加工できないという欠点があった。
本発明はこの欠点を改良し1文字や図形の外縁全周を彫
り下げてブリッジのない形状に彫刻することを目的とす
る。
(問題点を解決するための手段) そのため本発明では、先づ耐蝕性の基材フィルムに電解
金属の金属層を積層したマスクシートを用意し、その金
属層表面に加工形状に対応した所定パターンのレジスト
被膜を形成する。そしてエツチングによりレジスト被膜
以外の金属層を腐食除去してマスクシートにレーザ光線
を遮る。ための前記所定パターンの金属層を形成した後
、このマスクシートを木材等の被加工材の表面に重ね、
その上方よりレーザ光線を全面に照射して金属層で遮光
した部分以外を焼き削り、被加工材の表面に前記金属層
で形成されるパターンを浮彫にする。
(作用) しかしてエツチングしたマスクシートの金属層は、一枚
の耐蝕性の基材フィルムに一体的に積層しているから、
外縁全周がループ状に閉じたブリッジのない形状に形成
しても、ばらばらにならず基材フィルム上に一体的に保
持される。
′従ってこのマスクシートで被加工材を覆ってレーザ光
線を照射すると、金属層で遮られた部分を除く他の被加
工面が一定の深さだけ蒸発して焼き削られた状態となり
、外縁全周を彫り下げた金属層のパターンが被加工面に
残って浮彫になる。
(実施例) 次に本発明の一実施例を図面に示して説明する。
lはエツチングで腐食しないような耐蝕性の材質たとえ
ばポリエステル等から成る厚さ20ル乃至50給程度の
基材フィルムで、これに鉄、銅、真鋳のような電気分解
する金属で厚さがエツチング可能な100膳未満の金属
層2を一体的に積層してマスクシートMを形成する。(
第2図)そしてこのマスクシー)Mの金属層2の表面に
、加工形状に対応した所定パターン、たとえば方形の枠
とその中に囲まれたAという文字から成るパターンのレ
ジスト被膜3を、公知の手法たとえばフォトレジスト法
またはシルク印刷法により形成した後(第3図)、エツ
チング処理液に漬け、レジスト被膜3に覆われていない
部分の金属層2を腐食除去してマスクシートMに前記所
定パターンの金属層2を形成する(第4図)。
次にこのマスクシートMをアクリル樹脂のような合成樹
脂または木材等の被加工材4の表面に密着し、その上方
から炭酸ガスレーザのようなレーザ光線りをレンズ5で
収束し全面に照射する。この場合、被加工材4とレーザ
光線りを互いに交差するX軸及びY軸方向に相対的に移
動してレーザ光線を走査すれば、マスクシートMの全面
にわたって適確に照射できる。
レーザ光線りを照射すると、レーザ光線りは金属層2で
遮断されマスクシートMのレジスト被膜3のみを蒸発さ
せるが、基材フィルムlが露出した部分では基材フィル
ムlを通過して被加工材4の表面をある深さく1ミリ乃
至3ミリ)まで蒸発させて、凹部6を彫り込み(第6図
)、その結果、被加工材4の表面に金属層2のパターン
と同一のパターンすなわち方形の枠と文字Aが浮き出て
残る。(第1図)。
その後、金属層2は基材フィルムlと共に被加工材4の
表面から取り去ってもよいが、基材フィルムlの裏面に
あらかじめ接着剤を塗布しておきレーザ光線照射前に被
加工材4の表面に接着させておけば、所定パターンの浮
彫と同時に、浮き出たパターンの表面にそれと全く同じ
輪郭の光沢に富む金属層が一工程で被着でき、その結果
、彫り上げた文字図形等が光沢を欠く周囲の生地より際
立って目につき、その立体感と相俟って装飾価値を一暦
向上させることができる。なおこの場合。
基材フィルムlの裏面に接着剤を塗布するかわりに、基
材フィルムlと被加工材4の間に両面接着シートを介装
して金属層を接着させてもよいことはいうまでもない。
また金属層2を前述の実施例とはネガティブのパターン
にエツチングすれば、被加工材4の表面の凹凸が第1図
と正反対−になる、すなわちこの場合は金属層より露出
した方形の枠と文字Aが彫り削られて凹部となり、金属
層で覆った残余の部分が相対的に浮き上って凸部になる
(発明の効果) このように本発明ではマスクシートMの基材フィルム1
上に所定パターンの金属層2を積層するので外縁全周が
ループ状に閉じたブリッジのない形状に金属層2を形成
でき、このマスクシートMを用いて被加工材表面からレ
ーザ光線りを遮るので、金属層2と同一パターンのブリ
ッジのない正確な形状を被加工材表面に浮彫にでき、し
かも金属層2はマスクシートMにレジスト被膜を施して
エツチングにより形成するので同一パターンを安価に量
産できるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法により彫刻した被加工材の射視図、
第2乃至6図は本発明を実施した彫刻方法の工程図で、
それぞれ第1図の矢印に沿う断面で示す。第7.8図は
従来方法で使用する型板の平面図である。 1は基材フィルム、2は金属層、3はレジスト被膜、4
は被加工材、Mはマスクシート、Lはレーザ光線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 耐蝕性の基材フィルムに金属層を積層したマスクシート
    の前記金属層表面に所定パターンのレジスト被膜を形成
    し、エッチングにより前記レジスト被膜以外の金属層を
    除去してマスクシートに前記所定パターンの金属層を形
    成した後、当該マスクシートを被加工材の表面に重ね、
    その上方よりレーザ光線を照射して前記金属層で形成さ
    れるパターンを被加工材表面に浮彫にすることを特徴と
    するレーザ光線による彫刻方法。
JP60038255A 1985-02-27 1985-02-27 レ−ザ光線による彫刻方法 Granted JPS61195791A (ja)

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JPH0422680B2 JPH0422680B2 (ja) 1992-04-20

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